“溅射层 ”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果2514526个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]膜层的制备方法和反应腔室-CN201910370983.0在审
发明人：张兴;孙红霞;潘世荣;李建勇 -专利权人：领凡新能源科技（北京）有限公司
申请日： 2019-05-06 - 公布日： 2020-11-06 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及溅射镀膜技术领域，公开了一种膜层的制备方法和反应腔室，用以减少阳极消失、靶溅射不均匀等原因引起的成膜问题。其中膜层的制备方法包括：向孪生靶输入双极性波的中频交流电进行溅射，并控制孪生靶中的两个靶向相反的方向转动；输送衬底至溅射区域，使得孪生靶被溅射下的原子沉积在衬底上形成膜层。
制备方法反应

[发明专利]焊接用喷嘴的镀膜方法及焊接用喷嘴-CN202111272095.9在审
发明人：施木生 -专利权人：东莞新科技术研究开发有限公司
申请日： 2021-10-29 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种焊接用喷嘴的镀膜方法及焊接用喷嘴，该方法包括：将焊接用喷嘴放置在处理室内；对处理室抽真空、加热，并通入氩气；根据第一预设参数调整C靶的溅射参数，并对C靶进行溅射，以在焊接用喷嘴的表面形成C层；根据第二预设参数调整C靶的溅射参数，并对C靶进行溅射，以在C层上形成DLC层；通入氮气，根据第三预设参数调整Ti靶的溅射参数，并根据第四预设参数调整C靶的溅射参数，同时对Ti靶和C靶进行溅射，以在DLC层上形成Ti/DLC复合物层。采用本发明实施例，能够在焊接用喷嘴表面形成表面光滑且耐高温的膜层，从而降低焊接过程中液体锡在喷嘴表面的附着率，并且提高液体锡球的形成率。
焊接喷嘴镀膜方法

[发明专利]一种装配阴极溅射环的阳极层离子源-CN201811565354.5在审
发明人：郑军;周晖;赵栋才;肖更竭;徐嶺茂;蒋钊 -专利权人：兰州空间技术物理研究所
申请日： 2018-12-20 - 公布日： 2019-03-29 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种装配阴极溅射环的阳极层离子源，属于离子源清洗、刻蚀和薄膜辅助沉积技术领域。所述离子源是在现有通用结构的阳极层离子源的阴极外环上紧密贴合安装阴极外环溅射环和/或在阴极内环上紧密贴合安装阴极内环溅射环获得；所述溅射环安装在阴极的溅射损伤面上，保障阴极不受溅射损害；通过采用场电子发射率高的材料、溅射产额低的材料和/或镀膜待掺杂的材料作为所述溅射环的材料，可实现提高离子源的离子束强度、延长了阳极层离子源的使用寿命以及薄膜掺杂辅助沉积。
阴极溅射阳极层离子源紧密贴合阴极溅射离子源内环装配辅助沉积技术电子发射率离子源清洗薄膜掺杂辅助沉积使用寿命通用结构掺杂的离子束镀膜刻蚀薄膜损伤损害

[发明专利]一种太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法-CN200910241526.8有效
发明人：王聪;刘宇;薛亚飞 -专利权人：北京航空航天大学
申请日： 2009-11-25 - 公布日： 2010-06-16 - 主分类号： F24J2/48 文献下载
摘要：一种太阳光谱选择性吸收涂层，它采用磁控溅射技术制备，吸热体由基底到顶部成三层膜结构：第一层，由具有高红外反射率的铜或铝金属基底作为红外反射层；第二层，由具有不同折射率和厚度的类金属层和类介质层两个亚层构成吸收层；第三层，由SiON薄膜作为减反射层。其制备方法：第一层红外反射层，将Cu或Al金属片进行超声清洗和抛光处理；第二层的类金属层，由两种金属的合金靶，以Ar气为溅射气体，在N2为反应气体之下，采用直流电源，反应溅射制备而成；类介质层，由两种金属的合金靶，以Ar气为溅射气体，在N2、O2为反应气体之下，采用直流电源，反应溅射而成；第三层减反射层，采用SiN靶，以Ar气为溅射气体，N2、O2为反应气体，采用射频电源，反应溅射制备，至此完成。
一种太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法

[发明专利]一种通过磁控溅射镀膜机提高不同金属膜间结合力的方法-CN202011502529.5在审
发明人：周东平 -专利权人：镇江晶鼎光电科技有限公司
申请日： 2020-12-17 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供了一种通过磁控溅射镀膜机提高不同金属膜间结合力的方法，属于磁控溅射镀膜技术领域，包括如下加工步骤：（1）将基材表面清洗干净，烘干，置于磁控溅射镀膜机内；（2）设定好磁控溅射镀膜机的真空度、功率，以满功率状态在基材上对金属A溅射到所需厚度；（3）再采用满功率的50%状态对金属A溅射t1时间，对金属B溅射t2时间；（4）再用满功率的30%对金属A溅射t3时间，采用满功率的70%对金属B溅射t4时间；（5）再用满功率状态对金属B溅射到所需厚度；（6）溅射结束后自然冷却到室温，即可取出产品。该种方法通过磁控溅射镀膜机在两种金属膜层之间增加多层过渡层，可提高金属膜层之间的结合力。
一种通过磁控溅射镀膜提高不同金属膜结合方法

[发明专利]壳体的制作方法及由该方法制得的壳体-CN201010555189.2有效
发明人：张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;张成 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2010-11-23 - 公布日： 2012-05-30 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：本发明提供一种壳体的制作方法，提供基体，采用磁控溅射方法在基体的表面形成色彩层，之后，在金属靶材前端设置一移动的挡板，开启靶材电源，该靶材为钛靶、铬靶或锆靶中的任一靶材，调节该挡板至靶材正前方，沉积一定时间，使靶材原子溅射到该挡板上，并当溅射到靶材原子数量和溅射速度都稳定时，移开挡板，使靶材原子溅射到基体上，继续溅射一段时间后，关闭靶材电源，使图案层于色彩层表面的沉积停留于形核阶段，以在该色彩层上形成图案层由上述方法所制得的壳体，该壳体包括一基体、一色彩层、一图案层，所述色彩层形成于基体的表面，所述图案层形成于色彩层的表面，所述图案层为Ti、Cr或Zr膜层。
壳体制作方法法制

[发明专利]显示用基板及其制造方法以及显示装置-CN200910132922.7无效
发明人：山本哲也;山本直树;牧野久雄;氏原彰;平岛义典;岩冈启明;青木久;保苅一志;吉田基彦 -专利权人：卡西欧计算机株式会社;学校法人高知工科大学
申请日： 2009-03-31 - 公布日： 2009-10-07 - 主分类号： G02F1/1333 文献下载
摘要：显示用基板(1)具备支持基板(2)、形成于支持基板(2)上的有机树脂层(3)、和形成于有机树脂层(3)上的透明电极(4)。透明电极(4)包含第1层(5)和第2层(6)，该第1层(5)密合地形成于有机树脂层(3)上，且含有氧化锌，该第2层(6)形成于第1层(5)上，具有比第1层(5)厚的层厚，且含有氧化锌。第1层(5)通过直流溅射或直流磁控溅射而形成，第2层(6)通过高频溅射、高频磁控溅射、高频叠加直流溅射、高频叠加直流磁控溅射中的任何一种而形成。
显示用基板及其制造方法以及显示装置

[发明专利]一种离子束溅射薄膜高温应变片及其制备方法-CN202011339181.2在审
发明人：戚云娟;潘婷;高波;薛晓婷;蔺露;李莹 -专利权人：陕西电器研究所
申请日： 2020-11-25 - 公布日： 2021-04-06 - 主分类号： G01B7/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种离子束溅射薄膜高温应变片及其制备方法，该离子束溅射薄膜高温应变片包括镍基合金基底、绝缘薄膜层、镍铬丝栅薄膜层、保护薄膜层以及电极薄膜；镍基合金基底、绝缘薄膜层、以及镍铬丝栅薄膜层从下到上依次层叠设置；电极薄膜和保护薄膜层均通过离子束溅射镀膜工艺沉积于镍铬丝栅薄膜层的顶部，电极薄膜和保护薄膜层同层设置；镍铬丝栅薄膜层由通过离子束溅射镀膜工艺沉积于绝缘薄膜层的镍铬薄膜层经过刻蚀形成；电极薄膜用于连接耐高温导线上述离子束溅射薄膜高温应变片能够在高温下进行稳定的测量工作。
一种离子束溅射薄膜高温应变及其制备方法

[发明专利]一种制备人工反铁磁体复合材料的方法-CN201910326357.1有效
发明人：王可;马杰;王亚宏;张明智;刘剑;李跃忠 -专利权人：东华理工大学
申请日： 2019-04-23 - 公布日： 2022-02-15 - 主分类号： H01F41/32 文献下载
摘要：本发明具体步骤如下：步骤一，将镶嵌靶放入真空溅射室的靶位，将基片固定在真空溅射室的基片台上，向真空溅射室通入工作气体，形成真空度；步骤二，在基片上溅射缓冲层；步骤三，在缓冲层上溅射生长亚铁磁层I，基片自然冷却；步骤四，在亚铁磁层I上继续溅射生长亚铁磁层II，最后在基片上溅射生长保护层，即得到成品。本发明在稀土‑过渡合金薄膜中通过直接制备生长的样品层间界面处的直接交换耦合作用，工艺简单，成本低廉，制备周期短，重复性好，可应用于磁电及磁传感器件和超快高密度存储领域中。
一种制备人工磁体复合材料方法

[发明专利]圆筒型溅射靶、In系焊接材料及圆筒型溅射靶的制造方法-CN201980038057.1在审
发明人：冈野晋;加藤慎司 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2019-07-17 - 公布日： 2021-01-29 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明的圆筒型溅射靶具备呈圆筒形状的溅射靶材和经由焊接层接合于该溅射靶材的内周侧的衬管，所述圆筒型溅射靶的特征在于，所述焊接层由In系焊接材料构成，氧含量为100质量ppm以下。
圆筒溅射 in 焊接材料制造方法

[发明专利]生产Ⅲ族氮化物半导体装置的方法-CN01808301.3有效
发明人：千田昌伸;伊藤润;千代敏明;柴田直树;浅见静代 -专利权人：丰田合成株式会社
申请日： 2001-04-20 - 公布日： 2003-06-18 - 主分类号： H01L21/203 文献下载
摘要：提出了一种适于用溅射法在基质上形成III族氮化物半导体层的优选条件。当用溅射法在基质上形成第一III族氮化物半导体层时，选择溅射装置的初始电压不高于溅射电压的110％。
生产氮化物半导体装置方法

[发明专利]一种具有三套溅射源的磁控溅射镀膜生产线-CN201510237296.3在审
发明人：魏永祥;魏长龙;马东 -专利权人：枣庄市锦华镀膜玻璃有限公司
申请日： 2015-05-12 - 公布日： 2017-01-04 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有三套溅射源的磁控溅射镀膜生产线，包括真空预抽室、真空镀膜室、第一溅射源、第二溅射源、第三溅射源、过渡室，所述真空预抽室和真空镀膜室及过渡室依次连接，所述真空镀膜室内安装第一溅射源、第二溅射源、第三溅射源，所述第一溅射源、第二溅射源、第三溅射源依次平行设置。该生产线使产品膜层更均匀牢固，成膜书读快，生产效率高合格率高，生产出更丰富多样的产品种类，溅射源使用寿命长，膜层厚度易于控制，节约功耗，单位时间及电量能生产更多的优质产品。
一种具有溅射磁控溅射镀膜生产线

[实用新型]一种双面显示面板结构-CN202122261383.6有效
发明人：温质康;乔小平;苏智昱 -专利权人：福建华佳彩有限公司
申请日： 2021-09-17 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种双面显示面板结构，包括玻璃基板，所述玻璃基板的表面开设有规则的通孔，且在玻璃基板的顶部表面溅射沉积有遮光层，在所述通孔及内壁处溅射有遮光层的膜层，且在通孔的内部填入有油墨；所述遮光层的表面溅射有缓冲层，所述缓冲层的表面溅射有有源层，所述有源层的表面溅射有栅极绝缘层，所述栅极绝缘层的表面溅射沉积有金属栅极层；通过本实用新型的设计，能够避免双面显示的子像素均排列在同一表面，造成AMOLED双面显示器的各自对应的像素密度低
一种双面显示面板结构

[实用新型]一种透光隔热降低辐射的屏蔽玻璃膜-CN201721758651.2有效
发明人：陈顺锡 -专利权人：东莞市顺铭电子材料有限公司
申请日： 2017-12-16 - 公布日： 2018-09-25 - 主分类号： B32B27/06 文献下载
摘要：一种透光隔热降低辐射的屏蔽玻璃膜，为拱形结构，包括PET基层，所述PET基层内设有金属网栅，所述PET基层上设有磁控溅射膜层，所述磁控溅射膜层内有若干微孔，所述微孔内填充有封孔粒子，所述磁控溅射膜层上设有不锈钢层，所述不锈钢层上设有银层和固定于所述银层上的iTO层，采用拱形结构，使用时，采用两个拱形膜分别贴在玻璃的两面，增加了透光性和隔热性能，节省了调温设备的投入，通过基层上设置磁控溅射膜层，并且磁控溅射膜层内的微孔填充封孔粒子，能很好地减少膜层表面所产生的微孔对基体耐腐蚀能力的影响，避免基体通过微孔与外界接触而发生电偶腐蚀。
磁控溅射膜层微孔不锈钢层拱形结构屏蔽玻璃透光隔热封孔银层填充粒子调温设备隔热性能金属网栅膜层表面外界接触辐射耐腐蚀透光性拱形电偶腐蚀玻璃基层

[实用新型]基于金属膜层电路的玻璃晶膜屏-CN202122999614.3有效
发明人：周伟 -专利权人：武汉恩倍思科技有限公司
申请日： 2021-12-01 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： H05K1/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种基于金属膜层电路的玻璃晶膜屏，包括玻璃基板、金属电路层和灯珠阵列；其中金属电路层包括溅射金属纳米薄膜层和电镀金属膜层，其中溅射金属纳米薄膜层通过磁控溅射镀膜方式直接溅射在玻璃基板上，电镀金属膜层通过电化学方式镀在该溅射金属纳米薄膜层上，该电镀金属膜层上刻有电路；灯珠阵列布设在金属电路层的电路中。本实用新型的玻璃晶膜屏通过在玻璃基板上镀金属电路层而不是ITO导电膜，减小了阻抗，从而在玻璃晶膜屏的单位面积内可以串入更多的灯珠，灯珠亮度高，整个晶膜屏的图像清晰度高，使用效果好。
基于金属膜电路玻璃晶膜屏

首页
«上一页
1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
下一页»
尾页
共 100000 条