专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]图像扫描器-CN97122245.2无效
  • 李俊彦 - 鸿友科技股份有限公司
  • 1997-11-11 - 2002-10-16 - G02B5/22
  • 一种图像扫描器,其中该图像扫描器包括一壳体;以及一光源,设置于壳体中,提供一初始光线,其中包括投射至壳体上的散射线。一消除散射的装置设置于壳体内部的表面上,且位于散射线的光路上,吸收并消除散射线。该消除散射的装置为一光吸收物件。
  • 图像扫描器
  • [发明专利]利用调制平移变换的Harvey散射模型进行散射线追迹的方法-CN202210900539.7在审
  • 袁群;伦旭磊;高志山;朱丹;许宁晏;乔文佑 - 南京理工大学
  • 2022-07-28 - 2022-10-11 - G06T15/06
  • 本发明公开了一种利用调制平移变换的Harvey散射模型进行散射线追迹的方法,首先根据入射光线方向确定抽样区域调制参数,之后将描述Harvey散射模型的双向反射分布函数BRDF改写为积分存在解析解的调制函数,在此基础上构造散射线追迹概率模型对天顶角与方位角进行模拟采样,将采样点坐标转换为二次方向余弦坐标系中的坐标后作平移变化,通过限制条件筛选出有效样本,最终确定散射线方向余弦。散射线能量可通过BRDF、散射线数量与入射光线能量求解。本发明通过抽样区域调制参数将BRDF改写为积分存在解析解的调制函数,解决了难以构建散射线追迹概率模型的问题,同时避免了坐标平移导致的能量损失,最终可以实现Harvey散射模型散射线追迹。
  • 利用调制平移变换harvey散射模型进行光线方法
  • [实用新型]一种防眩晕车灯-CN202023279525.3有效
  • 洪明辉 - 台州市佑吉车业科技股份有限公司
  • 2020-12-30 - 2021-08-13 - F21S41/25
  • 本申请涉及一种防眩晕车灯,包括灯座、近光光源和远光光源,所述灯座上设置有第一透镜和第二透镜,所述近光光源透过第一透镜折射形成近光光线,所述远光光源透过第二透镜折射形成远光光线,还包括散射源,所述灯座上设置有透光片,所述散射源透过透光片形成散射线。透光片由半透明的材质制成,当散射源照射在透光片上时,透光片表面会把散射源朝向四面八方反射,当车灯同时开启近光光源以及散射源时,散射源会弥补近光光线以及远光光线只能直射的缺点,将光向车灯的周围发散开来
  • 一种眩晕车灯
  • [发明专利]一种垂直耦合光波导器件及其制备方法-CN202010350464.0有效
  • 宋俊峰;陈柏松;李盈祉;郜峰利;李雪妍 - 吉林大学
  • 2020-04-28 - 2021-08-20 - G02B6/124
  • 本发明公开了一种垂直耦合光波导器件,包括衬底;位于衬底表面的下包层;位于下包层背向衬底一侧表面的波导层;波导层包括朝向衬底一侧表面的第一光栅,以及背向衬底一侧表面的第二光栅,第一光栅的结构与第二光栅的结构相同,第一光栅沿光线传播方向与第二光栅之间具有一预设间距的错位;错位使第一光栅散射线与第二光栅散射线之间具有第一相位差,第一光栅与第二光栅之间的等效厚度使第一光栅散射线与第二光栅散射线之间具有第二相位差。上述位错可以使得第一光栅散射线与第二光栅散射线相互抵消一部分,从而减少整体朝向或背向衬底传播光线的强度,即增加整体朝向或背向衬底传播光线的单向性,从而增加垂直耦合光波导器件的耦合效率。
  • 一种垂直耦合波导器件及其制备方法
  • [发明专利]激光加工方法-CN202111180790.2在审
  • 波多野雄二;能丸圭司 - 株式会社迪思科
  • 2021-10-11 - 2022-05-03 - B23K26/38
  • 本发明提供激光加工方法,即使在水中产生微细的泡而使所照射的激光光线发生散射,也不会给形成于晶片的正面的器件带来损伤,并且不会使各个分割的器件的品质降低。激光加工方法包含如下的工序:散射遮蔽膜层叠工序,在晶片的上表面侧层叠散射遮蔽膜,该散射遮蔽膜遮蔽激光光线散射;保持工序,利用卡盘工作台对晶片的下表面侧进行保持;激光加工工序,在晶片的上表面侧形成水层,并且一边使该卡盘工作台与激光光线照射单元相对地移动一边对晶片的要加工的区域照射激光光线;以及散射遮蔽膜去除工序,从结束了该激光加工工序的晶片去除散射遮蔽膜。
  • 激光加工方法
  • [发明专利]一种拉曼光谱仪-CN201610670153.6在审
  • 陈玲玲;李文环;金怀洲;袁琨;刘开元;金尚忠 - 中国计量大学
  • 2016-08-15 - 2017-01-25 - G01N21/65
  • 包括激光器、透镜、二向色镜、共焦显微镜头、光学系统、法布里‑珀罗可调滤波器、硅探测器;激光器发出的光线经过透镜后照射到所述二向色镜上,二向色镜将所述光线反射,经过反射后的光线经过共焦显微镜头照射到样品上,光线经样品后发生瑞利散射和拉曼散射,发生瑞利散射散射和发生拉曼散射后的散射经共焦显微镜头后,再次射向二向色镜,二向色镜使散射中的拉曼散射透射、瑞利散射和其他散杂光反射,经过二向色镜透射的拉曼散射依次经过光学系统、法布里‑珀罗可调滤波器,由硅探测器对经过法布里‑珀罗可调滤波器的光线进行检测,得到光信号。
  • 一种光谱仪
  • [发明专利]自动分析装置-CN201280047628.6有效
  • 大沼满;佐藤庸子;山崎创;和久井章人 - 株式会社日立高新技术
  • 2012-07-31 - 2014-06-04 - G01N35/02
  • 本发明提供安装有光散射度计的自动分析装置,在降低外部光线的影响,提高分析精度的同时,安全且使用方便。在本体壳体的内部具有散射测定部,具有覆盖本体壳体的上表面(410)的可开闭的保护盖(610~630)。在中央的保护盖(610)上形成有遮蔽外部光线的遮光部。遮光部通过覆盖至少相当于散射测定部的上方的反应盘的区域,从而减少漏入散射测定部的外部光线,使散射测定不受外部光线的影响。保护盖除了分成三部分的结构外,还可以为分成二部分的结构或一片的结构。
  • 自动分析装置
  • [发明专利]暗场成像检测系统-CN202110976103.1在审
  • 马翔宇;吴晓斌;沙鹏飞;谢婉露;韩晓泉 - 中国科学院微电子研究所
  • 2021-08-24 - 2021-12-14 - G01N21/88
  • 暗场成像检测系统包括真空腔室、光源、光学组件和图像采集装置,真空腔室内设有检测位,检测位用于放置极紫外掩模,光源设于真空腔室内且用于向极紫外掩模发射极紫外光束,光学组件设于真空腔内,光学组件用于接收经极紫外掩模发出的散射线并将散射线形成光学图像进行检测时,启动暗场成像检测系统,光源发出极紫外光束,极紫外光束照射在极紫外掩模上,若极紫外掩模具有缺陷,会产生散射线,光学组件吸收散射线并将散射线形成光学图像,图像采集装置采集光学图像,实现暗场成像
  • 暗场成像检测系统

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