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[发明专利]一种浸液式废水浮盘、制备方法及其工作方法-CN201910352463.7在审
发明人：苏进发;张倜哲 -专利权人：上原石化设备（常州）有限公司;江苏龙禾轻型材料有限公司
申请日： 2019-04-29 - 公布日： 2019-09-24 - 主分类号： B08B15/02 文献下载
摘要：本发明属于浮盘密封技术领域，具体涉及一种浸液式废水浮盘、制备方法及其工作方法。本浸液式废水浮盘包括：所述浸液式废水浮盘适于采用浸液的方式浮在废水池液面上。本发明的浸液式废水浮盘、制备方法及其工作方法，所述浸液式废水浮盘通过采用浸液方式浮在废水池液面上，完全贴合液面，无油汽空间，有效防止VOCs的逸散。
浮盘浸液式废水制备废水池浸液密封技术领域汽空间贴合无油液面逸散

[发明专利]连续式浸液轧液设备及其浸液轧液方法-CN201610235966.2有效
发明人：刘志军;李满武;吴伟强;杨江源;朱学勳;段亮 -专利权人：晋江市隆盛针织印染有限公司
申请日： 2016-04-15 - 公布日： 2017-11-17 - 主分类号： D06B3/18 文献下载
摘要：本发明提供了一种连续式浸液轧液设备，包括浸液槽、第一轧液装置、第二轧液装置、第三轧液装置、排水装置和报警装置，浸液槽内设有隔板将浸液槽分隔成第一浸液槽和第二浸液槽，隔板底端与浸液槽底板存在间隙使得第一浸液槽和第二浸液槽互相连通，隔板中间还设有通孔；浸液槽顶部前端设有第一轧液装置，浸液槽顶部后端设有第三轧液装置，浸液槽顶部中间设有第二轧液装置，排水装置设于第一轧液装置的下方，浸液槽中部还设有用于对浸液槽内的起毛助剂浓度进行监控的报警装置；本发明还提供了一种连续式浸液轧液设备的浸液轧液方法。采用本发明设备及方法进行生产能够有效节约生产成本，能够实现连续式加工生产，有效提高生产效率和生产质量。
连续浸液设备及其方法

[实用新型]连续式浸液轧液设备-CN201620321270.7有效
发明人：刘志军;李满武;吴伟强;杨江源;朱学勳;段亮 -专利权人：晋江市隆盛针织印染有限公司
申请日： 2016-04-15 - 公布日： 2016-08-24 - 主分类号： D06B3/18 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种连续式浸液轧液设备，包括浸液槽、第一轧液装置、第二轧液装置、第三轧液装置、排水装置和报警装置，浸液槽内设有隔板将浸液槽分隔成第一浸液槽和第二浸液槽，隔板底端与浸液槽底板存在间隙使得第一浸液槽和第二浸液槽互相连通，隔板中间还设有通孔；浸液槽顶部前端设有第一轧液装置，浸液槽顶部后端设有第三轧液装置，浸液槽顶部中间设有第二轧液装置，排水装置设于第一轧液装置的下方，浸液槽中部还设有用于对浸液槽内的起毛助剂浓度进行监控的报警装置采用本实用新型设备进行生产能够有效节约生产成本，能够实现连续式加工生产，有效提高生产效率和生产质量。
连续浸液设备

[发明专利]制造微芯片的方法和设备-CN200480037149.1无效
发明人：沙哈比·雅罗米;迪特里克·维尼克;莱昂纳德斯·格拉尔杜斯·伯纳德斯·布雷梅尔 -专利权人：帝斯曼知识产权资产管理有限公司
申请日： 2004-10-28 - 公布日： 2007-01-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：通过使用浸入式光刻来制造微芯片的方法，其中浸液包含添加剂，以使该浸液与不含该添加剂的浸液相比折射率升高。本方法中的曝光光线提高了分辨率，从而获得具有增大集成密度的微芯片。本发明还涉及浸液以及包含该浸液的浸入式光刻设备。
制造芯片方法设备

[发明专利]一种用于浸没式光刻的浸液温控系统-CN201310079232.6有效
发明人：李小平;石文中;汤中原;何俊伟 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2013-03-13 - 公布日： 2013-06-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，通过其获得具有稳定温度的浸液，以用于浸没式光刻工艺中，其特征在于，该温控系统包括：用于浸液流动的浸液管路，待温控的浸液通过管路进口进入该浸液管路，温控后的浸液通过该浸液管路出口输出；用于对所述浸液进行冷却的工艺冷却液回路，工艺冷却液在该回路中循环流动；以及热交换器（6），所述浸液管路和工艺冷却液回路同时流经该热交换器（6），利用该热交换器（6）完成工艺冷却液和浸液的热交换，获得具有稳定温度的浸液，实现对浸液的温度控制。本发明的装置采用内部回流结构与热交换器相结合实现对浸液温度的控制，可以实现浸没光刻中对浸液稳定的精确稳定的控制，提供温控效率。
一种用于浸没光刻浸液温控系统

[发明专利]浸液系统及其供给控制方法-CN201410510062.7有效
发明人：赵丹平;聂宏飞;秦少伍;张崇明 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2014-09-28 - 公布日： 2018-05-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种适用于浸没式光刻机的浸液系统，包括用于向光刻机浸没头内供给浸液的浸液供给系统，用于回收所述浸液的浸液回收系统，用于测量所述浸液的液压、流量、纯净度和温度的浸液测量系统，用于控制所述浸液的液压、流量、纯净度和温度的浸液控制系统，其中，所述浸液供给系统为溢流式浸液供给系统，所述溢流式浸液供给系统与所述浸液控制系统相结合。本发明还提供一种所述浸液系统的供给控制方法，通过上述浸液系统的循环控制，使供给浸液的液压和温度稳定。
浸液系统及其供给控制方法

[发明专利]精确控制浸没式光刻机浸液温度的装置及其温控方法-CN201410199568.0有效
发明人：李小平;纪辉强;石文中 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2014-05-12 - 公布日： 2014-08-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种精确控制浸没式光刻机浸液温度的装置，包括增压泵；初级热交换器，其浸液入口与增压泵出口连通，浸液在其中进行热交换，实现浸液温度的初级调控；次级热交换器，其浸液入口与初级热交换器浸液出口连通，浸液在其中进行再次热交换，实现浸液温度的次级调控；流量伺服阀，其入口与初级热交换器浸液出口连通，与次级热交换器形成并联，用于调节进入次级热交换器的浸液流量。通过协调控制进入初级热交换器和次级热交换器的冷媒流量，并结合流量伺服阀对进入次级热交换器的浸液流量的调节，可实现对浸液温度的两级调控，从而获得温度稳定且精确的浸液以用于浸没式光刻工艺。
精确控制浸没光刻浸液温度装置及其温控方法

[发明专利]浸液式电池箱温度控制系统-CN201410790500.X有效
发明人：曹雷;张宇 -专利权人：北京长城华冠汽车科技股份有限公司
申请日： 2014-12-17 - 公布日： 2019-04-02 - 主分类号： H01M10/617 文献下载
摘要：本发明是有关一种浸液式电池箱温度控制系统。该浸液式电池箱温度控制系统包括：浸液式电池箱；第一降温管路；第二降温管路；第三降温管路；温度传感器，设置于该浸液式电池箱的电池组侧，检测该电池组的温度；以及温度控制单元，接收该温度传感器发送的该电池组的温度信号本发明的浸液式电池箱温度控制系统，其具有优异的温度控制和温度均衡能力。
浸液电池温度控制系统

[实用新型]一种并联式浸渍设备-CN202123245865.9有效
发明人：李诚 -专利权人：江苏神州万隆节能环保科技有限公司
申请日： 2021-12-22 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： B05C3/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种并联式浸渍设备，包括浸液罐；所述浸液罐的正面底端设有浸渍罐，浸渍罐的内部侧面等间距设有四组固定架，固定架的表面设有加热板，所述浸渍罐的内部中央位置设有装料架，装料架的内部设有石墨电极，所述浸液罐的顶端设有浸液进口，浸液罐的表面底端等间距设有浸液出口，浸液罐的表面设有电磁阀，所述浸液罐的底端设有支撑架，所述加热板的表面设有导热板，导热板的侧面设有橡胶密封条，所述固定架的表面位于橡胶密封条对应处设有密封槽；本实用新型采用了浸液罐和多组浸液出口以及电磁阀结构，实现了浸液罐对多个浸渍罐同时进行送料作业，使得对浸液罐进行充分利用，避免了浸液罐过度浪费，从而降低了生产成本。
一种并联浸渍设备

[发明专利]带有浸液回收装置和激光干涉仪的硅片台双台交换系统-CN201210576830.X有效
发明人：朱煜;张鸣;刘召;成荣;田丽;徐登峰;杨开明;胡金春;尹文生;穆海华;刘昊;胡楚雄 -专利权人：清华大学
申请日： 2012-12-26 - 公布日： 2013-04-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：带有浸液回收装置和激光干涉仪的硅片台双台交换系统，该系统含有基台，两个硅片台，光学透镜系统、多轴激光干涉仪和激光干涉仪反射镜。硅片台带有浸液回收装置，硅片台上表面的一侧设有一块浸液回收板，浸液回收板的上表面与硅片台上表面共面，浸液回收板的侧面有一排小孔，小孔与硅片台外部的浸液回收容器相连接，用于浸没液体的回收，硅片台外围四边设置一套防撞气囊装置当两硅片台完成交换时，硅片台上的浸液回收板设计保证了交换时浸液循环不用中断，提高了生产效率；气囊式防撞结构具有可伸缩性，与机械式防撞相比刚度低，且结构简单紧凑，可应用于光刻机双台交换系统。
带有浸液回收装置激光干涉仪硅片台双台交换系统

[发明专利]一种带有浸液回收装置的光刻机硅片台双台交换系统-CN201210576850.7有效
发明人：张鸣;朱煜;成荣;徐登峰;刘召;王婧;田丽;杨开明;胡金春;尹文生;穆海华;刘昊;胡楚雄 -专利权人：清华大学
申请日： 2012-12-26 - 公布日： 2013-04-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种带有浸液回收装置的光刻机双台交换系统，该系统含有基台，两个硅片台，光学透镜系统、多轴激光干涉仪和激光干涉仪反射镜。硅片台带有浸液回收装置，硅片台上表面的一侧设有一块浸液回收板，浸液回收板的上表面与硅片台上表面共面，浸液回收板的侧面有一排小孔，小孔与硅片台外部的浸液回收容器相连接，用于浸没液体的回收，硅片台外围四边设置一套防撞气囊装置当两硅片台完成交换时，硅片台上的浸液回收板设计保证了交换时浸液循环不用中断，提高了生产效率；气囊式防撞结构具有可伸缩性，与机械式防撞相比刚度低，且结构简单紧凑，可应用于光刻机双台交换系统。
一种带有浸液回收装置光刻硅片台双台交换系统

[发明专利]用于浸没式光刻的浸液温控装置-CN201310078820.8有效
发明人：李小平;石文中;汤中原;何俊伟 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2013-03-13 - 公布日： 2013-06-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，包括：用于浸液流动的浸液管路，待温控的浸液通过一管路进口进入该浸液管路，温控处理后的具有稳定温度的浸液通过该浸液管路的出口输出；用于对所述浸液进行冷却的工艺冷却液回路，工艺冷却液在该回路中循环流动；以及多个热交换器，其沿流向依次布置，所述浸液管路和工艺冷却水回路同时流经每个热交换器，并利用各热交换器分别依次完成工艺冷却液和浸液之间的热交换，从而通过多次换热获得具有稳定温度的浸液，实现对浸液的温度控制。本发明的装置系统采用内部回流结构与多级热交换器相结合，实现对浸液温度的多级控制，可以实现浸没光刻中对浸液稳定的精确稳定的控制，提供温控效率。
用于浸没光刻浸液温控装置

[实用新型]一种用于生产电容器的含浸液双重静置式过滤装置-CN201821847767.8有效
发明人：姜俊 -专利权人：南京永立电子有限公司
申请日： 2018-11-10 - 公布日： 2019-07-02 - 主分类号： H01G13/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于生产电容器的含浸液双重静置式过滤装置，包括：过滤桶、过滤芯、进液口、静置池、若干输液管、储水池和出液口，所述进液口连通连接所述过滤桶的顶部，所述过滤芯设置在所述过滤桶内，所述静置池连通连接所述过滤桶的底部通过上述方式，本实用新型用于生产电容器的含浸液双重静置式过滤装置通过采用含有若干过滤通孔的过滤芯对含浸液实现过滤作用，采用静置池对过滤后的含浸液实现静置，然后利用若干输液管将静置池上层纯净的含浸液输送到储水池内实现再次静置，将上层纯净的含浸液从出液口中输出，在用于生产电容器的含浸液双重静置式过滤装置的普及上有着广泛的市场前景。
含浸液电容器过滤装置过滤桶静置池过滤芯本实用新型储水池进液口输液管连通上层生产过滤通孔过滤作用出液口过滤输出

[发明专利]进行湿浸式光刻的方法、湿浸式光刻系统、及装置-CN200610095876.4无效
发明人：张庆裕;林本坚 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2006-06-30 - 公布日： 2007-01-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种湿浸式光刻的方法、湿浸式光刻系统、及装置，包括：湿浸液体座架，用于包含湿浸液体；夹片台，用于将涂布有光致刻蚀剂的半导体晶片放置在该湿浸液体座架内；以及镜头，紧邻该湿浸液体座架并且可被放置用于通过该湿浸液体而将影像投影在该涂布有光致刻蚀剂的半导体晶片上本发明所述的湿浸式光刻的方法和装置可以使湿浸镜头反应室免于遭受缺陷附着。另外，本发明可以减少镜头、光致刻蚀剂、传感器、晶片夹片台和湿浸液体座架间的交互污染。另外，本发明还可以减少装置维修频率和复杂度。
进行湿浸式光刻方法系统装置

[实用新型]一种集成式扫描、浸液一体机构-CN201921113410.1有效
发明人：陈俊荣;韩桂英;张建清;侯秀茹;崔改冰;李威;刘克剑;常丽凯;霍建全;杨占勋 -专利权人：保定四方三伊电气有限公司
申请日： 2019-07-16 - 公布日： 2020-04-28 - 主分类号： C21D1/667 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种集成式扫描、浸液一体机构，包括集成式扫描浸液一体机床、槽路柜升降机构和水系统切换系统，将长轴扫描工位和大直径盘类浸液工位集成在集成式扫描浸液一体机床上，可以实现长轴扫描工位和大直径盘类浸液工位的切换，槽路柜升降机构能够实现对两工位的切换，工位切换后也能实现感应器中心与零件中心的对准加热，水系统切换系统适应于工位切换，根据使用的工位不同通过控制水系统切换系统中设置的不同阀体开关，控制不同工位的喷淋浸液管路开启
一种集成扫描浸液一体机构

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