专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]部件-CN200580040448.5有效
  • 木村广伸;平井隆己;水谷靖彦;浦野正树 - 双信电机株式会社
  • 2005-11-25 - 2007-10-31 - H01P1/203
  • 一种电介质衬底(12),包括形成于该电介质衬底(12)内的滤波器单元(20)、不平衡/平衡转换单元(22)和将所述滤波器单元(20)电连接至所述不平衡/平衡转换单元(22)的连接单元(24)。第一谐振器(26)具有形成于第四电介质层(S4)的主表面上的电极(36)和穿透第一到第三电介质层(S1到S3)并将所述电极(36)连接至地电极(18)的通孔(38)。第二谐振器(28)具有形成于第四电介质层(S4)的主表面上的电极(42)和穿透第一到第三电介质层(S1到S3)并将所述电极(42)连接至地电极(18)的通孔(44)。
  • 无源部件
  • [发明专利]半导体结构及其形成方法-CN202110307557.X在审
  • 江国诚;朱熙甯;程冠伦;王志豪;庄正吉 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2021-03-23 - 2021-10-19 - H01L27/088
  • 半导体结构包括:部件;漏极部件;一个或多个沟道层,连接部件与漏极部件;以及栅极结构,在部件与漏极部件之间。该栅极结构与一个或多个沟道层中的每一个接合。该半导体结构还包括:第一极硅化物部件,在部件上方;极接触件,在第一极硅化物部件上方;第二极硅化物部件,在部件下方;通孔,在第二极硅化物部件下方;以及电源轨,在通孔下方。第一极硅化物部件和第二极硅化物部件在截面图中完全包围部件。电源轨是背侧电源轨。本申请的实施例还涉及形成半导体结构的方法。
  • 半导体结构及其形成方法
  • [发明专利]半导体结构-CN202110660780.2在审
  • 朱峯庆;李威养;林家彬 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2021-06-15 - 2021-10-22 - H01L27/092
  • 一种半导体结构,包括:隔离结构;第一极/漏极部件(S/D)以及第二极/漏极部件,在隔离结构上,定义第一方向,在俯视图中,第一方向从第一极/漏极部件至第二极/漏极部件;一个或多个通道层,连接第一极/漏极部件以及第二极/漏极部件;栅极结构,在第一极/漏极部件以及第二极/漏极部件之间,且齿合每个通道层;以及导孔结构,在第一极/漏极部件下方,且电性连接至第一极/漏极部件
  • 半导体结构

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