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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]单位掩膜、其制造方法及包括其的掩膜组件-CN201711015844.3有效
发明人：吕守华;黄俊杰 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2017-10-26 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供了一种单位掩膜、其制造方法及包括其的掩膜组件。单位掩膜包括：掩膜体，沿长度方向和宽度方向延伸，并且在掩膜体上形成有掩膜图案；以及夹紧部，沿掩膜体的长度方向从掩膜体的端部延伸出，其中，在夹紧部上形成有防滑图案。该单位掩膜能够提高使用夹具夹持并拉伸单位掩膜时的张网精度。
单位制造方法包括组件

[发明专利]掩膜版及掩膜版质量测试方法-CN202010279765.9有效
发明人：汪美里 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2020-04-10 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： G03F1/44 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜版及掩膜版质量测试方法，掩膜版包括：掩膜曝光区和非掩膜曝光区；所述掩膜曝光区设置有掩膜图形；所述非掩膜曝光区设置有测试区域；所述测试区域包括至少一个测试标记；所述测试标记的设计尺寸和实际尺寸之间的偏差用于测量所述掩膜版的质量本发明提供了一种掩膜版及掩膜版质量测试方法，以降低掩膜版容易出现质量问题而需要重新制作的风险。
掩膜版质量测试方法

[发明专利]一种掩膜板及其制作方法-CN202110166568.0在审
发明人：钱超;余洋;黄斌;植启东 -专利权人：南京深光科技有限公司
申请日： 2021-02-04 - 公布日： 2021-05-28 - 主分类号： G03F1/64 文献下载
摘要：本发明属于掩膜板技术领域，尤其是涉及一种掩膜板及其制作方法，包括掩膜板本体和掩膜板边框和掩膜板基底，掩膜板基底层叠在掩膜板本体的背部，掩膜板基底与掩膜板本体粘合，掩膜板本体的侧边嵌合有贴条，掩膜板本体通过贴条与掩膜板边框粘合；掩膜板边框上分有第一准备区和第二准备区，第一准备区和第二准备区长度大于其宽度，第一准备区和第二准备区上刻有校准图形。优点在于：本发明在掩膜板进行张网和焊接时具有更好的可控性，从而使得掩膜板整体降低作业时的次品率。
一种掩膜板及其制作方法

[发明专利]提高套刻精度的刻蚀方法-CN201810894929.1有效
发明人：请求不公布姓名 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2018-08-08 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种提高套刻精度的刻蚀方法，该方法为提供一组合掩膜版，该组合掩膜版包括第一子掩膜版和第二子掩膜版，第一子掩膜版上形成有第一光掩膜图形，第二子掩膜版上形成有第二光掩膜图形；对应于该组合掩膜版的下方放置有基底且基底和组合掩膜版彼此不接触，在基底上形成待图案化的材料层，材料层从下到上依次包括底掩膜层、中间掩膜层、顶掩膜层及第一光刻胶层，将第一光掩膜图形曝光显影至第一光刻胶层并转印，将第二光掩膜图形经曝光显影并转印，最后刻蚀底掩膜层。本发明将复杂的掩膜图形在一个刻蚀制程中转印至基底上，简化刻蚀工艺并提高了套刻精度。
提高精度刻蚀方法

[发明专利]一种掩膜板、掩膜曝光设备及掩膜曝光方法-CN201510136925.3在审
发明人：藤野诚治;张嵩;王涛;高静;杜小波 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2015-03-26 - 公布日： 2015-07-01 - 主分类号： G03F1/64 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜板、掩膜曝光设备及掩膜曝光方法，属于显示技术领域。掩膜板包括托盘；所述托盘上具有至少一个掩膜定位槽，每一个所述掩膜定位槽内设置有掩膜。本发明提供的掩膜板、掩膜曝光设备及掩膜曝光方法能够有效实现闭环开口的掩膜，提高基板上成膜的质量。
一种掩膜板曝光设备方法

[实用新型]一种双层掩膜版组件和蒸镀装置-CN201720578925.3有效
发明人：赵蓉;金龙 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2017-05-23 - 公布日： 2018-03-16 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型提供一种双层掩膜版组件和蒸镀装置，涉及显示技术领域，用于使第一掩膜版和第二掩膜版之间可以紧密贴合。该组件包括第一掩膜版、第一掩膜版框架、第二掩膜版和第二掩膜版框架；其中，第一掩膜版固定在所述第一掩膜版框架上，在第一掩膜框架固定第一掩膜版的表面上、且未被第一掩膜版覆盖的区域内设置有第一卡接部；第二掩膜版固定在第二掩膜版框架上，在第二掩膜框架固定第二掩膜版的表面上、且未被第二掩膜版覆盖的区域内设置有第二卡接部；第一掩膜框架固定第一掩膜版的表面与第二掩膜框架固定第二掩膜版的表面相对设置，且第一卡接部与第二卡接部卡合，以便第一掩膜版和第二掩膜版相贴合本实用新型用于掩膜版组件的制造。
一种双层掩膜版组件装置

[实用新型]掩膜板-CN201721423403.2有效
发明人：张微;曹鹏 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2017-10-31 - 公布日： 2018-05-08 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型提供一种掩膜板，包括掩膜板本体，所述掩膜板本体上设置有掩膜图形，所述掩膜板本体包括相对的第一表面和第二表面，所述第一表面上设置有凹槽，所述凹槽位于所述掩膜图形以外的区域，所述凹槽底部设置有贯穿所述掩膜板本体的第一通孔本实用新型能够提高蒸镀时掩膜板的对位精度，从而改善蒸镀效果。
掩膜板

[发明专利]掩膜板及掩膜组件-CN201711054173.1有效
发明人：戚海平 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2017-10-31 - 公布日： 2019-06-25 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明提供了一种掩膜板，属于显示技术领域。所述掩膜板包括：掩膜板主体，所述掩膜板主体上设置有镂空区域，所述掩膜板主体的边缘向外延伸有n个凸起，n≥3。本发明解决了在焊接掩膜板与掩膜框架的过程中，掩膜板会在由焊接产生的应力的作用下发生形变，进而导致掩模板中的镂空区域也会发生形变的问题。本发明用于制造掩膜组件。
掩膜板组件

[发明专利]掩膜装置及掩膜系统-CN201510308594.7在审
发明人：曾杰;李安石 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2015-06-08 - 公布日： 2015-09-02 - 主分类号： G03F1/50 文献下载
摘要：本发明实施例公开一种掩膜装置及掩膜系统。掩膜装置包括滚筒掩膜版及置于滚筒掩膜版内的光源组件。滚筒掩膜版的外表面上设置有掩膜图案，光源组件的外表上设置有光源。在光源的照射下，滚筒掩膜版在玻璃基板上滚过时，可在玻璃基板的感光材料上形成掩膜图案。本发明在不需要制作大面积掩膜板的情况下，可在大面积的玻璃基板的感光材料上形成掩膜图案，从而节省成本。
装置系统

[发明专利]掩膜板及其制作方法、蒸镀方法-CN201711043889.1有效
发明人：张微;曹鹏 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2017-10-31 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜板，包括掩膜板本体，所述掩膜板本体上设置有掩膜图形，所述掩膜板本体包括相对的第一表面和第二表面，所述第一表面上设置有凹槽，所述凹槽位于所述掩膜图形以外的区域，所述凹槽底部设置有贯穿所述掩膜板本体的第一通孔相应地，本发明还提供一种掩膜板的制作方法和蒸镀方法。本发明能够提高蒸镀时掩膜板的对位精度，从而改善蒸镀效果。
掩膜板及其制作方法方法

[发明专利]掩膜版-CN201911290041.8在审
发明人：曹杰 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2019-12-16 - 公布日： 2020-04-07 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜版，其包括至少一组掩膜版组，掩膜版组包括第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版和至少一个中间子掩膜版；第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版和中间子掩膜版的长相同，存在至少两组不同的倍数，使得中间子掩膜版的宽与之相乘后，与第一边缘子掩膜版的宽和第二边缘子掩膜版的宽相加之和，分别与两个不同尺寸的显示面板的长度相同；中间子掩膜版的长所对应的两条边上均设置有半掩膜区，第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版的长所对应的一条边上设置有半掩膜区，半掩膜区的尺寸相同。本发明将掩膜版设置为多个小尺寸的子掩膜版，通过子掩膜版平移，实现大尺寸显示面板的图案化，缓解了现有技术存在制作高成本大尺寸掩膜版的问题。
掩膜版

[发明专利]掩膜板、掩膜板的制备方法及蒸镀装置-CN202010753967.2在审
发明人：宋平;肖志慧;单为健;孙增标;王亚玲;李骄阳 -专利权人：昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司
申请日： 2020-07-30 - 公布日： 2020-10-27 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜板、掩膜板的制备方法及蒸镀装置，涉及显示技术领域，旨在解决现有掩膜板无法制备高分辨率的显示面板的问题。该掩膜板包括层叠设置的第一掩膜层和第二掩膜层，第一掩膜层上设置有多个第一开口，第二掩膜层包括相互独立的多个掩膜部，掩膜部由有机材料制成，多个掩膜部与多个第一开口一一对应设置，每个所述掩膜部上均设置有呈阵列排布的多个第二开口每个第一开口在对应的掩膜部上的投影覆盖该掩膜部的所有第二开口。本发明能够降低掩膜板的制备难度，并且满足高分辨率的显示面板的制备需求，优化显示面板的显示效果。
掩膜板制备方法装置

[发明专利]一种掩膜版、曝光设备和曝光方法-CN202211203997.1在审
发明人：杨堂;叶超;魏小丹;何宝生;刘沛;邓祖文 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2022-09-29 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： G03F1/42 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种掩膜版、曝光设备和曝光方法。该掩膜版包括：有多个子掩膜图形组的第一掩膜子版和有多个透光区的第二掩膜子版。第二掩膜子版设置在第一掩膜子版的一侧，且能够相对第一掩膜子版移动。移动对位结构与第二掩膜子版连接，用于根据接收到的对位信号，控制第二掩膜子版移动，以使得在不同的曝光过程中透光区分别对应不同的子掩膜图形组。本申请实施例可以将多种掩膜版图形集成在一张掩膜版中，减少掩膜版使用数量，降低生产成本，同时减少生产时掩膜版的移动风险及其造成的产品工艺不良。
一种掩膜版曝光设备方法

[实用新型]组合掩膜版-CN201821269953.8有效
发明人：不公告发明人 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2018-08-08 - 公布日： 2019-02-19 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本实用新型公开一种组合掩膜版，该组合掩膜版包括第一子掩膜版和第二子掩膜版，第一子掩膜版上形成有第一光掩膜图形，第二子掩膜版上形成有第二光掩膜图形，第一光掩膜图形和第二光掩膜图形具有重迭在同一曝光区域内的交互插排图形本实用新型将复杂的掩膜图形分解为两个简单的子掩膜图形，在一个刻蚀制程中转印至基底上，简化了刻蚀工艺并提高了套刻精度。
光掩膜图形掩膜版组合掩膜掩膜图形本实用新型刻蚀工艺曝光区域插排基底刻蚀套刻制程重迭分解

[实用新型]一种掩膜组件及应用其的蒸镀装置-CN202120886673.7有效
发明人：徐蒙蒙;王江南;史晓波;冯敏强 -专利权人：江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
申请日： 2021-04-27 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种掩膜组件及蒸镀装置，掩膜组件包括掩膜遮挡板和掩膜板，所述掩膜遮挡板位于所述掩膜板远离所述基片的一侧；所述掩膜遮挡板与所述掩膜板之间分离间隔设置；所述掩膜板上镂空设置有第一蒸镀图案，所述掩膜遮挡板上镂空设置有第二蒸镀图案其能够减弱蒸镀过程中所述掩膜板受到的热辐射，避免掩膜板受热膨胀产生形变。
一种组件应用装置

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