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[发明专利]自适应的光刻临界尺寸增强-CN200410078927.3有效
发明人： T·D·海尔;W·T·特;T·J·戴维斯;T·A·帕斯顿 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2004-09-16 - 公布日： 2005-06-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提出了用于提高光刻系统中的CD均匀性的系统、装置和方法。该系统包括构造为曝光衬底的曝光装置、与该曝光装置和多个处理模块和装置可操作连接的流水线装置。该系统还包括测量装置，所述测量装置被构造成测量被曝光和处理的衬底的属性，并基于预先规定的衬底形貌信息评估被曝光和处理的衬底属性是否均匀。该系统还包括一种模块，该模块被构造成当确定所述属性不均匀时，就基于所测量的属性自适应地计算校正曝光数据。该校正曝光数据被构造成通过调节曝光装置的曝光剂量来校正衬底的不均匀性。一旦衬底被评估为具有了需要的均匀性，就根据校正曝光数据使用曝光装置来曝光衬底，继续监测被曝光衬底的均匀性并且根据需要更新剂量校正以保持均匀性。
自适应光刻临界尺寸增强

[实用新型]一种曝光能量均匀性测试装置-CN201020258732.8有效
发明人：何春 -专利权人：深圳市深联电路有限公司
申请日： 2010-07-14 - 公布日： 2011-02-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种曝光能量均匀性测试装置，包括曝光盘，所述曝光盘上均匀设置有多个基板，所述基板的两面设置有曝光尺。本实用新型通过将曝光尺设置在基板两面的覆铜板上，并将该覆铜板均匀放置在曝光盘上。在PCB板曝光之前对曝光机的曝光均匀性进行测试，以控制曝光均匀度，达到曝光均匀的目的。与现有技术相比，本实用新型具有成本低，制作简单，操作方便、快捷，可重复利用等优点。
一种曝光能量均匀测试装置

[发明专利]一种显影均匀性检测方法-CN201610764846.1有效
发明人：周兵兵 -专利权人：苏州同冠微电子有限公司
申请日： 2016-08-30 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种显影均匀性检测方法，包括以下步骤：曝光模式预设：根据承印晶圆的规格，在光刻机上进行多个曝光阵列位置的设定，所述曝光阵列由多个曝光单元格整齐排列而成，多个曝光阵列均采用相同的曝光能量设定进行曝光；承印晶圆涂胶、曝光并显影：将承印晶圆涂覆光刻胶后，置于光刻机内，采用预设的曝光模式进行曝光后进行显影处理；显影均匀性判定：根据每个曝光阵列中白色曝光单元格的数量，计算每个曝光阵列的中间显影能力值，中间显影能力值等于白色曝光单元格对应的曝光能量值的平均值，比对不同位置曝光阵列的中间显影能力值，即可完成显影均匀性判断。本发明操作简单，有效提高了显影均匀性检测的效率。
一种显影均匀检测方法

[发明专利]光刻机扫描曝光系统及其扫描曝光方法-CN200910046485.7有效
发明人：张俊;罗鸣 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2009-02-23 - 公布日： 2009-07-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种光刻机扫描曝光系统，包括光源以及沿着光源出射光束形成的光路依次排列的柱面镜、变焦镜组、光学均匀器、耦合光组、掩模板、物镜、工件台，在所述变焦镜组和光学均匀器之间设置有光束旋转镜组，所述光束旋转镜组由若干组光学元件组成扫描曝光时，先对曝光场区域扫描曝光后，将所述光束旋转镜组移入所述光路中，再次对曝光场区域扫描曝光，完成扫描曝光后移开所述光束旋转镜组，改善了曝光场Y方向的剂量均匀性，又能改善X方向的剂量均匀性，从而改善曝光剂量的系统性能，提高光刻线宽的均匀性。
光刻扫描曝光系统及其方法

[发明专利]一种用于调节狭缝式曝光带均匀性的装置和光刻机-CN202110130278.0在审
发明人：金成昱;梁贤石;林锺吉;金在植;张成根;丁明正;刘强;贺晓彬;白国斌;刘金彪 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2021-01-29 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于调节狭缝式曝光带均匀性的装置和光刻机，包括：校正模块，其位于狭缝式曝光带测量区域与狭缝式曝光带的相反侧，其中，狭缝式曝光带测量区域位于狭缝式曝光带的两侧；在所述校正模块和所述狭缝式曝光带测量区域之间，具有狭缝式曝光带控制区域，滤光板可移动至所述狭缝式曝光带控制区域中；其中，校正模块和滤光板在朝向所述曝光狭缝的方向上都是可移动的。通过可移动的校正模块和滤光板，控制滤光板在狭缝式曝光带控制区域移动改变光强和焦距，从而改善狭缝均匀性，最小化由于狭缝均匀性改变而产生的问题。通过对狭缝式曝光带均匀性的调整，能够精细的调整关键尺寸一致，从而提升产品的良率。
一种用于调节狭缝曝光均匀装置光刻

[发明专利]光刻机剂量均匀性的测量方法-CN201911039601.2有效
发明人：刘泽华;陈震东 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2019-10-29 - 公布日： 2021-10-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻机剂量均匀性的测试方法。该测试方法包括：上载待曝光掩模版，待曝光掩模版包括监控标记；采用待曝光掩模版进行焦面‑剂量矩阵曝光，获取不同焦距和曝光剂量下监控标记的套刻误差；确定焦距、曝光剂量与套刻误差之间的关系矩阵；根据关系矩阵确定曝光剂量作用区间；采用曝光剂量作用区间内的任意曝光剂量对待曝光掩模版进行焦距矩阵曝光；获取监控标记的实际套刻误差；根据关系矩阵以及实际套刻误差确定曝光场内各点的实际曝光剂量，以得到光刻机的剂量均匀性。本发明的技术方案可适应各种工况需求，也可排除焦面与像差的干扰，从而可准确测量光刻机的曝光剂量和剂量均匀性。
光刻剂量均匀测量方法

[发明专利]一种直写式光刻机光均匀性标定方法及系统-CN201811417241.0有效
发明人：李智 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2018-11-26 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种直写式光刻机光均匀性标定方法及系统，属于光刻机光学调制技术领域，包括其用于对图形发生器与光路系统以及移动平台之间的光均匀性误差进行标定，光路系统的光路上布置CCD相机，包括如下步骤：制作用于DMD曝光的单位图形，该单位图形包括标尺图和全白图；对单位图形进行曝光处理，得到初始曝光图形；对初始曝光图形进行整合处理，得到光均匀性灰度模板；利用所述光均匀性灰度模板实现投放任意单位图。本发明通过标定光均匀性灰度模板，并将其加载到曝光系统中，使得最终曝光的图形的光均匀性得到了明显的改善。
一种直写式光刻均匀标定方法系统

[发明专利]用于去除图像中的杂光的方法、系统和计算机可读介质-CN201980095606.9在审
发明人：罗俊 -专利权人： OPPO广东移动通信有限公司
申请日： 2019-04-23 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： G06K9/00 文献下载
摘要：所述方法包括：利用图像采集单元连续拍摄均匀曝光图像及具有不同曝光设定的曝光不足图像；确定杂光是否在所述均匀曝光图像内；响应于确定所述杂光在所述均匀曝光图像内，将所述曝光不足图像的图像对象相对于所述均匀曝光图像对齐；以及使用对齐的所述曝光不足图像去除所述均匀曝光图像中的所述杂光，其中根据所述均匀曝光图像的亮度，将用于去除所述均匀曝光图像中的所述杂光的所述曝光不足图像在亮度上归一化，然后将归一化的所述曝光不足图像去噪此外，还提供了执行所述方法的系统和非暂时性计算机可读介质。
用于去除图像中的方法系统计算机可读介质

[发明专利]一种无掩膜光刻直写系统的照明均匀性测试方法-CN201510570425.0有效
发明人：曹常瑜 -专利权人：合肥芯碁微电子装备有限公司
申请日： 2015-09-09 - 公布日： 2017-07-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种无掩膜光刻直写系统的照明均匀性测试方法，包括设置具有一定能量梯度的曝光模式；将涂覆光刻胶的承印晶圆置于曝光台上；打开照明光源，按照曝光模式执行曝光；将曝光完毕的承印晶圆在显影液中显影；观察不同能量条件下的曝光结果，计算得到系统的照明均匀性。本发明无需增加其他任何测试设备，直接在承印晶圆上进行曝光实验，便可计算出系统的照明均匀性，经济实用。
一种无掩膜光刻系统照明均匀测试方法

[发明专利]LDI曝光机能量均匀性检测方法-CN201610737471.X有效
发明人：陈功;卢汝锋;谢添华 -专利权人：广州兴森快捷电路科技有限公司;深圳市兴森快捷电路科技股份有限公司;天津兴森快捷电路科技有限公司
申请日： 2016-08-26 - 公布日： 2018-01-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种LDI曝光机能量均匀性检测方法，包括以下步骤准备测试板和干膜，并在所述测试板上设置定位孔；制作曝光图形文件，所述曝光图形文件内设定有与曝光机内所需检测的能量区一一对应的图形区，每个所述图形区均设定有宽度信息值；将所述干膜贴设于所述测试板上；将贴设干膜的所述测试板材放入曝光机中，曝光机抓取定位孔，根据所述曝光图形文件对所述测试板进行曝光处理；将经过曝光处理的测试板进行显影处理；测定测试板上干膜各显影区宽度；比较每个所述显影区和与之对应的所述图形区的宽度大小本发明通过测定测试板上各显影区的宽度，并与图形区宽度进行比对，从而来判断曝光机的能量均匀性，本发明操作简便，检测精度高。
ldi 曝光机能均匀检测方法

[发明专利]帘幕式快门曝光均匀性检测装置-CN201210563034.2有效
发明人：周九飞;刘明;李大伟;刘国嵩;付金宝 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2012-12-21 - 公布日： 2013-04-10 - 主分类号： G03B43/00 文献下载
摘要：帘幕式快门曝光均匀性检测装置，涉及航空航天成像领域，解决了现有简易检测装置无法满足对帘幕式快门曝光均匀性检测的问题。该装置满足帘幕式快门曝光均匀性检测的要求。
帘幕快门曝光均匀检测装置

[发明专利]光刻机扫描曝光方法-CN200910046823.7有效
发明人：张俊 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2009-02-27 - 公布日： 2009-07-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种光刻机扫描曝光方法，其在光刻机的硅平面上设置相互正交的两个方向，并将所述硅平面分为若干曝光场区域，所述光刻机上设置有可变狭缝，所述可变狭缝在所述的两个方向上分别设置有刀口，先对曝光场区域其中一个方向扫描曝光，再对同一曝光场区域另一个方向扫描曝光，当对曝光场区域其中一个方向扫描曝光时，所述可变狭缝在该方向的刀口从闭合状态开始逐渐打开至最大，再逐渐缩小至闭合状态。本发明通过先对曝光场区域其中一个方向扫描曝光，再对同一曝光场区域另一个方向扫描曝光。改善了曝光场区域Y方向的剂量均匀性，又能改善X方向的剂量均匀性，从而改善曝光剂量的系统性能，提高光刻线宽的均匀性。
光刻扫描曝光方法

[发明专利]一种直写曝光机调整曝光面功率均匀性的装置及方法-CN201210350149.3有效
发明人：吴俊 -专利权人：天津芯硕精密机械有限公司
申请日： 2012-09-18 - 公布日： 2013-01-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种直写曝光机调整曝光面功率均匀性的装置及方法，包括有曝光光源，反光镜倾斜设置在曝光光源的前方光路上，反光镜的反射光路上依次设置光学透镜组、图形发生器，图形发生器的下方依次设置投影镜头、功率探头，功率探头的信号输出端与功率显示器连接；通过把可编程图形发生器分成若干个等面积的小区域，在每个小区域分别投影白图，测试其对应的功率值，计算得出直写曝光机曝光面的功率均匀性，如果曝光面的功率均匀性不理想，采用本发明，曝光图形的质量，尤其是曝光图形的线宽一致性可以得到很大的提高。
一种曝光调整功率均匀装置方法

[发明专利]一种直写式光刻机中改善能量均匀性的方法-CN201810825655.0有效
发明人：陈海巍 -专利权人：江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2018-07-25 - 公布日： 2020-09-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种直写式光刻机中改善能量均匀性的方法，属于印刷线路板技术领域。本发明通过在直写式光刻机中，采用多次曝光扫描技术，并在每一次曝光后，向X方向、或Y方向、或XY方向进行半个曝光场+M*1/2个像素的曝光起始错位作为下一次曝光的起始位置，并且每次曝光分别使用DMD上不同分布位置的微镜，综合DMD整视场内不同位置的不同光均匀效果，使最终曝光效果达到较一致的均匀性。该方法可有效减弱光学均匀性不佳所导致的CDU不合格、解析不佳的状况，在不增加设备硬件成本的情况下，提升设备的制程能力和设备生产良率。
一种直写式光刻改善能量均匀方法

[发明专利]曝光机曝光能量的校正方法及应用其的曝光方法-CN201310184852.6无效
发明人：张鸿明 -专利权人：川宝科技股份有限公司
申请日： 2013-05-17 - 公布日： 2014-11-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种曝光机曝光能量的校正方法及应用其的曝光方法，其可改善曝光机曝光能量的均匀性，本发明主要利用处理单元及多个光能量感测单元，之后使曝光机的多个曝光装置分别对这些光能量感测单元投光，并使处理单元记录这些曝光装置的投光能量，并计算出这些投光能量的最小值，接着使处理单元调整曝光机供电装置的供电量，以使这些曝光装置的投光能量的校正值相等且小于或等于该最小值。由此，本发明可改善曝光机曝光能量的均匀性进而提升电路板的制造合格率。
曝光能量校正方法应用

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