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[发明专利]一种全自动旋涂装置-CN202211674339.0在审
发明人：苏正华 -专利权人：长沙一清智能设备有限公司
申请日： 2022-12-26 - 公布日： 2023-03-17 - 主分类号： B05C5/00 文献下载
摘要：本发明公开一种全自动旋涂装置，包括物料台、机械臂、旋涂仪、加热器、滴胶设备和控制器，控制器分别电连接机械臂、旋涂仪、加热器和滴胶设备；控制器用于控制机械臂将物料台内基片送入旋涂仪，以使旋涂仪将基片固定；控制器还用于控制机械臂驱动滴胶设备移动至旋涂仪上方位置，以使滴胶设备向旋涂仪内基片滴胶；控制器还用于控制旋涂仪驱动滴胶后的基片旋转，以使机械臂将旋转后的基片送入加热器；控制器还用于控制加热器对旋转后的基片加热本发明提出技术方案中以使整个旋涂法的实验过程完全实现自动化和机械化，这样既提高了作业效率，又降低了失误率。
一种全自动装置

[发明专利]制造半导体集成电路的方法-CN200510082103.8有效
发明人：吴奕文;曾镇球 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2005-06-29 - 公布日： 2007-01-03 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明披露一种制造半导体集成电路的方法，包括以下步骤：(1)提供一旋涂机器，包括用来固定并旋转晶片的转动平台、一用来将旋涂溶液提供至晶片表面的流体供应系统以及一固定在晶片上方的侦测器；(2)将旋涂溶液经由前述的流体供应系统倒到晶片表面中心位置并开始进行旋转涂布，在晶片表面形成旋涂材料层；以及(3)旋转前述的晶片，并以前述固定在晶片上方的侦测器所发出的入射光束扫描形成在晶片表面的旋涂材料层，然后以侦测器测量反射光束。
制造半导体集成电路方法

[发明专利]一种钢桶桶底盖旋涂工艺-CN201910137487.0有效
发明人：曲建波;薛俊杰;王爱娟 -专利权人：淄博齐鲁包装制品有限公司
申请日： 2019-02-25 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： B05D1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种钢桶桶底盖旋涂工艺，所述工艺具体如下：第一步，洗底盖，通过洗底盖机对待加工的底盖进行清洗；第二步，加热，通过电磁加热系统对完成清洗的底盖进行加热烘干；第三步，吹扫，对完成加热的底盖进行灰尘吹扫，吹扫工序通过气刀完成；第四步，旋涂，通过高速电磁离合器控制电磁旋涂设备旋涂；第五步，加热烘干，将完成旋涂的底盖通过烘干螺旋塔进行烘干；第六步，成品包装，本发明提出了一种钢桶桶底盖旋涂工艺，节能环保，采用自主研发的洗盖机、电磁加热设备和速电磁离合器控制旋涂，自动化程度高，提高生产效率和产品质量。
一种钢桶桶底盖旋涂工艺

[实用新型]一种用于旋涂光刻胶的旋涂仪-CN201921330766.0有效
发明人：李永斌 -专利权人：甘肃华隆芯材料科技有限公司
申请日： 2019-08-16 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于旋涂光刻胶的旋涂仪，属于微加工装置领域，包括旋涂箱，所述旋涂箱内设置有静电吸附支撑台，所述静电吸附支撑台的底部设置有旋转驱动机构，所述静电吸附支撑台的上部设置有滴胶管，所述滴胶管延伸至所述旋涂箱的外侧，所述旋涂箱外侧的所述滴胶管上设置有供胶机构，所述旋涂箱的顶部一侧设置有开口，所述开口上连接有抽真空机构，所述静电吸附支撑台与外接电源电连接，所述旋涂箱的一侧设置有可打开的密封门，所述旋涂箱的外侧还设置有控制器通过旋涂箱、静电吸附支撑台、静电吸附支撑台的底部的旋转驱动机构、滴胶管及抽真空机构的设置，能完全避开空气的作用，在涂胶时不会出现针孔现象，涂胶均匀，效果理想。
一种用于光刻旋涂仪

[实用新型]一种压力旋涂仪-CN201822250418.4有效
发明人：顾坚;任华;杨花安 -专利权人：南通南京大学材料工程技术研究院
申请日： 2018-12-29 - 公布日： 2019-11-08 - 主分类号： C09D1/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种压力旋涂仪，包括带进料口和出料口的加料装置、与加料装置的出料口通过管道连通的旋涂磨头以及与旋涂磨头连接的磨头转速控制器；所述加料装置的出料口设有加料量调节器和流速调节器；所述旋涂磨头上设有磨头高度调节器和压力传感器本实用新型压力旋涂仪可以制备得到热敏基材静电喷涂前导电涂层，操作简单易行、效率高，导电材料用量小，所得导电涂层均匀，面电阻在10⁴Ω‑10⁶Ω，适合静电喷涂，
加料装置出料口旋涂仪磨头旋涂本实用新型静电喷涂高度调节器流速调节器压力传感器调节器前导导电材料导电颗粒导电涂层管道连通磨头转速热敏基材控制器电涂层加料量进料口面电阻再利用溶剂制备散落回收环保

[发明专利]一种柔性压力传感器及其制备方法和应用-CN202310240978.4在审
发明人：杜玉章;孔杰;陆文轩;刘熠琛 -专利权人：西北工业大学
申请日： 2023-03-14 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： G01L1/22 文献下载
摘要：本发明公开了一种柔性压力传感器及其制备方法和应用，其属于柔性电子技术领域。该制备方法包括：制备导电材料MXene的旋涂液；将聚丙烯酰胺PAM作为柔性基体并制备成柔性基体溶液；通过导电材料MXene表面的带电基团和聚丙烯酰胺PAM表面的氨基和碳氧双键形成氢键的结合方式，将旋涂液和柔性基体溶液交替循环旋涂多次，且在旋涂柔性基体层时选取不同的MXene层区域进行旋涂，得到具有空隙结构的柔性压力传感器。本发明通过将MXene导电材料与柔性基体材料多次交替旋涂的方式，构建了内部具有空隙结构的柔性压力传感器。空隙结构使导电材料MXene在压力作用下可产生更大的位移变化，有利于内部形成更大的电阻变化，进而提高传感器的灵敏度。
一种柔性压力传感器及其制备方法应用

[发明专利]DVDR光盘的染料旋涂装置-CN201110033234.2无效
发明人：郑飞璠;宋国旗;李恒;夏芃;马超 -专利权人：上海拓引数码技术有限公司
申请日： 2011-01-30 - 公布日： 2011-08-31 - 主分类号： B05C5/00 文献下载
摘要：本发明提供一种DVDR光盘的染料旋涂装置，包括：染料供给系统；水平设置的基板；与所述基板基本垂直的中心轴；固定于所述基板的上表面的旋涂碗；在所述旋涂碗的内部，沿着所述中心轴设有一导柱，在所述导柱的既定高度上水平设有用于安放待处理盘片的旋涂碗托盘；在所述旋涂碗的外部，水平设有一下染料机械手臂，所述机械手臂的一端与支柱相连并可围绕支柱的中心轴旋转，所述机械手臂的另一端设有针头控制器及设于所述控制器下方的主针头和辅针头。通过双针头将染料涂布到基片上，充分解决染料溶液在基片外圈填充不均匀的问题，让染料旋涂在均匀染料的阶段时间加长，而总体旋涂的时间缩短，提高生产效率，改善DVDR产品外圈旋涂质量。
dvdr 光盘染料装置

[实用新型]一种旋涂设备-CN202220428720.8有效
发明人：丁蕾;王永磊;何永才;顾小兵;何博;徐希翔 -专利权人：西安隆基乐叶光伏科技有限公司
申请日： 2022-02-28 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： B05B13/02 文献下载
摘要：本实用新型实施例提供了一种旋涂设备，包括基座、驱动机构、旋涂轨道和用于吸附待旋涂件的工作台，旋涂轨道呈圆环状，旋涂轨道可转动地设置于基座上，工作台固定于旋涂轨道的内表面上；驱动机构与旋涂轨道连接，用于驱动旋涂轨道旋转，以在待旋涂件上进行镀膜。旋涂轨道沿竖直方向设置，当旋涂轨道旋转时，在离心力的作用下，待旋涂件上的旋涂溶液很容易流入金字塔底部，并且，旋涂的膜层的厚度均匀，避免了钙钛矿太阳能电池存在短路的风险，提高了钙钛矿太阳能电池性能。
一种设备

[发明专利]制作盘形记录介质的旋涂装置和方法-CN03816314.4无效
发明人：山口晴彦;淀川吉见;宇佐美守;丑田智树;出泽圣一 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2003-07-09 - 公布日： 2005-09-14 - 主分类号： G11B7/26 文献下载
摘要：本发明涉及制作盘形记录介质的旋涂装置和方法。所述旋涂装置可防止对一盘进行旋涂时采用的一掩膜受到损坏。更具体地说，所述装置结构如下。首先，将一掩膜放置到一位于一旋涂器上的盘件上，然后进行旋涂。紧接之后，连续地对移离该盘件的单个掩膜进行清洗、冲洗及干燥处理，这些处理之后的掩膜相继发送给下一旋涂操作。
制作记录介质装置方法

[发明专利]一种乐甫波传感器PMMA波导膜的旋涂制备方法-CN200810045646.6无效
发明人：蒋亚东;杜晓松;胡佳 -专利权人：电子科技大学
申请日： 2008-07-25 - 公布日： 2009-04-22 - 主分类号： B05D1/36 文献下载
摘要：本发明公开了一种乐甫波传感器PMMA波导膜的旋涂制备方法，其特征在于，采用1，2-二氯乙烷为溶剂配制浓度为1-5wt％的PMMA溶液，经多次旋涂达到所需的波导厚度。本发明由于采用挥发性适中的1，2-二氯乙烷作为溶剂配制低浓度旋涂溶液，该溶液流动性好，粘度适中，保证波导膜具有很好的平整度和均匀性，减少了传感器的插损。尽管每次旋涂的厚度很薄，但经多次旋涂后波导层的厚度可以达到2μm以上，并能保持良好的平整度和均匀性。
一种乐甫波传感器 pmma 波导制备方法

[发明专利]非晶磁芯微型磁通门传感器的制备方法-CN201010239122.8无效
发明人：雷冲;周勇 -专利权人：上海交通大学
申请日： 2010-07-28 - 公布日： 2010-11-17 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：一种微机电系统技术领域的非晶磁芯微型磁通门传感器的制备方法，在衬底的一面溅射Cr/Cu底层；旋涂正胶、烘干；得到激励线圈和感应线圈的底层线圈以及定位标记的光刻胶图形；电镀底层线圈和定位标记；旋涂正胶得到连接导体和定位标记的光刻胶图形；电镀连接导体和定位标记；去光刻胶，刻蚀Cr/Cu底层；旋涂聚酰亚胺；旋涂聚酰亚胺，逐个粘贴预制非晶软磁合金磁芯，烘干；旋涂聚酰亚胺、烘干固化；抛光聚酰亚胺，直到连接导体暴露为止；溅射Cr/Cu底层；旋涂正胶、烘干；得到激励线圈和感应线圈的顶层线圈及电极的光刻胶图形；电镀底层线圈和电极；去光刻胶，刻蚀Cr/Cu底层，得到的传感器灵敏度高、线性测量范围宽。
非晶磁芯微型磁通门传感器制备方法

[发明专利]用以制造磁性随机存取存储器的系统及方法-CN200980125476.5有效
发明人：李霞;升·H·康;朱晓春 -专利权人：高通股份有限公司
申请日： 2009-06-23 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明揭示一种用以制造磁性随机存取存储器的系统及方法。所述方法包括：在磁性隧道结(MTJ)结构上沉积顶盖层(112)；在所述顶盖层上方沉积第一旋涂材料层(530)；及蚀刻所述第一旋涂材料层及所述顶盖层的至少一部分。可将所述沉积和蚀刻旋涂材料的步骤重复若干次。所述旋涂材料保护包围所述MTJ的层间电介质层。
用以制造磁性随机存取存储器系统方法

[发明专利]旋涂器及用该旋涂器清洗衬底的方法-CN200910209145.1有效
发明人：徐子正;杨棋铭;陈其贤 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2009-10-28 - 公布日： 2010-07-07 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提出一种方法，包括将半导体晶片沿着垂直于所述晶片表面的轴旋转。在旋转所述晶片时，该晶片以振荡式运动方式沿着平行于晶片主表面的方向移动。在旋转及移动所述晶片时，从分别位于该晶片主表面的第1位置和第2位置的第1喷嘴和第2喷嘴同时向该晶片主表面喷射材料。
旋涂器清洗衬底方法

[发明专利]旋涂机和旋涂方法-CN202111524199.4在审
发明人：远藤智章;高桥邦充;木村悠一;小田中健太郎 -专利权人：株式会社迪思科
申请日： 2021-12-14 - 公布日： 2022-06-24 - 主分类号： B05B13/02 文献下载
摘要：本发明提供旋涂机和旋涂方法，能够抑制在所形成的包覆层中混入气泡。旋涂机(1)在基板上涂布液体而利用液体在基板上形成包覆层，其中，该旋涂机具有：旋转工作台(30)，其包含保持面(31)，该保持面将基板保持为旋转自如；液体提供喷嘴(50)，其具有喷出口(51)，该喷出口对旋转工作台
旋涂机方法

[实用新型]一种方便清理的旋涂设备-CN202120607328.5有效
发明人：冀然 -专利权人：青岛天仁微纳科技有限责任公司
申请日： 2021-03-25 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： B05C11/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种方便清理的旋涂设备，所述旋转单元的外侧安装有可拆卸的旋涂腔体单元，且旋转单元固定安装在旋涂腔体单元的内部底端，所述旋转单元和旋涂腔体单元的下端固定安装有排放单元。旋涂腔体单元能有效回收旋涂时产生的废液，旋涂腔体可以从设备上拆下，方便彻底的清理旋涂腔，设置防背溅盘防止旋涂时胶体溅射在基片背面，污染基片，优化了旋涂设备的排气系统，排气系统在旋涂腔下方，废气向下吸收，
一种方便清理设备

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