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[发明专利]叠层结构物-CN98114910.3有效
发明人：本田诚 -专利权人：株式会社环境评估中心
申请日： 1998-05-20 - 公布日： 2002-03-06 - 主分类号： B32B3/28 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种叠层结构物，该叠层结构物可使现场的作业内容变得容易、并提高作业效率。本发明的叠层结构物包括框架部件（50），该框架部件具有沿X轴方向保持连续的基本呈山形的山形部（51），并且沿与X轴方向正交的Y轴方向具有按照基本相同的截面延伸的形状，该叠层结构物是沿与X轴方向和Y轴方向正交的
结构

[发明专利]叠层片状物-CN200780027408.6无效
发明人：宫下和久;比留间隆;铃木麻衣子;山田刚干;田中一也;高木润 -专利权人：三菱树脂株式会社
申请日： 2007-07-17 - 公布日： 2009-07-22 - 主分类号： B32B27/32 文献下载
摘要：本发明提供一种高品质的叠层片状物，该叠层片状物尽量多地使用生物来源原料，可以减轻地球环境恶化、削减有限资源的使用量。本发明的叠层片状物具有至少1层第1层，并且具有选自第2层、第3层和第4层中的2种以上的层至少各1层。第1层：由树脂组合物A构成的层，所述树脂组合物A含有：含25％以上生物来源成分的聚酯类树脂(a)、和聚烯烃类树脂(b)；第2层：含有含25％以上生物来源成分的聚酯类树脂(a)作为主成分的层；第3层：含有聚烯烃类树脂(b)作为主成分的层；第4层：含有粘合性树脂(c)作为主成分的层。
片状

[发明专利]被覆切削工具-CN201711424763.9有效
发明人：田中茂挥 -专利权人：株式会社泰珂洛
申请日： 2017-12-25 - 公布日： 2020-03-03 - 主分类号： C23C28/04 文献下载
摘要：本发明提供一种被覆切削工具，其包含基材和被覆层，被覆层包含第一叠层结构和第二叠层结构，第一叠层结构和第二叠层结构分别为将组成不同的2种化合物层交替地叠层、叠层数为3以上的叠层结构，第一叠层结构和第二叠层结构各自的结构中的2种化合物层中的一个化合物层和另一个化合物层分别由特定的组成构成，第一叠层结构和第二叠层结构分别满足指定条件，构成第一叠层结构和第二叠层结构的各层的平均厚度以及被覆层的平均厚度分别为指定厚度。
被覆切削工具

[发明专利]层叠造型物的制造方法-CN202210492019.7在审
发明人：田中悠人;渡边谅;安井正贵 -专利权人：丰田自动车株式会社
申请日： 2022-05-07 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： B22F10/28 文献下载
摘要：本发明提供一种层叠造型物的制造方法，抑制在使造型到底板上的多个造型物从底板分离时的造型物彼此的接触。层叠造型物的制造方法包括：造型工序，通过层叠造型方法将第一层叠造型物、第二层叠造型物及连结第一层叠造型物与第二层叠造型物的第一支承部造型于底板上的相互不同的位置；及分离工序，使第一层叠造型物、第二层叠造型物在分离工序中，在使第一层叠造型物和第二层叠造型物中的至少一方从底板分离之后，通过断开第一支承部而使第一层叠造型物与第二层叠造型物相互分离。
层叠造型制造方法

[发明专利]半导体装置及其制造方法-CN201911316711.9在审
发明人：朴海赞;金场院;金在泽 -专利权人：爱思开海力士有限公司
申请日： 2019-12-19 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： H01L27/11556 文献下载
摘要：半导体装置包括：第一层叠物，其包括彼此交替层叠的第一层间绝缘层和第一导电图案；第二层叠物，其包括在第一层叠物上彼此交替层叠的第二层间绝缘层和第二导电图案；多个沟道插塞，其穿过第一层叠物和第二层叠物垂直地形成；以及至少一个虚设插塞，其穿过第二层叠物而没有穿过第一层叠物而垂直地形成。
半导体装置及其制造方法

[发明专利]含有多层光学薄膜的制品-CN200410068534.4有效
发明人： W·W·梅里尔;J·M·荣扎;O·小本森;A·J·乌德柯克;M·F·韦伯;J·T·凯勒;R·J·斯顿奥 -专利权人：美国3M公司
申请日： 1999-03-22 - 公布日： 2005-02-09 - 主分类号： G02B1/10 文献下载
摘要：公开了一种含有多层光学薄膜的制品，该光学薄膜包括具有许多层的光学叠层物，所述光学叠层物包括至少一层双折射聚合物和至少一层不同于所述双折射聚合物的聚合物，其中所述光学叠层物至少沿至少两层光学叠层物层之间的第一面内轴具有应变引起的折射率差，基本上整个光学叠层物至少反射约85％具有所需波长沿该第一面内轴偏振的光线，并且该光学叠层物的厚度变化至少约10％或更大。
含有多层光学薄膜制品

[发明专利]一种III族氮化物和硅异质集成衬底及其制造方法-CN201610283863.3有效
发明人：陈龙 -专利权人：上海芯晨科技有限公司
申请日： 2016-04-29 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种III族氮化物和硅异质集成衬底及其制造方法，所述III族氮化物和硅异质集成衬底包括：硅衬底；形成于所述硅衬底第一预设区域表面的III族氮化物叠层结构；形成于所述硅衬底第二预设区域表面的硅基叠层结构；所述硅基叠层结构自下而上依次包括第一绝缘层、硅层、第二绝缘层；所述硅基叠层结构与所述III族氮化物叠层结构之间通过隔离结构隔离；覆盖于所述硅基叠层结构及所述III族氮化物叠层结构表面的盖帽层。本发明的III族氮化物和硅异质集成衬底及其制造方法将硅基叠层结构与所述III族氮化物叠层结构集成于同一硅衬底上，所得新型异质集成衬底与CMOS兼容，可以为实现“超越摩尔定律”产品提供重要的技术创新平台。
一种 iii 氮化物硅异质集成衬底及其制造方法

[发明专利]被覆切削工具-CN201810211828.X有效
发明人：田中茂挥 -专利权人：株式会社泰珂洛
申请日： 2018-03-14 - 公布日： 2020-04-14 - 主分类号： B23B27/14 文献下载
摘要：一种被覆切削工具，其包含基材、和在基材的表面上形成的被覆层，被覆层包含第1层叠结构和第2层叠结构，第1层叠结构具有将组成不同的2种特定的化合物层交替地层叠而成的层叠结构，且第1层叠结构满足特定的条件，第2层叠结构具有由特定氧化物和/或氮氧化物构成的第1化合物层、和由特定组成构成的第2化合物层交替地层叠而成的层叠结构，构成第1层叠结构的各化合物层的厚度、构成第2层叠结构的各化合物层的厚度、以及被覆层整体的厚度在特定范围内
被覆切削工具

[实用新型]叠层撑箱装置-CN200820067553.9无效
发明人：李浩;牛雅宁;付强;李全华;何偲 -专利权人：武汉人天包装技术有限公司
申请日： 2008-06-03 - 公布日： 2009-04-22 - 主分类号： B65B43/26 文献下载
摘要：本实用新型涉及叠层撑箱装置，包括框架、叠层部分、撑箱部分，框架为叠层部分、撑箱部分提供安装基础，叠层部分、撑箱部分分别完成叠层和撑箱功能；包装物由输送设备通过左、右导向板进入叠层板，当第一层包装物达到，上叠层气缸拉回叠层板下降气缸并固定，待第二层包装物进入叠层板落在第一层包装物上，下叠层气缸拉回带动上叠层气缸及叠层板同时下降气缸达到进箱高度，实现叠层功能；纸箱到位后左、右折板气缸拉回使折板撑开，完成对纸箱两小页的打开本实用新型结构合理、性能可靠、操作简便，能准确、有效地进行产品装箱的叠层撑箱作业。
叠层撑箱装置

[发明专利]半导体装置以及该半导体装置的制造方法-CN202110182705.X在审
发明人：李哉衡 -专利权人：爱思开海力士有限公司
申请日： 2021-02-10 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：一种制造半导体装置的方法包括以下步骤：形成第一层叠物；形成穿过第一层叠物的牺牲结构和第一接触件；在第一层叠物上形成第二层叠物；穿过第二层叠物形成第一孔以暴露牺牲结构；通过去除牺牲结构来穿过第一层叠物形成第二孔；在第一孔和第二孔中形成沟道结构；以及形成穿过第二层叠物并且联接到第一接触件的第二接触件。
半导体装置以及制造方法

[发明专利]高发光效率的发光元件-CN200410085262.9有效
发明人：欧震;林鼎洋;赖世国 -专利权人：晶元光电股份有限公司
申请日： 2004-10-08 - 公布日： 2006-04-12 - 主分类号： H01L33/00 文献下载
摘要：一种高发光效率的发光元件，其中存在一基板；形成于该基板上的一第一氮化物半导体叠层；形成于该第一氮化物半导体叠层上的一氮化物发光层；形成于该氮化物发光层上的一第二氮化物半导体叠层，其中，该第二氮化物半导体叠层相对于该氮化物发光层的表面处，具有多个向下延伸的内六角锥形孔穴构造；形成于该第二氮化物半导体叠层上的一氧化物透明导电层，该氧化物透明导电层与该第二氮化物半导体叠层表面的内六角锥形孔穴的内侧表面形成低电阻欧姆接触，以降低发光元件的操作电压
发光效率元件

[发明专利]叠层用树脂组合物及其用途-CN201410009612.7有效
发明人：中村润一;三吉祐辉;增田豪;青木正矩 -专利权人：株式会社日本触媒
申请日： 2014-01-09 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： C08L63/00 文献下载
摘要：本发明涉及叠层用树脂组合物及其用途，提供作为在基板上形成层的材料的具有优异耐热性的叠层用树脂组合物、以及在基材上形成由该叠层用树脂组合物构成的层而得到的具有优异耐热性的叠层体。本发明还提供使用这样的叠层体而成的光选择透射滤光器和摄像元件。本发明的叠层用树脂组合物为被用作在基材上形成层的材料的树脂组合物，其中，该树脂组合物含有在分子内具有1个以上环氧乙烷环的环氧乙烷化合物、以及色素；该环氧乙烷化合物含有具有羟基和/或酯基的化合物；该色素含有在
叠层用树脂组合及其用途

[发明专利]柔性电力电缆-CN201380028153.0有效
发明人： F·哈瓦斯 -专利权人：康普技术有限责任公司
申请日： 2013-05-08 - 公布日： 2017-09-26 - 主分类号： H01B9/02 文献下载
摘要：电缆具有叠加成叠层的多个大致矩形截面的导体，所述叠层被聚合物护套包围。所述叠层可以设有设置在所述导体中的至少两个之间的润滑层。所述叠层的导体可以具有在叠层的中间附近比在叠层的顶部和底部大的厚度和/或在顶部和底部比在中间小的宽度。还可以提供与第一叠层平行且共面的另外的叠层，这些叠层也被聚合物护套包围。
柔性电力电缆

[发明专利]不连续的氮化物只读存储器存储单元的结构-CN02141183.2有效
发明人：张国华;赖二琨 -专利权人：旺宏电子股份有限公司
申请日： 2002-07-09 - 公布日： 2004-01-14 - 主分类号： H01L27/112 文献下载
摘要：不连续的氮化物只读存储器(NROM)的存储单元，至少包括：衬底；第一ONO叠层栅极和第二ONO叠层栅极，形成在衬底上，其中ONO叠层栅极是由一氮化物层夹在两氧化物层之间所组成；氧化层，形成在衬底上以覆盖第一ONO叠层栅极和第二ONO叠层栅极；多晶硅层，形成在氧化层上；以及源极/漏极，形成在衬底内且靠近第一ONO叠层栅极和第二ONO叠层栅极。本发明的不连续的NROM存储单元的结构可以解决电子被诱捕进入氮化物层的难题，并且可准确地控制源极/漏极和ONO层的相关位置。
连续氮化物只读存储器存储单元结构

[发明专利]叠层地面覆盖物-CN201080054701.3有效
发明人：祖尔费卡·安瓦尔·坎;迈克尔·琳达赛·博伊德 -专利权人：澳大利亚界面有限公司
申请日： 2010-12-02 - 公布日： 2012-11-07 - 主分类号： A47G27/02 文献下载
摘要：本文公开了各种地面覆盖物和制备所述地面覆盖物的方法。在一个实施方案中，公开了包括基底衬垫层的地面覆盖物，所述基底衬垫层具有纤维面和底面，其中所述纤维面由包含多个连续长丝的膨化连续长丝纱线形成，所述连续长丝由生物基聚癸二酰己二胺聚合物或生物基聚癸二酰己二胺聚合物和高达80%重量比的与所述生物基聚癸二酰己二胺聚合物相容的至少一种其他聚合物的混合物形成。还描述了制备地面覆盖物的方法，其包括：将膨化连续长丝纱线簇生于或植入基底衬垫材料，其中所述纱线包括由多组分纤维形成的多个连续长丝，所述多组分纤维包括生物基聚癸二酰己二胺聚合物或生物基聚癸二酰己二胺聚合物和高达80%重量比的与所述生物基聚癸二酰己二胺聚合物相容的至少一种其他聚合物的混合物。
地面覆盖

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