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[发明专利]一种自适应束流的核孔膜自动生产装置及方法-CN202010528511.6有效
发明人：李运杰;王彦瑜;莫丹;武军霞;胡正国;张建川;周德泰 -专利权人：中国科学院近代物理研究所
申请日： 2020-06-11 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： B29D7/01 文献下载
摘要：本发明涉及一种自适应束流的核孔膜自动生产装置及方法，其特征在于，该装置包括束流装置、数据探测系统、控制装置和卷膜机；所述束流装置用于发出束流对辐照膜进行辐照；所述数据探测系统用于实时探测和采集所述束流装置发出束流的大小和位置；所述控制装置用于获取所述数据探测系统数据进行处理后发送指令到所述卷膜机，以使得所述卷膜机的转速与束流大小相匹配，确保核孔膜生产始终处于预期状态。
一种自适应核孔膜自动生产装置方法

[发明专利]一种蜂窝式束流均匀性检测装置-CN201110241142.3无效
发明人：胡宝富;唐景庭;谢均宇 -专利权人：北京中科信电子装备有限公司
申请日： 2011-08-22 - 公布日： 2013-03-06 - 主分类号： H01J37/304 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于离子注入机的束流均匀性检测的装置。一种离子注入机可以产生宽带束或扁状带束，为使其正常工作发明一种检测束流均匀性装置。该装置主要包括：束流收集面板(1)、齿条(2)、电机固定块(3)、齿轮(4)等。该装置特征在于，束流收集面板(1)采用蜂窝式排列束流收集框，每一个束流收集框均可以独立检测束流大小；该装置特征还在于可以检测离子束流在聚焦情况下的束斑剖面密度分布和扫描情况下的束均匀性分布，尤其可以检测宽带束流或扁状带束
一种蜂窝式束流均匀检测装置

[实用新型]生物样品辐照控制装置-CN96224338.8无效
发明人：黄新民;卫增泉 -专利权人：中国科学院近代物理研究所
申请日： 1996-12-24 - 公布日： 1998-02-04 - 主分类号： C12M1/42 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种生物样品辐照控制装置,在真空管道上装有束流快门,在真空室的出口处装有真空NI窗和束流探测器;另在电机轴上装有带样品盘的转盘;束流探测器与束流积分仪相联;束流积分仪与单片机的HSI0－HSI3口相联;单片机的P41、P42口通过电机控制单元与电机相联;单片机的P40口通过照射源束流快门控制单元与束流快门相联;单片机的P20、P21口通过通信接口单元与计算机相联;该装置的控制迅速、准确、可靠、
生物样品辐照控制装置

[发明专利]一种离子注入机束流状态侦测方法、装置、设备及介质-CN202210904799.1在审
发明人：洪克华;柴利林;王智权;何伟 -专利权人：和舰芯片制造（苏州）股份有限公司
申请日： 2022-07-29 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：本发明公开了一种离子注入机束流状态侦测方法，包括以下步骤：基于离子注入机的标准运行状态下的注入束流和牵引电流建立第一标准区间；获取注入束流和牵引电流，将注入束流与牵引电流的比值乘以第一系数以得到K1；响应于K1超出第一标准区间，离子注入机发出异常提示。本发明还公开了一种离子注入机中束流状态的侦测装置、计算机设备和可读存储介质。本发明解决本申请通过对引入多个参数表征离子注入机中的束流状态，快速监测离子注入机的异常情况，有效提升产品管理的时效性和准确性。
一种离子注入机束流状态侦测方法装置设备介质

[发明专利]一种离子注入机束流平行度测量方法-CN202111660455.2在审
发明人：孙冲;刘栋;李建基;田龙 -专利权人：北京烁科中科信电子装备有限公司
申请日： 2021-12-30 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： G01B21/22 文献下载
摘要：该发明实例提供一种测量高能离子注入机束流的平行度方法，该方法包括：数据获取单元和数据计算显示单元；其中数据获取单元包括角测法兰石墨、移动法拉第、剂量控制箱和控制器，主要用于获取高能离子注入机束流数据；数据计算显示单元包括上位机软件和计算机，主要作用是对于获取的数据进行计算处理，并根据处理后的数据分析当前束流的平行度结果。该发明实例通过以上两个单元，可以准确的测量出高能离子注入机束流的平行角度，解决了小束流时测不出平行度问题，并且操作方便，有效的提高束流平行度测量时的效率。
一种离子注入机束流平行测量方法

[发明专利]一种硬岩隧道掘进机及其刀盘-CN201911301680.X有效
发明人：刘飞香;廖金军;李胜;祝爽;蒋海华;易达云;徐震;陈望;伍容 -专利权人：中国铁建重工集团股份有限公司
申请日： 2019-12-17 - 公布日： 2021-09-10 - 主分类号： E21D9/087 文献下载
摘要：本发明公开一种硬岩隧道掘进机刀盘，包括设有若干发射孔的刀盘本体、一组高能热力束流组件和夹持组件。当岩层硬度较高时，夹持组件带动高能热力束流组件插入任一发射孔，高能热力束流组件通过发射孔加热岩层，降低岩层的点载荷强度和抗拉强度，从而降低刀盘本体的破岩难度。由于夹持组件的设置，使得一组高能热力束流组件能够选择性地插入全部发射孔中，避免增设多组高能热力束流组件至刀盘本体，刀盘本体的结构有所简化。高能热力束流组件设于刀盘本体远离岩层一侧，防止高能热力束流组件的被岩体刮伤，延长高能热力束流组件的使用寿命较长，因此有利于降低成本。本发明还公开一种包含上述硬岩隧道掘进机刀盘的硬岩隧道掘进机。
一种隧道掘进机及其

[发明专利]一种大角度离子注入机快速调束的优化算法-CN201010243066.5有效
发明人：王迪平;唐景庭;伍三忠;孙勇 -专利权人：北京中科信电子装备有限公司
申请日： 2010-08-02 - 公布日： 2012-02-08 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：本发明公开了一种大角度离子注入机快速调束的优化算法，束流优化算法使用部分：黄金搜索算法和扫描检测算法。本发明最大特点是大角度离子注入机在运行自动调束功能时，在极短的时间内能够调节出束流并能进行优化调束，工艺数据能实时处理，最终获取高品质束流。
一种角度离子注入快速优化算法

[发明专利]一种用于电子束精密调控的多级偏压电源-CN202211294940.7在审
发明人：张伟 -专利权人：星航高能科技（南京）有限公司;南京晟源企业管理合伙企业（有限合伙）
申请日： 2022-10-21 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： H02M3/28 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于电子束精密调控的多级偏压电源，其中：束流反馈电路采集电子束流反馈值并将其发送给单片机控制电路，单片机控制电路根据电子束流给定值和电子束流反馈值计算电压设定值并将其发送给偏压调节低压电路所述偏压调节低压电路包括偏压粗调电源电路、偏压细调电源电路和束流封闭电源电路。本发明大大提高了束流封闭的可靠性；可以大大提高电子束流调节的动态响应速度；可以大大提高偏压电源和电子束流的调节精度，从而实现小束流和大束流输出的高精度控制。
一种用于电子束精密调控多级偏压电源

[发明专利]一种多通道束流选择与采集系统-CN201510710334.2在审
发明人：高婷婷 -专利权人：北京中科信电子装备有限公司
申请日： 2015-10-28 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：本发明公开了一种多通道束流选择与采集系统，包括宽带离子束束流(1)、多通道选择板(2)、I/V转换板(3)、A/D转换板(4)、以及上位机(5)。该系统通过多通道选择板(2)控制宽带离子束束流的选通与截止，采集到的束流经过I/V转换板(3)转换成电压信号，A/D转换板(4)将电压信号转换为上位机识别的数字信号进而传递给上位机(5)，实现多束流的选通与采集说明书对一种多通道束流选择与采集系统作出了详细说明，并给出了具体实施方案。本发明涉及离子注入装置，隶属于半导体制造领域。
一种通道选择采集系统

[发明专利]一种静电场加速的高能离子注入机的高压防护及射线屏蔽系统-CN201510804022.8在审
发明人：袁卫华;彭立波;孙雪平;易文杰 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十八研究所
申请日： 2015-11-20 - 公布日： 2016-03-30 - 主分类号： G21F3/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种静电场加速的高能离子注入机的高压防护及射线屏蔽系统，包括含铅的屏蔽机房，所述屏蔽机房包括依次布置的束流加速预备区、束流静电加速区和束流调整区，所述束流加速预备区内依次设有离子束流、束流离子分析器和束流漂移管道，所述束流静电加速区内设有高压的束流静电加速器，所述束流静电加速器与束流漂移管道连通，所述束流静电加速区、束流加速预备区和束流调整区外周铅板厚度依次减小，而非布置成等厚的结构，在达到射线屏蔽条件下，减轻屏蔽机房的重量，节省成本，当屏蔽机房的高度达到4米或更高时，降低安装风险；本发明的连锁门与为束流静电加速器的高压电源供电的前级供电系统联动，满足可靠的高压安全防护。
一种静电场加速高能离子注入高压防护射线屏蔽系统

[发明专利]一种宽束离子注入机均匀性调节装置-CN201410475060.9有效
发明人：张进学 -专利权人：北京中科信电子装备有限公司
申请日： 2014-09-17 - 公布日： 2014-12-10 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：本发明公开了一种宽束离子注入机均匀性调节装置。为了解决宽带束均匀性难以控制的问题，所述调节装置包括分析光栏、宽束平行透镜、多磁极调节机构和垂直扫描基片；所述宽束平行透镜设置在分析光栏的宽带离子流出口处，宽带离子流以一定张角进入宽束平行透镜；所述宽束平行透镜出口处设有调节通过束流偏转角度的多磁极调节机构，以改变离子束到达垂直扫描基片处束流水平密度分布，调节离子束水平方向束流分布的均匀性；所述垂直扫描基片设置在多磁极调节机构的出口处，以在垂直方向对束流匀速扫描，保证束流垂直方向的均匀性。本发明控制简单，调节效果好，能很好满足宽带离子注入机的束均匀性调节要求。
一种离子注入均匀调节装置

[发明专利]离子注入机束流均匀性的监控方法-CN201711241753.1在审
发明人：李楠;姚雷 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2017-11-30 - 公布日： 2018-05-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供了一种离子注入机束流均匀性的监控方法，用于对离子束电流在10mA‑25mA之间的离子注入机束流的均匀性进行监控，包括：提供一晶圆；对所述晶圆进行离子注入，以形成测试晶圆；对所述测试晶圆进行破坏值量测；根据所述破坏值的均匀性判断所述离子注入机束流的均匀性是否满足控制要求。若所述离子注入机束流的均匀性满足控制要求，则判定所述离子注入机状况正常，适用于进行离子注入，可进行产品的批量生产；若不满足，则判定所述离子注入机状况异常，不适用于进行离子注入，不可进行产品的批量生产。本发明提供的离子注入机束流均匀性的监控方法简单有效，提高了产品的良率，避免了批量不良品的产生。
离子注入机束流均匀监控方法

[发明专利]离子植入机以及监测离子植入机中离子束的方法-CN201910324810.5在审
发明人：蒋亚伟;洪纪伦;吴宗祐;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-04-22 - 公布日： 2019-07-26 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：一种离子植入机以及监测离子植入机中离子束的方法，方法包括：提供离子植入机；将晶圆放置于所述第一面；在离子源发射离子束的过程中，晶圆托盘承载着晶圆在植入区域中沿第二方向移动并经过延展区，第二方向垂直于第一方向，第二面朝向离子源，盘中心轴垂直于第二方向，第一测温区的中心至第二测温区的中心的连线平行于第一方向；在离子源发射离子束的过程中，采用束流测试仪实时测试离子束的束流值；获取第一测温仪所测温度和第二测温仪所测温度之间的温差信息；根据所述束流值以及所述温差信息判断离子束的束流稳定性是否符合要求。所述方法监测离子束的束流稳定性的精度提高。
离子束束流离子植入机监测离子离子源测温仪植入机测温晶圆温差方向垂直方向移动晶圆托盘实时测试信息判断测试仪第二面盘中心延展区轴垂直发射连线植入平行承载

[发明专利]一种高分辨宽束离子注入机均匀性调节装置-CN201410645011.5在审
发明人：张进学 -专利权人：北京中科信电子装备有限公司
申请日： 2014-11-07 - 公布日： 2016-05-11 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：本发明公开了一种高分辨率宽带束离子注入机均匀性调节装置。为了解决宽带束均匀性难以精确控制的问题，所述调节装置包括分析光栏、宽束平行透镜、多磁极调节机构和垂直扫描基片；所述宽束平行透镜设置在分析光栏的宽带离子流出口处，宽带离子流以一定张角进入宽束平行透镜；所述宽束平行透镜出口处设有调节通过束流偏转角度的高分辨率多磁极调节机构，以改变离子束到达垂直扫描基片处束流水平密度分布，调节离子束水平方向束流分布的均匀性；所述垂直扫描基片设置在多磁极调节机构的出口处，以在垂直方向对束流匀速扫描，保证束流垂直方向的均匀性。本发明控制简单，调节分辨率高，能很好满足高性能宽带离子注入机的束均匀性调节要求。
一种分辨离子注入均匀调节装置

[发明专利]棉束供给系统-CN200680031113.1无效
发明人：马丁·布霍尔策;迪尔克·萨罗 -专利权人：里特机械公司
申请日： 2006-08-22 - 公布日： 2008-08-20 - 主分类号： D01G23/04 文献下载
摘要：公开了一种用于纺纱准备过程中棉束供给的进料机。该进料机包括棉束形成组件，该组件具有以每单位时间给定的纤维量来供给纤维流的装置和用于处理该给定纤维来形成棉束流的装置。该装置包括具有可控速度的开松机辊，从而可在运行过程中选择该辊的速度，以便影响纤维的处理以及因此而来的棉束流的开松程度。
供给系统

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