专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基于控制的两维样板线段偏移方法-CN202111555105.X在审
  • 袁小燕 - 上海百琪迈科技(集团)有限公司
  • 2021-12-17 - 2022-04-08 - G06T11/20
  • 本发明公开了基于控制的两维样板线段偏移方法,包括控制偏移和线段偏移两个步骤,控制偏移包括以下步骤,S1、设定待偏移的若干控制,S2、获取相邻控制形成的线段,用位移函数SHV(P)计算偏移值,线段偏移包括,Y1、计算每个控制所在角平分线上偏移量,Y2、根据偏移量朝向确定每个控制偏移方向,Y3、对每个关键进行修正处理,取关键左右相邻作交线以修正关键,得到关键的数据后通过位移函数SHV(P)计算所有线段之间的偏移值,Y4、检查关键所形成的线段是否相交;将偏移值和线段偏移值进行对比,直到所有得到所有不相交的偏移值。通过控制偏移线段的计算和相交对比,有效控制轮廓线或内部线偏移,使模型效果更逼真。
  • 基于控制样板线段偏移方法
  • [发明专利]云补全方法、装置、电子设备及存储介质-CN202110671103.0在审
  • 刘玉身;温欣;曹炎培 - 清华大学;北京达佳互联信息技术有限公司
  • 2021-06-17 - 2021-09-24 - G06T5/50
  • 本公开关于一种云补全方法、装置、电子设备及存储介质,该方法包括获取待补全云信息和预设路径偏移信息;将待补全云信息和预设路径偏移信息输入云补全网络进行补全处理,得到目标点云信息,云补全网络包括至少两个按序连接的云路径偏移网络;第一个云路径偏移网络的输入为待补全云信息和预设路径偏移信息;第一个云路径偏移网络的输出包括第一偏移后点云信息和第一路径偏移信息;非第一个云路径偏移网络的输入为上一个云路径偏移网络的输出,目标点云信息为最后一个云路径偏移网络输出的偏移后点云信息利用本公开实施例可以提升对云形状的表征精准性和云补全质量。
  • 点云补全方法装置电子设备存储介质
  • [发明专利]一种高速用户运行轨迹有效性判断方法-CN202211704013.8在审
  • 王帅;王庆苗;马小勇;李占述 - 浪潮通信信息系统有限公司
  • 2022-12-29 - 2023-04-18 - G08G1/01
  • 本发明公开一种高速用户运行轨迹有效性判断方法,涉及运行轨迹技术领域,包括:获取运行轨迹,依次提取多个定位;已知前一个定位为有效,向后选取相邻的一个定位,计算相邻两个定位的权重定位,计算权重定位与后一个定位偏移距离,(a)偏移距离在偏移阈值内,则后一个定位为有效,(b)偏移距离超出偏移阈值,则后一个定位为疑似偏移,提取新定位,计算前一个定位与新定位的权重定位、权重定位与新定位偏移距离,偏移距离仍超出偏移阈值,继续提取新的定位,直至新的定位为有效。直至连续五个定位被判定为有效,则判定该五个定位所在运行轨迹为有效轨迹。本发明可以提高运行轨迹的准确率。
  • 一种高速用户运行轨迹有效性判断方法
  • [发明专利]航线编辑位置调整方法及装置-CN201710939668.6在审
  • 朱秋阳 - 广州天翔航空科技有限公司
  • 2017-09-30 - 2017-12-22 - G05D1/02
  • 本发明涉及无人机技术领域,提供一种航线编辑位置调整方法及装置,所述方法包括获取待作业区域的编辑集合,其中,编辑集合包括多个航线编辑,且多个航线编辑点按照待作业区域的测绘方向进行排序;基于用户的操作请求,在编辑集合中添加待偏移编辑;获取偏移参数,其中,偏移参数包括偏移方向和偏移量;以编辑集合中的当前编辑为基准点,根据偏移方向和偏移量,对待偏移编辑的位置进行调整。与现有技术相比,本发明实施例可以实现航线编辑位置的精确调整,具有良好的实用性。
  • 航线编辑位置调整方法装置
  • [发明专利]阴影绘制方法及装置-CN200710112453.3有效
  • 刘皓 - 腾讯科技(深圳)有限公司
  • 2007-06-26 - 2007-11-14 - G06T15/60
  • 本发明公开了一种阴影绘制方法,包括:对光源进行偏移,得到光源的第一偏移和第二偏移;以第一偏移及第二偏移为光源位置,获得场景的第一阴影深度贴图及第二阴影深度贴图;计算第一绘制点到第一偏移的距离值;从第一阴影深度贴图中,获取第一绘制对应的深度值;若判断得到深度值大于或等于绘制点到第一偏移的距离值,则计算第一绘制点到第二偏移的距离值;否则绘制所述绘制为第一颜色值;从第二阴影深度贴图中,获取绘制对应的深度值;若判断得到深度值小于第一绘制点到第二偏移的距离值,则绘制所述绘制为第二颜色值。
  • 阴影绘制方法装置

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