专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]泥石流监测系统及其方法-CN202210737138.4在审
  • 赵思奕;郑建涛;杨剑;李晴;田仲伟;马铭远 - 中国华能集团清洁能源技术研究院有限公司
  • 2022-06-27 - 2022-10-14 - G08B21/10
  • 本申请提出了一种泥石流监测系统及其方法,涉及地质监测领域。本申请提出的泥石流监测系统,包括:冲击力获取单元、深度获取单元、光伏供能单元、数据存储单元和风险告警单元;其中,光伏供能单元分别与冲击力获取单元和深度获取单元通过供电电缆相连接,冲击力获取单元和深度获取单元分别与数据存储单元通过数据传输电缆相连接,数据存储单元与风险告警单元通过无线方式进行通信,本申请提出的泥石流监测系统,实现了泥位与冲击力监测的一体化,能通过直接监测实时冲击力数据和实时深度数据,生成泥石流趋势变化曲线,对发展趋势和破坏程度做出准确的评估
  • 泥石流监测系统及其方法
  • [发明专利]一种水质剖面监测系统及方法-CN201610817360.X在审
  • 卢山;吴琼 - 北京智明生科技有限公司
  • 2016-09-12 - 2016-12-14 - G01N33/18
  • 本发明公开了一种水质剖面监测系统及方法,系统包括升降绞车装置、控制器和水质监测仪;升降绞车装置包括基座,基座上连接有绞车电缆卷筒、回旋螺杆轴和导向轴,回旋螺杆轴和导向轴上设有电缆导向滑架,绞车电缆卷筒上布置有电缆,电缆的一端与控制器相连,电缆的另一端穿过过线孔与设有深度传感器的水质监测仪相连;所述的方法包括预先设定下潜深度并进行下潜,根据实际下潜深度和预设深度是否相等判断是否继续下潜直至下潜至预设深度完成水质监测本发明能够准确的获取水体中不同水层的水质参数的变化,使数据有可比性及具有参考/研究的价值,进而大大提高环境监测(水质监测)领域及研究领域的效益。
  • 一种水质剖面监测系统方法
  • [发明专利]一种多功能监测井装置系统及使用方法-CN202210030051.3在审
  • 不公告发明人 - 上海毅同环境技术有限公司
  • 2022-01-12 - 2022-04-08 - G01N1/14
  • 本发明公开了一种多功能监测井装置系统及使用方法,包括多功能监测井装置、吹气系统、出水系统及PLC电控系统,其特征在于:所述的多功能监测井装置为上下密封成型圆管。本发明装置应用于污染场地的地下水采样检测,建设深度为地下水污染深度,多功能监测井装置系统在使用过程,首先由PLC电控系统开启空气压缩存储集成设备,进行高压空气储存;开启吹气管线电磁阀,5秒后同时开启出水系统所有的电磁阀和电磁泵,进行洗井;待无较浑水洗出时,先关闭吹气体系,逐渐关闭出水系统;打开井出水管口上部排气阀,待监测井回满地下水后,开启固定管路的电磁阀和电磁泵进行固定深度地下水的抽水取样。
  • 一种多功能监测装置系统使用方法
  • [发明专利]刻蚀深度监测系统-CN202211471245.3有效
  • 杨俊;余良;陈骁;冯锐;朱普磊;相奇 - 广东芯粤能半导体有限公司
  • 2022-11-23 - 2023-04-28 - H01L21/67
  • 本申请涉及一种刻蚀深度监测系统,包括:上位机;刻蚀腔室;刻蚀腔室内具有载台,载台之上承载有晶圆;激光器,位于刻蚀腔室的上方,用于产生入射光信号;第一电机,一端与激光器连接,另一端与上位机连接;光线控制装置另一端与上位机连接;光线控制装置的下表面的一侧还设置有第一探测器,第一探测器与上位机连接;第一探测器用于接收第一干涉光信号,并将第一干涉光信号传输至上位机;上位机还用于根据第一干涉光信号得到晶圆的刻蚀深度采用本申请的刻蚀深度监测系统能够提高监测准确度。
  • 刻蚀深度监测系统
  • [发明专利]基于多参数指标的围术期麻醉深度监测系统-CN202211124396.1在审
  • 段立华;王乃菲;张沙;张宏媛;马宏伟;高景 - 河北省胸科医院
  • 2022-09-15 - 2022-11-11 - A61B5/00
  • 本发明公开了基于多参数指标的围术期麻醉深度监测系统,包括多参数采集模块、处理模块、对比模块以及存储模块,多参数采集模块采集患者的多项特征数据,特征数据传输至处理模块处理后,传输至对比模块,对比模块对比未麻醉特征数据与麻醉特征数据,计算当前麻醉深度,最后通过存储模块存储经处理模块处理后的特征数据。本发明监测系统通过对患者进行多参数采集,并在麻醉过程中,对比患者术前未麻醉特征数据以及麻醉特征数据后计算麻醉深度系统对麻醉深度监测精度高,从而避免麻醉深度过大对患者造成伤害或麻醉深度过小导致患者在围术期间感受到疼痛的问题发生
  • 基于参数指标围术期麻醉深度监测系统
  • [发明专利]监测系统和方法-CN201911225318.9有效
  • 王敏捷;梁雨时 - 上海图漾信息科技有限公司
  • 2019-12-04 - 2023-08-29 - H04N7/18
  • 公开了一种监测系统和相应方法。所述系统,包括:多个深度摄像头,多个深度摄像头被布置在目标场所的不同位置处,用于对该目标场所中的不同目标区域进行监测;以及与多个深度摄像头相连的计算设备,用于从多个深度摄像头各自拍摄的图像中获取深度信息,计算设备进一步用于:基于获取的深度信息,追踪目标对象;并且在切换深度摄像头追踪所述目标对象时,基于切换前深度摄像头拍摄图像中的表征所述目标对象的深度信息,在切换后深度摄像头的拍摄图像中锚定所述目标对象本发明的监测方案通过将追踪目标在多个深度摄像头之间锚定,能够实现针对目标对象的无缝追踪。上述锚定能够与目标场所的三维模型相结合,以提供更为直观的可视化表示。
  • 监测系统方法
  • [发明专利]一种水雷掩埋状态自监测系统-CN202211579468.1在审
  • 张英杰;付继伟;郑伟 - 宜昌测试技术研究所
  • 2022-12-09 - 2023-06-06 - G01V8/10
  • 本发明涉及一种水雷掩埋状态自监测系统,属于检测装置技术领域。所述自监测系统包括用于深度传感器、光发射传感器和光敏接收传感器;初始时,光发射传感器不通电;水雷下沉到位后,深度传感器采集水雷在水中的深度:若深度传感器采集到水雷在水中的深度小于或等于设定阈值A,若光敏接收传感器能检测到自然光,表明水雷未被掩埋;否则,表明水雷被掩埋;若深度传感器采集到水雷在水中的深度大于设定阈值A,光发射传感器通电;若光敏接收传感器能检测到光发射传感器发射出的设定波长的光,表明水雷没有被掩埋,否则,表明水雷被掩埋所述自监测系统能在不同的场景下实现对水雷是否被掩埋的情况进行精准判断。
  • 一种水雷掩埋状态监测系统

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