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[发明专利]一种水性或油性涂料喷具清洗工艺和自动清洗系统-CN202010939006.0有效
发明人：叶均明;蒙刚;董伟裕 -专利权人：联德（广州）机械有限公司
申请日： 2020-09-09 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： B05B15/555 文献下载
摘要：本发明公开了一种水性或油性涂料喷具清洗工艺和自动清洗系统，喷具清洗工艺，包括驱动部件带动喷嘴移动到工作位置；输送泵向喷嘴泵送清洗液，喷嘴喷射清洗液以清洗喷具，喷具喷涂的涂料为水性涂料时，喷嘴喷射的清洗液的压力范围为3～4MPa；喷具喷涂的涂料为油性涂料时，输送泵向喷嘴泵送的清洗液包括有机溶剂；输送泵停止工作；驱动部件带动喷嘴移动到待机位置。自动清洗系统包括喷嘴、驱动部件、清洗液放置装置、输送泵和输送管道，根据水性或油性涂料喷具清洗工艺进行。水性或油性涂料喷具清洗工艺利用高压喷射清洗液和喷射有机溶剂快速清洗喷具表面堵塞物，极大地提高清洗能力和工作效率，解放人力，减少设备故障率。
一种水性油性涂料清洗工艺自动系统

[实用新型]半导体硅片的清洗工艺腔-CN201120070329.7有效
发明人：张晨骋 -专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
申请日： 2011-03-17 - 公布日： 2011-10-12 - 主分类号： B08B3/12 文献下载
摘要：本实用新型提出一种半导体硅片清洗工艺腔，所述工艺腔内部具有可升降及旋转的多个平台，每个平台上方用于固定一硅片，所述平台上方设置有一盖板，所述盖板上对应每个平台具有一个或多个进口。本实用新型提出的半导体硅片清洗工艺腔可以在单个工艺腔内同时清洗多个硅片来提高工艺效率，还可以使每个硅片的清洗效果提高，并减少各种资源消耗。
半导体硅片清洗工艺

[发明专利]一种碳氢清洗剂除乳化油工艺-CN202111680465.2在审
发明人：肖连庄;姚剑锋;邓凤平;盛健强;吴少威 -专利权人：广东新球清洗科技股份有限公司
申请日： 2021-12-30 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： B08B3/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种碳氢清洗剂除乳化油工艺，包括通过碳氢清洗剂A和水进行多重真空超声波清洗、通过碳氢清洗剂A浸泡抛动清洗、通过碳氢清洗剂B超声波清洗、真空蒸汽清洗和真空干燥等步骤。该碳氢清洗剂除乳化油工艺使用不同清洗剂分阶段清洗、多级处理、针对性强、清洗效果好。
一种碳氢洗剂乳化工艺

[发明专利]一种二极管芯片酸洗工艺及设备-CN201410355331.7在审
发明人：蔡彤;张练佳;贲海蛟;梅余锋 -专利权人：如皋市易达电子有限责任公司
申请日： 2014-07-24 - 公布日： 2015-04-01 - 主分类号： B08B3/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种二极管芯片酸洗工艺，还涉及一种用于实现该酸洗工艺的设备，所述工艺依次为混合酸清洗、酸与双氧水清洗、氨水与双氧水清洗及水超声清洗，所述氨水与双氧水的混合清洗液为氨水、双氧水与纯水，所述氨水、双氧水与纯水的体积比为2:1:3～6，所述二极管芯片酸洗工艺的设备，包括在酸洗机上依次设置的混合酸清洗段、酸与双氧水清洗清洗段、氨水与双氧水清洗清洗段及水超声清洗段。本发明的优点在于：采用该浓度的氨水清洁芯片表面时，使得芯片表面的游离金属离子大大的减少，提高了二极管常温下电性能和高温电性能，且通过水超声清，解决了残留的氨水的清洗问题。
一种二极管芯片酸洗工艺设备

[发明专利]一种印刷胶辊清洗工艺-CN202010449027.4在审
发明人：刘国庆;孙涛 -专利权人：刘国庆
申请日： 2020-05-25 - 公布日： 2020-08-25 - 主分类号： B41F35/00 文献下载
摘要：本发明涉及印刷工艺技术领域，具体为一种印刷胶辊清洗工艺，该工艺包括以下步骤：S1，将印刷机中的印刷胶辊拆卸下来；S2，将拆卸下的印刷胶辊安装到印刷胶辊清洗装置中进行清洗；S3，将完成清洗的印刷胶辊烘干，然后通风保存；该工艺中采用的印刷胶辊清洗装置包括：主体，印刷胶辊可转动地设置于主体的内部；第一电机，第一电机用于带动印刷胶辊转动；清洗结构，清洗结构用于对印刷胶辊的外表面进行清理，升降结构，升降结构用于驱动清洗结构升降移动；冲洗结构，冲洗结构用于对印刷胶辊喷出清洗剂，从而配合清洗结构对印刷胶辊进行清洗，无需人工进行清洗，节省人力，不会对工人的双手造成伤害，提高实用性。
一种印刷清洗工艺

[发明专利]一种环保锌铁合金化板的制造方法-CN201610316730.1在审
发明人：周克飞;陈园林;王军;胡华东;刘海军;瞿作为;杨芃;万盛兴;邹海霞;黄瑾恺 -专利权人：武汉钢铁股份有限公司;上海凯密特尔化学品有限公司
申请日： 2016-05-13 - 公布日： 2016-08-31 - 主分类号： C23G1/19 文献下载
摘要：本发明涉及一种环保锌铁合金化板的制造方法，其具体步骤为：将锌铁合金化板依次经过清洗工艺，退火工艺，镀锌工艺，合金化保温工艺，光整工艺，钝化工艺，固化工艺，冷却工艺，涂油工艺，最终得到环保锌铁合金化板；清洗工序使用碱性脱脂剂，包含喷淋清洗，包含2～6组刷辊清洗，包含电解工艺，清洗后带钢表面反射率≥95％，碱性脱脂剂为上海凯密特尔化学品有限公司的Gardoclean S5184；钝化工艺是通过是用辊涂机。钝化工艺使用的环保钝化液是指三价铬环保钝化液，钝化后的基板可以满足ROHS要求，广泛应用于家电行业。其许多性能指标达到甚至超过了无铬钝化的要求，可以替代或部分替代无铬钝化，甚至无铬耐指纹板。
一种环保铁合金制造方法

[实用新型]清洗液流量控制系统及湿法工艺机台-CN202020856327.X有效
发明人：董明 -专利权人：中芯集成电路制造（绍兴）有限公司
申请日： 2020-05-20 - 公布日： 2020-10-27 - 主分类号： G05D7/06 文献下载
摘要：本实用新型提供一种清洗液流量控制系统及湿法工艺机台，所述清洗液流量控制系统用于控制湿法工艺机台清洗晶圆的清洗液流量，并包括电动阀和控制模组，所述电动阀设置在向所述湿法工艺机台的工艺腔提供清洗液的供液管道上在利用该湿法工艺机台执行相应的湿法工艺时，采用流量切换组件切换不同的空气压缩机，以驱动电动阀实现不同的开启度，进而控制供液管道中的清洗液的流量不同，由此避免现有的湿法工艺机台采用单一清洗液流量来清洗不同产品晶圆时造成清洗后的一些晶圆出现边缘破孔或中心有表面残留物的问题
清洗流量控制系统湿法工艺机台

[发明专利]一种碱液脱盐装置清洗工艺-CN201911323795.9在审
发明人：卢伟;罗柱均;牟朝冰;刘洪 -专利权人：宜宾海丝特纤维有限责任公司;宜宾丝丽雅集团有限公司
申请日： 2019-12-20 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： B01D65/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种碱液脱盐装置清洗工艺，属于化工分离技术领域，其特征在于，包括以下步骤：a、当脱盐装置运行后，压力升高达到清洗工艺设定值时，开始停车进行清洗；b、先在清洗罐内装满除盐水，停车后将脱盐装置内残留物料顶出；c、再在清洗罐内装满除盐水，通入蒸汽加热至45‑50℃，进行循环清洗1.5‑2h。本发明清洗工艺简单，大大降低了人员劳动强度，不仅提高了清洗效率和清洗效果，而且节约了清洗用水成本，提高了膜通量恢复率。
一种脱盐装置清洗工艺

[发明专利]半导体工艺设备及其工艺腔室-CN202011278607.8在审
发明人：李渊;吴仪 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2020-11-16 - 公布日： 2021-03-09 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种半导体工艺设备及其工艺腔室，该半导体工艺腔室包括承载装置和设置于承载装置上方的多相流喷嘴阵列，承载装置用于承载待清洗件，多相流喷嘴阵列用于朝向待清洗件的待清洗表面喷淋清洗介质，其中，多相流喷嘴阵列在待清洗件径向上的最大尺寸大于或等于待清洗件的半径，以在待清洗件相对于多相流喷嘴阵列旋转时，总喷淋区域完全覆盖待清洗表面。应用本申请，可在现有技术之上大幅度提高喷头的喷淋面积，以提高清洗效率和清洗的洁净程度。
半导体工艺设备及其工艺

[发明专利]一种高含硫气田集气站冲砂清洗工艺-CN201510174731.2有效
发明人：张波 -专利权人：濮阳市宝捷万佳实业有限公司
申请日： 2015-04-14 - 公布日： 2017-10-27 - 主分类号： B08B9/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种高含硫气田集气站冲砂清洗工艺，该工艺使用冲砂撬装在不停产的情况下对集气站中设备进行冲砂清洗，首先使原有管路中的流体通过旁通装置流入下游设备，关闭待清洗设备，再对待清洗设备进行钝化、清洗剂清洗、清水冲洗等操作，最后调节流体至原有设备中流动，拆卸冲砂撬装，完成清洗工作，本发明提供的清洗工艺，操作简便快捷，无需使用吊装，清洗时设备及人员的安全性高，在清洗过程中使用的药剂及水能够循环使用，节约资源
一种高含硫气田集气站冲砂清洗工艺

[发明专利]半导体衬底清洗方法及调整方法-CN202010300333.1在审
发明人：范世炜;姚雷;国子明;张凌越 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2020-04-16 - 公布日： 2020-07-03 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种半导体衬底清洗方法及调整方法，在半导体衬底清洗方法中，通过获取识别缺口与污染区之间的间隔角度，然后将所述半导体衬底竖直放置于一清洗槽内，并通过所述间隔角度定义所述识别缺口在所述清洗槽内的位置，以使所述识污染区位于所述清洗槽内的十一点钟至一点钟方向；执行清洗工艺，以去除所述污染区的污染物；在半导体衬底调整方法中，对所述半导体衬底执行第一道工艺，然后获取所述半导体衬底将要执行的第二道工艺；并判断所述半导体衬底将要执行的第二道工艺是否为清洗工艺由此，避免所述半导体衬底的位置与工艺不符合或者影响工艺的问题。
半导体衬底清洗方法调整

[实用新型]一种金属工艺品用清洗装置-CN202021546971.3有效
发明人：肖会东;肖峰 -专利权人：吴江市一悦金属艺术品有限公司
申请日： 2020-07-30 - 公布日： 2021-03-19 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型提供一种金属工艺品用清洗装置包括：底板；机箱组件，所述机箱组价固定连接于底板顶部的左侧；液压组件，所述液压组件固定连接于机箱组件内壁的底部；定位组件，所述定位组件固定连接于机箱组件顶部的左侧；风干组件，所述风干组件固定连接于机箱组件的顶部；清洗组件，所述清洗组件固定连接于底板顶部的右侧。本实用新型提供一种金属工艺品用清洗装置采用风干组件对金属工艺品进行风干，可有效防止金属工艺品表面锈蚀，清洗组件让清洗液实现循环，过滤网与活性炭层配合对清洗液中的杂质进行过滤吸附，采用液压组件与定位组件配合，对金属工艺品的高度位置进行调节固定，并可以根据金属工艺品的大小调节配合。
一种金属工艺品清洗装置

[发明专利]一种晶圆清洗方法-CN201911008434.5在审
发明人：杨一凡;高志强 -专利权人：武汉新芯集成电路制造有限公司
申请日： 2019-10-22 - 公布日： 2019-12-27 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种晶圆清洗方法，包括：步骤S1，对晶圆执行一第一清洗工艺；步骤S2，对晶圆执行一第一干燥工艺；步骤S3，对晶圆执行一等离子体工艺；步骤S4，对晶圆执行一第二清洗工艺和一第二干燥工艺本发明技术方案的有益效果在于：在传统的晶圆清洗步骤中加入等离子体工艺，利用等离子体对晶圆表面进行处理以提升颗粒物表面的活性，有助于后续的第二清洗工艺中更好地去除晶圆表面残留的研磨颗粒。
晶圆清洗工艺等离子体工艺干燥工艺晶圆表面等离子体半导体制造技术颗粒物表面晶圆清洗研磨颗粒传统的种晶去除清洗残留

[发明专利]一种红外硫系玻璃镜片的清洗工艺-CN201710905717.4在审
发明人：徐向文;杨勇 -专利权人：佛山华国光学器材有限公司
申请日： 2017-09-29 - 公布日： 2018-03-13 - 主分类号： B08B11/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种红外硫系玻璃镜片的清洗工艺。这种清洗工艺包括以下步骤1)将待清洗的红外硫系玻璃镜片进行预处理；2)将预处理后的镜片置于第一清洗槽，用纯水进行浸泡；3)纯水浸泡后的镜片进入第二清洗槽，用非离子表面活性剂清洗剂进行超声清洗；4)步骤3)清洗后的镜片依次进入第三、第四和第五清洗槽，用纯水进行三级超声清洗；5)步骤4)清洗后的镜片通过离心甩干进行干燥。本发明所公开的红外硫系玻璃镜片的清洗工艺，可以使清洗的效果更好，且比现有技术更加环保。
一种红外玻璃镜片清洗工艺

[发明专利]金属工件的清洗工艺及清洗得到的金属工件-CN201711498052.6在审
发明人：李春;潘太军 -专利权人：江苏丰东热技术有限公司
申请日： 2017-12-29 - 公布日： 2018-06-15 - 主分类号： C23G3/00 文献下载
摘要：本发明涉及金属材料加工领域，具体而言，提供了一种金属工件的清洗工艺及清洗得到的金属工件。所述金属工件的清洗工艺包括以下步骤：采用水系清洗机和碳氢溶剂清洗机对金属工件进行清洗。上述金属工件的清洗工艺采用水系清洗机和碳氢溶剂清洗机二者结合对金属工件进行清洗，能够有效清除工件表面的油类和脂类等杂质(如工件表面残留的切削液、冷却液、淬火油等)，清洗效果好，清洗稳定性高；清洗过程中无需使用人工手洗，清洗效率高，适合批量生产；并且可以实现对各种尺寸的金属工件的清洗，应用范围广泛。
金属工件清洗清洗工艺工件表面水系清洗碳氢溶剂清洗机金属材料加工清洗过程清洗效果清洗效率人工手洗淬火油冷却液切削液油类脂类残留应用生产

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