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[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法-CN202080089460.X在审
发明人：吉村务;后藤研由;小岛雅史;崎田享平 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2020-12-07 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的感光化射线性或感放射线性树脂膜、使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的图案形成方法及电子器件的制造方法，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含：含有具有特定的环结构的重复单元(a1)的树脂(A)、通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物(B)通过光化射线或放射线的照射分解而酸捕获性降低的特定的化合物
感光射线放射线性树脂组合图案形成方法电子器件制造

[发明专利]抗蚀剂用化合物及放射线敏感性组合物-CN200580044296.6有效
发明人：越后雅敏;小黑大 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2005-12-26 - 公布日： 2007-12-12 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明的放射线敏感性组合物包含1～80重量％的固体成分和20～99重量％的溶剂。固体成分含有化合物(B)，所述化合物(B)满足下述条件：(a)具有向多酚化合物(A)的至少一个酚性羟基导入酸解离性官能团的结构，所述多酚化合物(A)通过碳原子数为12～36、2～4价的芳香族酮或芳香族醛与碳原子数6～15、含有1～3个酚性羟基的化合物的缩合反应而合成；和(b)分子量为400～2000。含有化合物(B)的组合物对KrF准分子激光、远紫外线、电子射线或X射线等放射线为高敏感度，可以形成高分辨率、高耐热性、高耐蚀刻性的抗蚀剂图案，从而可以有效用作酸增殖型非高分子类抗蚀剂材料。
抗蚀剂用化合物放射线敏感性组合

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法-CN202180016486.6在审
发明人：畠山直也;福崎英治;吉野文博 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2021-02-16 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、通过上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有(A)树脂及(B)通过光化射线或放射线的照射产生酸的由特定的通式(1)表示的化合物。
感光射线放射线性树脂组合图案形成方法电子器件制造

[发明专利]光学部件的制备方法-CN201010167956.2有效
发明人：伊藤俊树 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2010-04-22 - 公布日： 2010-10-27 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：光学部件的制备方法包括用放射线照射放射线敏感的可聚合组合物的照射工序。该放射线敏感的可聚合组合物至少包括可聚合化合物(a)和可聚合或不可聚合的组分(c)。该照射工序至少包括用放射线只照射第一照射区域的第一步骤和用放射线只照射第二照射区域的第二步骤，该第一照射区域为放射线敏感的可聚合组合物的一部分，该第二照射区域为放射线敏感的可聚合组合物的一部分并且在尺寸和位置的至少一个上不同于该第一照射区域当组分(c)可聚合时，在该第一和第二步骤中将组分(c)的聚合速率控制为低于可聚合化合物(a)的聚合速率。
光学部件制备方法

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、图案形成方法及电子器件的制造方法-CN201680062519.X在审
发明人：吉野文博 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2016-11-01 - 公布日： 2018-07-31 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、以及使用了该感光化射线性或感放射线性树脂组合物的图案形成方法及电子器件的制造方法，本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物用于形成膜厚为1μm以上的感光化射线性或感放射线性膜，并且用于进行基于波长200～300nm的光化射线或放射线的曝光，其中，由所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的膜厚12μm的感光化射线性或感放射线性膜中的对波长248nm的光的透射率为5％以上，且使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物，并通过波长200～300nm的光来对膜厚为1μm以上的感光化射线性或感放射线性膜进行曝光时，能够形成灵敏度优异，并且具有优异的剖面形状的图案。
感光射线感放射线性树脂组合物感放射线性波长膜厚电子器件图案形成光化射线剖面形状放射线灵敏度曝光透射率制造图案

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法及感光化射线性或感放射线性树脂组合物-CN201580013849.5在审
发明人：藤森亨;森弘喜 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2015-03-13 - 公布日： 2016-11-09 - 主分类号： G03F7/26 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法、及由所述制造方法所制造的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法包括使感光化射线性或感放射线性树脂组合物通过过滤器而进行过滤的过滤步骤，所述过滤步骤使感光化射线性或感放射线性树脂组合物通过孔径为10nm以下的第一过滤器
感光射线放射线性树脂组合制造方法

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法-CN202180024024.9在审
发明人：三好太朗;福崎英治 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2021-03-17 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、由上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有(A)通过酸的作用而极性增加的树脂及(B)通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物，该化合物由特定的通式表示，其中，上述树脂(A)包含由特定的通式表示的重复单元。
感光射线放射线性树脂组合图案形成方法电子器件制造

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法-CN201780052785.9有效
发明人：小岛雅史;浅川大辅;后藤研由;加藤启太;王惠瑜 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2017-06-09 - 公布日： 2022-04-15 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种保存稳定性优异且形成有抗蚀剂图案时的图案线宽的波动(LWR)较小的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有通过光化射线或放射线的照射而产生由下述式(I)表示的酸的化合物及树脂。抗蚀剂膜由感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成。图案形成方法及电子器件的制造方法中使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物。
感光射线放射线性树脂组合抗蚀剂膜图案形成方法电子器件制造

[发明专利]用于形成着色层的放射线敏感性组合物、滤色器和彩色液晶显示元件-CN200810125570.8有效
发明人：森下聪;庄田良平;依田杏介;角昭宽 -专利权人： JSR株式会社
申请日： 2008-06-13 - 公布日： 2008-12-17 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及用于形成着色层的放射线敏感性组合物，其含有着色剂、碱溶性树脂、多官能性单体以及光聚合引发剂，碱溶性树脂含有如下共聚物，所述共聚物是将含有选自不饱和羧酸或其酸酐和不饱和酚化合物的至少一种、和N－位取代马来酰亚胺而成的聚合性混合物在1分子中具有2个以上硫醇基的化合物的存在下聚合得到的。该组合物即使曝光量低，也可以得到不产生残膜率降低、图案缺损或侧壁腐蚀，而且耐溶剂性、与基板的密合性等优异的像素和黑底，另外在高浓度地含有颜料的条件下，作为液态组合物的保存稳定性也优异。
用于形成着色放射线敏感性组合滤色器彩色液晶显示元件

[发明专利]耐放射线树脂组合物以及耐放射线电缆-CN200910170950.8有效
发明人：反町正美;中村孔亮;木村一史;松山茂树 -专利权人：日立电线株式会社
申请日： 2009-08-27 - 公布日： 2010-03-03 - 主分类号： C08L101/04 文献下载
摘要：本发明提供一种耐放射线树脂组合物以及耐放射线电缆，其中，该耐放射线树脂组合物不仅能够用作BWR用的护套材料以及PWR用的护套材料，而且其阻燃性、耐热性、耐放射线性以及耐水性优异，能够适应于利用逆逐次法的试验本发明的耐放射线树脂组合物具备：含氯的聚合物；对聚合物赋予耐放射线性的耐放射线性赋予剂；捕捉由于放射线的照射而在聚合物中产生的离子性成分的非晶质无机材料；用于增强聚合物的机械强度，使用量小于等于所述非晶质无机材料使用量的增强材料
放射线树脂组合以及电缆

[发明专利]活性能量射线敏感性树脂组合物、活性能量射线敏感性树脂膜以及使用该膜形成图案的方法-CN03821106.8有效
发明人：市村国宏;森田知之;川延淳一;安达大作;井上和夫 -专利权人：株式会社村上;市村国宏
申请日： 2003-07-04 - 公布日： 2005-10-05 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明提供一种用中性水即可进行显影的活性能量射线敏感性树脂组合物。活性能量射线敏感性树脂组合物，其特征在于：将不溶或难溶于水、通过活性能量射线的作用生成酸的产酸剂以微粉状分散于水溶性树脂的水溶液中，形成分散液，使酸反应性不溶剂溶解或分散于上述分散液中，其中所述酸反应性不溶剂通过酸的作用，使该水溶性树脂不溶解。
活性能量射线敏感性树脂组合以及使用形成图案方法

[发明专利]形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物和层间绝缘膜-CN200510105516.3无效
发明人：花村政晓 -专利权人： JSR株式会社
申请日： 2005-09-23 - 公布日： 2006-03-29 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：提供一种形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物，其能够形成分辨率高，能够充分厚膜化，且透明性、耐热性、密合性、耐溶剂性等各种物性都优良的层间绝缘膜，并提供由该树脂组合物形成的层间绝缘膜。形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物特征在于包括(A)将(a)10～50重量％含酸性官能团的聚合性不饱和化合物、(b)20～60重量％含脂环状烃基而无酸性官能团的聚合性不饱和化合物以及(c)5～40重量％其它聚合性不饱和化合物聚合所得的碱可溶性共聚物；(B)聚合性不饱和化合物；(C)光聚合引发剂；以及(D)偶合剂。层间绝缘膜由该形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物形成。
形成层绝缘射线敏感性树脂组合

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法、化合物-CN202180041834.5在审
发明人：小岛雅史;高田晓;后藤研由;川端健志;牛山爱菜 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2021-05-19 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明的第1课题在于提供一种可获得良好的形状的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，本发明的第2课题在于提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。并且，本发明的第3课题在于提供一种能够适合用于上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的化合物。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物、重均分子量为30,000以下的酸分解性树脂及溶剂，上述通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物包含化合物(I)
感光射线放射线性树脂组合抗蚀剂膜图案形成方法电子器件制造化合物

[发明专利]化合物的药用用途及其药物制剂-CN201110127457.5有效
发明人：杜博 -专利权人：杜博
申请日： 2011-05-17 - 公布日： 2011-11-23 - 主分类号： A61K31/4196 文献下载
摘要：本发明公开了一种化合物的用途及其制剂，本发明属于医药技术领域，具体为N-(2-甲氧基乙基)-2-(-3-硝基-1，2，4-三氮唑-1-)乙酰胺和硝基三氮唑乙酸乙酯的药物组合物在制备增加肿瘤细胞对放射线的敏感作用药物中的应用临床试验表明600-1000mg的该药物组合物具有很好的增敏作用，该药注射使用后使肿瘤细胞对射线的敏感性提高，照射低剂量可以达到高剂量的效果，而机体的各项机能不会下降过多，所以该药具有广泛的市场前景。
化合物药用用途及其药物制剂

[发明专利]射线敏感性树脂组合物、固化膜及其形成方法、液晶显示元件的阵列基板及其形成方法-CN201110320842.1有效
发明人：米田英司;西信弘;儿玉诚一郎;猪俣克巳 -专利权人： JSR株式会社
申请日： 2011-10-18 - 公布日： 2012-05-16 - 主分类号： G03F7/008 文献下载
摘要：本发明涉及一种射线敏感性树脂组合物、固化膜及其形成方法、液晶显示元件的阵列基板及其形成方法。本发明的目的是提供兼具低温焙烧和贮存稳定性，并且具有高射线敏感度的射线敏感性树脂组合物、以及适宜用作柔性显示器的作为表面硬度、耐溶剂性及相对介电常数优异的层间绝缘膜、保护膜或隔离物的固化膜。所述射线敏感性树脂组合物含有：[A]具有(A1)含羧基的结构单元及(A2)含环氧基的结构单元的共聚物；[B]醌二叠氮化合物；以及[C]由下述式(1)以及(2)表示的化合物、叔胺化合物、胺盐、鏻盐、脒盐、酰胺化合物、酮亚胺化合物、封端型异氰酸酯化合物、含有咪唑环的化合物及包合化合物构成的群组中选出的至少一种固化剂。
射线敏感性树脂组合固化及其形成方法液晶显示元件阵列

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