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[发明专利]清洗工艺-CN202010287811.X有效
发明人：王荣东;谢淳;杨红义;朴君;姚泽文;杜海鸥;李君瑜 -专利权人：中国原子能科学研究院
申请日： 2020-04-13 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： B08B3/08 文献下载
摘要：一种清洗工艺，包括：将待清洗设备密封输运至第一清洗室；向第一清洗室添加第一清洗剂，加热第一清洗室，使污染物从所待清洗设备上脱附；从第一清洗室回收第一清洗剂和待清洗设备的污染物；向第二清洗室添加第二清洗剂清洗待清洗设备，去除残留污染物和第一清洗剂；用第三清洗剂清洗待清洗设备，去除残留的第一清洗剂和第二清洗剂。
清洗工艺

[发明专利]一种系统封装产品在线式清洗装置及清洗工艺-CN202011139223.8有效
发明人：方敏;董辉 -专利权人：深圳市山木电子设备有限公司
申请日： 2020-10-22 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本发明公开一种系统封装产品在线式清洗装置及清洗工艺，清洗装置包括机架、传送带、预清洗工艺段、清洗工艺段、化学隔离工艺段、漂洗工艺段，所述传送带用于以一定的速度带动产品依次穿过所述预清洗工艺段、清洗工艺段、化学隔离工艺段、漂洗工艺段来完成清洗操作；于所述预清洗工艺段、清洗工艺段、化学隔离工艺段的下方设有一个清洗液槽，用于装清洗液；所述预清洗工艺段以及清洗工艺段均设有浸液箱用于浸泡所述预清洗腔室、清洗腔室内的产品；清洗工艺基于上述清洗装置。本发明采用浸液箱的结构设计，在喷淋清洗的同时对产品进行浸泡处理，浸泡作用使助焊剂残留物软化，清洗效果更好。
一种系统封装产品在线清洗装置工艺

[实用新型]一种系统封装产品在线式清洗装置-CN202022375663.5有效
发明人：方敏;董辉 -专利权人：深圳市山木电子设备有限公司
申请日： 2020-10-22 - 公布日： 2021-08-13 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型公开一种系统封装产品在线式清洗装置，清洗装置包括机架、传送带、预清洗工艺段、清洗工艺段、化学隔离工艺段、漂洗工艺段，所述传送带用于以一定的速度带动产品依次穿过所述预清洗工艺段、清洗工艺段、化学隔离工艺段、漂洗工艺段来完成清洗操作；于所述预清洗工艺段、清洗工艺段、化学隔离工艺段的下方设有一个清洗液槽，用于装清洗液；所述预清洗工艺段以及清洗工艺段均设有浸液箱用于浸泡所述预清洗腔室、清洗腔室内的产品。本实用新型采用浸液箱的结构设计，在喷淋清洗的同时对产品进行浸泡处理，浸泡作用使助焊剂残留物软化，清洗效果更好。
一种系统封装产品在线清洗装置

[发明专利]清洗刷洁净度的测试方法及清洗工艺窗口的设定方法-CN202310475827.7在审
发明人：石强;李儒兴;李协吉 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2023-04-27 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： G01N15/00 文献下载
摘要：本发明提供一种清洗刷洁净度的测试方法及一种清洗工艺窗口的设定方法，通过定义CMP后清洗工艺的清洗参数，并在该清洗参数下，采用待测试的清洗刷对光片进行清洗工艺，根据光片表面的颗粒情况，测试清洗刷洁净度，以筛选达到生产工艺条件要求的清洗刷；进一步的，用筛选的清洗刷在不同清洗参数下对光片进行清洗工艺，来设定CMP后清洗工艺窗口。本发明在满足CMP后清洗工艺对清洗刷洁净度的要求的同时，又能协助清洗工艺窗口的设定，进而选择适合工艺要求的清洗刷和工艺条件，来达到生产工艺条件与清洗刷的匹配。
洗刷洁净测试方法清洗工艺窗口设定

[发明专利]加快工艺腔室复机的清洗方法-CN201710889449.1有效
发明人：李晓鹏 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2017-09-27 - 公布日： 2021-10-15 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种加快工艺腔室复机的清洗方法。包括加热工艺腔室，以使得工艺腔室内的温度符合清洗杂质的预设温度；延时第一预设时间后，对工艺腔室进行初步抽真空；循环执行快速清洗工艺腔室的流程；循环执行深度清洗工艺腔室的流程，其中，循环执行深度清洗工艺腔室的流程包括：控制通入工艺腔室内的第一清洗气体流量，使得第一清洗气体流量符合预设第一清洗气体流量，以对工艺腔室进行深度清洗，和/或，控制通入工艺腔室内的第一清洗气体流速，使得第一清洗气体流速符合预设第一清洗气体流速，以对工艺腔室进行深度清洗；执行初始化工艺腔室的流程，以完成对工艺腔室的清洗。能够有效缩短工艺腔室的复机时间，提高工艺腔室的清洗效率。
加快工艺复机清洗方法

[实用新型]多功能清洗设备-CN201922056625.0有效
发明人：叶晓亚;曹芳;邹帅;王栩生;刑国强 -专利权人：苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司
申请日： 2019-11-25 - 公布日： 2020-06-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种多功能清洗设备，其用于太阳能电池硅片的清洗，包括：预清洗段，所述预清洗段包括具有酸洗功能及碱洗功能且可在两种功能之间切换的预清洗槽；设置于所述预清洗段后端的工艺段，所述工艺段包括独立实现或配合实现所述太阳能电池硅片抛光工艺、制绒工艺或返工工艺的第一工艺槽与第二工艺槽；设置于所述工艺段后端的后清洗段，所述后清洗段包括具有酸洗功能及碱洗功能且可在两种功能之间切换的后清洗槽；基于本实用新型所提供多功能清洗设备的具体结构，其可以在不同的工艺之间切换以适应太阳能电池硅片不同的清洗需求，而且一台清洗设备兼具多种清洗工艺的设计方式大大降低了企业的设备购置成本。
多功能清洗设备

[发明专利]增进晶圆清洗效率与改善工艺合格率的方法-CN02140774.6有效
发明人：马思尊;张国华 -专利权人：旺宏电子股份有限公司
申请日： 2002-07-24 - 公布日： 2004-01-28 - 主分类号： H01L21/302 文献下载
摘要：一种增进晶圆清洗效率与改善工艺合格率的方法，其中增进晶圆清洗效率的方法是首先在一测试晶圆上沉积数种工艺颗粒。接着进行一清洗工艺，以清洗此测试晶圆。之后，扫描此测试晶圆，以确认此测试晶圆上哪些工艺颗粒已被完全移除，而哪些工艺颗粒保留下来。继之，通过扫描测试晶圆的一结果，以评估此清洗工艺的一清洗能力。然后，再修正此清洗工艺的参数，以增进清洗工艺的效率。
增进清洗效率改善工艺合格率方法

[发明专利]焦化工艺用塔、器的清洗工艺-CN200710152357.1无效
发明人：赵海亮;王瑞忠;韩党锋;钱如刚 -专利权人：江苏沙钢集团有限公司
申请日： 2007-09-28 - 公布日： 2008-04-09 - 主分类号： C10B43/00 文献下载
摘要：一种焦化工艺用塔、器的清洗工艺，其特征在于该清洗工艺包括采用焦化粗苯喷洒入焦化工艺用塔、器进行不停产在线清洗。该清洗工艺包括将粗苯控制在25～40℃范围内由塔、器顶部喷洒。该焦化工艺用塔、器的清洗工艺为不停产在线清洗，无停工损失，采用焦化粗苯工段自产焦化粗苯，并可实现清洗过程的闭路循环和粗苯的回收，粗苯用量少，成本低，无污染。整个清洗工艺操作简便、效果明显，时间短，能对塔、器进行清洗的同时也对相关管路进行清洗。
焦化工艺清洗

[发明专利]辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法-CN201611161131.3在审
发明人：姚力军;潘杰;相原俊夫;王学泽;陈胜洁 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2016-12-15 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： B08B3/08 文献下载
摘要：本发明提供一种辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法，包括：提供辉光放电质谱设备用陶瓷片；对陶瓷片进行第一清洗工艺；第一清洗工艺后对陶瓷片进行第二清洗工艺，第二清洗工艺包括超声波清洗工艺；第二清洗工艺后在预设温度下对陶瓷片进行干燥工艺第一清洗工艺主要用于去除陶瓷片表面的金属杂质，由于陶瓷片本身具有较多微孔，微孔内容易吸附杂质(例如第一清洗工艺后的金属溶解物)，因此通过超声波清洗工艺，可以有效去除第一清洗工艺后微孔内的残留杂质，且在预设温度下进行干燥工艺时
陶瓷片清洗工艺辉光放电质谱微孔超声波清洗干燥工艺去除预设清洗残留陶瓷片表面金属溶解金属杂质杂质去除低熔点多微孔检测吸附蒸发

[发明专利]一种带钢清洗工艺优化设定的方法、系统及装置-CN202310348899.5在审
发明人：夏志;王耀;张毅;熊俊伟;杨国良 -专利权人：中冶南方工程技术有限公司
申请日： 2023-04-04 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： G06F30/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种带钢清洗工艺优化设定的方法、系统及装置，该方法包括：S1.采集清洗工艺参数，根据清洗工艺参数构建清洁度预测模型；S2.根据出口清洁度目标值，获取清洗工艺参数的优化设定的工艺变量组合；S3.根据清洗机组实时的清洗工艺参数，利用清洁度预测模型计算出工艺变量组合的预测出口清洁度；S4.判断预测出口清洁度是否大于或等于出口清洁度目标值，若是，则将能源介质消耗较小的预测出口清洁度对应的工艺变量组合下发给清洗工艺设备执行，若否，则优化清洗工艺参数，获取新的工艺变量组合，并重新执行S3。本发明可以最小化过度清洗，避免清洗不足，提高带钢表面清洁度，还能降低清洗工艺段运行成本。
一种带钢清洗工艺优化设定方法系统装置

[发明专利]一种镭雕成型工艺-CN201810529577.X在审
发明人：洪志辉;李健伟 -专利权人：东莞市环力智能科技有限公司
申请日： 2018-05-29 - 公布日： 2019-12-06 - 主分类号： B23P15/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种镭雕成型工艺，包括有以下工艺：冲压工艺、清洗工艺、喷砂工艺、氧化工艺及镭雕工艺；冲压工艺包括有采用撕贴保护膜机构进行半带保护膜冲压；清洗工艺包括有采用自动化超声波清洗槽进行清洗，先采用脱脂剂进行清洗，再进行清水清洗，再采用除油除锈剂进行清洗，最后进行清水清洗并拉干，其整个清洗过程采用自动化搬运机械手进行搬运；喷砂工艺包括有采用全自动喷砂机进行喷砂，氧化工艺包括有采用氧化槽进行氧化，根据不同颜色调节阳极电压、阳极时间及染色时间；镭雕工艺包括采用激光镭雕机根据根据客户要求镭雕产品上面的装饰图案、LOGO进行镭雕成品。本发明具有简化了其成型工艺，提高了生产效率的优点。
镭雕清洗成型工艺冲压工艺镭雕工艺喷砂工艺清水清洗清洗工艺氧化工艺保护膜自动化超声波清洗槽全自动喷砂机搬运机械手阳极激光镭雕客户要求清洗过程生产效率颜色调节阳极电压装饰图案冲压除锈剂脱脂剂氧化槽染色除油喷砂搬运

[发明专利]一种铝板料连续性瓷质纹理图案效果阳极光氧化复合工艺-CN201310004616.1有效
发明人：欧海锋;蒋胜求;顾湘;周利民 -专利权人：佛山泰铝新材料有限公司
申请日： 2013-01-07 - 公布日： 2013-04-24 - 主分类号： C25D11/04 文献下载
摘要：本发明所为一种铝板料连续性瓷质纹理图案效果阳极光氧化复合工艺，该工艺的处理流程为：铝板料放卷→丝印工艺→酸蚀除脂出光工艺→水清洗→酸砂腐蚀工艺或酸性纹理蚀刻工艺→水清洗→酸蚀出光工艺→水清洗→中和工艺→水清洗→除油墨工艺→水清洗→阳极氧化工艺→水清洗烘干→光氧化防护封闭工艺→收卷。本发明在采用了上述方案后，经本发明工艺处理过的铝板料，具有耐老化，耐空气腐蚀，装饰效果均比普通阳极氧化工艺好，产品纹理多变，色彩绚丽，工艺环保节能等特点。
一种板料连续性纹理图案效果阳极光氧化复合工艺

[发明专利]干式蚀刻工艺后的清洗工艺-CN200510119318.2无效
发明人：蔡健华;吴宜静 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2005-11-03 - 公布日： 2007-05-09 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种清洗工艺，适于对一芯片进行干式蚀刻工艺后进行。此干式蚀刻工艺是于一反应室中进行。此清洗工艺用以移除上述干式蚀刻工艺的副产物。此清洗工艺包括将不活泼气体导入反应室中，以清洗反应室。此清洗工艺可以避免后续的金属内连线工艺产生缺陷。
蚀刻工艺清洗

[发明专利]半导体工艺设备中清洗配置的更新方法和装置-CN202110184132.4在审
发明人：庄璐 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2021-02-10 - 公布日： 2021-06-22 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明实施例提供了一种半导体工艺设备中清洗配置的更新方法和装置，该方法包括：控制端接收半导体工艺设备发送的料盒信息，基于料盒信息，确定料盒中待加工件对应的加工工艺及加工工艺对应的目标清洗配置，查询半导体工艺设备中用于加工待加工件的工艺腔室的当前清洗配置，判断当前清洗配置与目标清洗配置是否匹配，如果否，则向半导体工艺设备发送配置更新指令，将当前清洗配置更新为目标清洗配置。控制端可以直接的对半导体工艺设备中工艺腔室的清洗配置进行更新，避免用户手动设置清洗配置的过程，从而可以提高芯片的生产效率。
半导体工艺设备清洗配置更新方法装置

[实用新型]胶塞或铝盖清洗系统-CN201220080249.4有效
发明人：谭亮;陈双好;贺建军;唐岳 -专利权人：楚天科技股份有限公司
申请日： 2012-03-06 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： B08B3/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种胶塞或铝盖清洗系统，包括可编程控制器和清洗组件；还包括工艺配方模块和存储模块，工艺配方模块用来对清洗工艺进行设定和编辑并将编辑好的清洗工艺配置信息保存至一存储模块中，可编程控制器与工艺配方模块相连并通过工艺配方模块从存储模块调用清洗工艺配置信息后输出控制指令给清洗组件本实用新型可根据用户实际需求自由配置各种不同清洗工艺，且操作简便、自动化程度高。
清洗系统

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