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[实用新型]一种气体氮化炉设备-CN201520955201.7有效
发明人：王群华;陈翔;韩志春 -专利权人：盐城丰东特种炉业有限公司
申请日： 2015-11-26 - 公布日： 2016-05-25 - 主分类号： C23C8/24 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种气体氮化炉设备,其包括：依次设置的前推料装置、气体氮化炉前室、气体氮化炉中门户袋、气体氮化炉后室和后出料台，所述气体氮化炉前室、气体氮化炉中门户袋和气体氮化炉后室依次相连接。与现有技术相比，本实用新型的气体氮化炉，其能够批量周期化产品生产零件的表面渗氮处理，处理效率高。
一种气体氮化设备

[发明专利]一种氮化双向供气装置以及氮化双向供气系统-CN201811544262.9在审
发明人：李春 -专利权人：江苏丰东热技术有限公司
申请日： 2018-12-17 - 公布日： 2019-03-08 - 主分类号： F17D1/04 文献下载
摘要：本发明提供了一种氮化双向供气装置以及氮化双向供气系统，涉及氮化设备领域，该氮化双向供气装置包括氮化炉、炉顶供气机构和炉底供气机构，炉顶供气机构设置在氮化炉的顶部，用于从顶部向氮化炉通入气体，炉底供气机构设置在氮化炉的底部，用于从底部向氮化炉通入气体。在实际使用时，通过炉顶供气机构从氮化炉的顶部通入氮化气体，通过炉底供气机构从氮化炉的底部通入氮化气体，使得氮化气体能够充分填充在氮化炉内部，并与氮化炉内的工件充分接触，使得氮化炉内的工件都能接受到活性氮分子，保证氮化产品的质量。相较于现有技术，本发明提供的一种氮化双向供气装置，能够从顶部和底部同时供气，使得工件氮化均匀，保证氮化产品质量。
氮化氮化炉双向供气氮化气体供气机构炉底供气炉顶充分接触机构设置设备领域活性氮供气填充保证

[实用新型]一种不锈钢低温气体氮化设备-CN202020350362.4有效
发明人：吴俊平;刘思佳;宋绪臻;李丹 -专利权人：青岛丰东热处理有限公司
申请日： 2020-03-18 - 公布日： 2021-01-26 - 主分类号： C23C8/26 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种不锈钢低温气体氮化设备，其包括气体氮化炉本体，所述气体氮化炉本体下壁面固定安装有支撑板，所述支撑板下壁面四角处设置有移动轮，所述气体氮化炉本体侧壁面装配有防护结构；该不锈钢低温气体氮化设备结构简单，设计合理，通过设置的移动轮方便于对装置的搬运，并且通过在气体氮化炉本体外设置的防护结构可以对气体氮化炉本体受到外物撞击时起到一定的缓冲保护作用，避免气体氮化炉本体受到外部撞击对内部气体形成挤压，造成爆炸
一种不锈钢低温气体氮化设备

[实用新型]一种氮化双向供气装置以及氮化双向供气系统-CN201822123558.5有效
发明人：李春 -专利权人：江苏丰东热技术有限公司
申请日： 2018-12-17 - 公布日： 2019-09-17 - 主分类号： F17D1/04 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种氮化双向供气装置以及氮化双向供气系统，涉及氮化设备领域，该氮化双向供气装置包括氮化炉、炉顶供气机构和炉底供气机构，炉顶供气机构设置在氮化炉的顶部，用于从顶部向氮化炉通入气体，炉底供气机构设置在氮化炉的底部，用于从底部向氮化炉通入气体。在实际使用时，通过炉顶供气机构从氮化炉的顶部通入氮化气体，通过炉底供气机构从氮化炉的底部通入氮化气体，使得氮化气体能够充分填充在氮化炉内部，并与氮化炉内的工件充分接触，使得氮化炉内的工件都能接受到活性氮分子，保证氮化产品的质量。相较于现有技术，本实用新型提供的一种氮化双向供气装置，能够从顶部和底部同时供气，使得工件氮化均匀，保证氮化产品质量。
氮化氮化炉双向供气氮化气体供气机构炉底供气炉顶本实用新型充分接触机构设置设备领域活性氮供气填充保证

[发明专利]用于形成氮化物膜的方法-CN201110446839.4无效
发明人：藤井干;松永正信;山本和弥;梅泽好太 -专利权人：尔必达存储器株式会社;东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-12-28 - 公布日： 2012-07-04 - 主分类号： H01L21/203 文献下载
摘要：公开了一种用于形成氮化物膜的方法。其中公开了使用垂直炉的等离子体辅助ALD方法，并且通过重复循环直到获得期望的膜厚度来执行该方法。该循环包括引入包含待被氮化的源的源气体、吸收、吹扫、引入氮化气体并且氮化该源，并且随后吹扫。相对于引入源气体期间的第一运载气体的流量，减少引入氮化气体期间的第二运载气体的流量。特别地，作为氮化气体的NH3气体与作为第二运载气体的N2气体的流量比为50∶3或更低。
用于形成氮化物方法

[发明专利]成膜方法及成膜装置-CN201910440025.6有效
发明人：中村秀雄;芹泽洋介;出野由和;芦泽宏明;清水隆也;村上诚志 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-05-24 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： C23C16/34 文献下载
摘要：本发明的课题是提供一种能够使用基于ALD的成膜方法在较低温度下成膜良好膜质的氮化膜的成膜方法及成膜装置。本发明的成膜方法是在腔室内于基板上成膜为氮化膜的成膜方法，重复进行原料气体吸附工序和氮化工序，且供给肼系化合物气体作为氮化气体的一部分或者全部，其中，所述原料气体吸附工序包括向基板上供给构成氮化膜的包含金属元素的原料气体的步骤、及对残留气体进行吹扫的步骤；所述氮化工序包括向基板上供给氮化气体的步骤、及对残留气体进行吹扫的步骤。
方法装置

[发明专利]多元快速氮化固体粉状催渗剂-CN201410125186.3在审
发明人：石淑琴;李全福 -专利权人：浙江机电职业技术学院
申请日： 2014-03-31 - 公布日： 2015-10-21 - 主分类号： C23C8/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种适用于气体氮化、气体加氧氮化及气体软氮化工艺的多元快速氮化固体粉状催渗剂，固体粉状催渗剂的成分组成（重量百分比）：铁铝镁硅合金75～85%、氯化铵5～10%和氯化稀土（或氧化稀土）10～15%优点：一是使气体氮化周期大幅缩短(渗速提高50%以上)、无脆性、对氮化材料要求低；二是使气体加氧氮化周期大幅缩短(渗速提高40%以上)、无脆性、对氮化材料要求低；三是使气体软氮化渗层增厚（渗层增厚30%
多元快速氮化固体粉状催渗剂

[发明专利]通过选择性氮化硼或氮化铝沉积的高度选择性氧化硅/氮化硅蚀刻-CN202080033390.6在审
发明人：蔡宇浩;张度;王明美 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-06-16 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：一种用于相对于氮化硅选择性蚀刻氧化硅的方法包括：将衬底暴露于第一气体，该第一气体在氧化硅膜上形成第一层并且在氮化硅膜上形成第二层，其中该第一气体含有硼、铝、或硼和铝二者；将该衬底暴露于含氮气体，该含氮气体与该第一层反应在该氧化硅膜上形成第一氮化物层，并且与该第二层反应在该氮化硅膜上形成第二氮化物层，其中该第二氮化物层的厚度大于该第一氮化物层的厚度。该方法进一步包括将该衬底暴露于蚀刻气体，该蚀刻气体蚀刻该第一氮化物层和氧化硅膜，其中该第二氮化物层保护该氮化硅膜免于被该蚀刻气体蚀刻。
通过选择性氮化沉积高度氧化蚀刻

[发明专利]凹部的填埋方法-CN201710293704.6有效
发明人：清水亮 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-04-28 - 公布日： 2022-03-11 - 主分类号： H01L21/318 文献下载
摘要：提供能够在微细的凹部不产生空隙、缝地填入氮化膜的凹部的填埋方法。重复进行成膜原料气体吸附工序和氮化工序从而在凹部内形成氮化膜而填埋凹部，所述成膜原料气体吸附工序：使表面形成有凹部的被处理基板吸附含有想要成膜的氮化膜的构成元素的成膜原料气体；所述氮化工序：通过活化氮化气体而生成的氮化物种，使前述吸附的成膜原料气体氮化，此时将形成氮化膜的期间的至少一部分设为自下而上生长期间，在该自下而上生长期间，以气相状态供给能够吸附于被处理基板的表面的高分子材料，使之吸附于凹部的上部，阻碍成膜原料气体的吸附，使氮化膜自凹部的底部生长。
方法

[实用新型]一种辅助氮气循环利用的液体氮化炉用装置-CN201621245804.9有效
发明人：廖盛峰 -专利权人：惠州市鹏盛峰实业有限公司
申请日： 2016-11-18 - 公布日： 2017-05-17 - 主分类号： C23C8/24 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种辅助氮气循环利用的液体氮化炉用装置，包括杂质气体回收装置、液体氮化炉主体和吸附膜层，所述液体氮化炉主体的下方设置有防护层，所述液体氮化炉主体的上方安装有液体氮化炉炉盖，所述液体氮化炉炉盖的左侧安装有驱动块，所述液体氮化炉炉盖的上方安装有控制器，所述控制器的右侧安装有温度检测控制仪，所述液体氮化炉炉盖的右侧安装有杂质气体回收装置，所述杂质气体回收装置的下方设置有气体浓度探头，所述液体氮化炉主体的左侧安装有循环装置本实用新型通过在设备上设置有干燥过滤网，对回收的氮气进行干燥和过滤，首先能够排除杂质气体，其次使得气体的干燥性较高，增加氮化时的效率。
一种辅助氮气循环利用液体氮化装置

[发明专利]成膜方法和成膜装置-CN202010789975.2在审
发明人：羽根秀臣;大槻志门;小山峻史;向山廉;小川淳;吹上纪明 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-08-07 - 公布日： 2021-02-23 - 主分类号： C23C16/34 文献下载
摘要：[课题]在表面露出有第1膜和第2膜的基板上成膜氮化硅膜时，抑制第1膜或第2膜的氮化，且使第1膜上和第2膜上的各氮化硅的膜厚一致。[解决方案]实施如下工序：向基板供给由具有Si‑Si键的卤化硅构成的处理气体的工序；向基板供给未经等离子体化的第2氮化气体的工序；依次重复进行供给处理气体的工序与供给第2氮化气体的工序，形成覆盖第1膜和第2膜的氮化硅的薄层的工序；为了将氮化硅的薄层改性，向基板供给等离子体化的改性用气体的工序；和，向前述基板供给原料气体和第1氮化气体，在经改性的氮化硅的薄层上成膜氮化硅膜的工序。
方法装置

[实用新型]一种利于气体循环的氮化炉-CN201920808726.6有效
发明人：徐贤飞 -专利权人：郑州广宸新材料科技有限公司
申请日： 2019-05-31 - 公布日： 2020-03-24 - 主分类号： C23C8/24 文献下载
摘要：本实用新型涉及材料氮化设备技术领域，具体涉及一种利于气体循环的氮化炉，包括氮化炉本体，氮化炉本体外部设有至少两个换气机构，换气机构包括储气仓、气囊、杂物回收筒和气压泵，一个或多个换气机构的气压泵工作将其内部储存的气体压缩到氮化炉本体内，并将氮化炉本体内的气体排到未工作的换气机构中，从而实现更换氮化炉本体内部的辅助气体，排出的气体可在换气机构中进行过滤冷却以实现重复使用。
一种利于气体循环氮化

[发明专利]表面硬化处理装置和表面硬化处理方法-CN202080069395.4在审
发明人：平冈泰 -专利权人：帕卡热处理工业株式会社
申请日： 2020-10-09 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： C23C8/32 文献下载
摘要：本发明具备：炉内气氛气体浓度检测装置，检测出处理炉内的氢浓度或氨浓度；炉内氮化势运算装置，基于由炉内气氛气体浓度检测装置检测出的氢浓度或氨浓度，运算出处理炉内的氮化势；和气体导入量控制装置，根据运算出的处理炉内的氮化势和目标氮化势，一边将氨分解气体的导入量保持恒定，一边改变两种以上的炉内导入气体中的氨分解气体以外的各炉内导入气体的导入量，由此使处理炉内的氮化势接近上述目标氮化势。
表面硬化处理装置方法

[发明专利]耐腐蚀不锈钢零件盐浴氮化预处理与气体氮化复合热处理工艺-CN201210267198.0有效
发明人：李远松 -专利权人：鹰普航空零部件（无锡）有限公司
申请日： 2012-07-30 - 公布日： 2012-10-24 - 主分类号： C23C8/50 文献下载
摘要：本发明涉及一种耐腐蚀不锈钢零件盐浴氮化预处理与气体氮化复合热处理工艺，属于金属表面强化改性技术领域。取耐腐蚀不锈钢零件预热、盐浴氮化、清洗、气体氮化和冷却后即可得产品。本发明采用盐浴氮化预处理的设备温度均匀性好，半自动化生产，盐浴氮化预处理时零件质量状态一致受控；采用盐浴氮化预处理活化后，表层已达到浅层氮化，避免二次产生Cr2O3钝化膜影响气体氮化速度；采用盐浴氮化预处理活化并形成浅层氮化层后，对转到气体氮化间隔时间大大延长，由喷砂活化一般控制在2小时左右延长到48小时；采用盐浴氮化预处理后，节约了气体氮化的强渗时间，从原来一般强渗50小时左右缩短到33~35小时，降低了生产周期与成本。
腐蚀不锈钢零件氮化预处理气体复合热处理工艺

[发明专利]氮化膜的成膜方法及氮化膜的成膜装置-CN201911393207.9在审
发明人：村上博纪 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-12-30 - 公布日： 2020-07-17 - 主分类号： C23C16/34 文献下载
摘要：本发明涉及氮化膜的成膜方法及氮化膜的成膜装置。本发明的课题是提供在低温下能够形成氮化膜且能够减少形成有氮化膜的基底的损伤的技术。氮化膜的成膜方法多次重复包括如下工序的循环：将包含待氮化的元素的原料气体供给至基板，并在前述基板上形成包含前述元素的层的工序；对包含氢气的改性气体进行等离子体化，并利用经等离子体化的前述改性气体对包含前述元素的层进行改性的工序；和，利用热对包含氮的氮化气体进行活化，并通过利用热进行了活化的前述氮化气体对包含前述元素的层进行热氮化的工序。
氮化方法装置

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