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[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法、图案形成方法及电子器件的制造方法-CN202080045638.0在审
发明人：王惠瑜;丹吴直纮;山本庆;丸茂和博 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2020-04-28 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： C07C309/17 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种能够形成缺陷被抑制的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法。并且，本发明的其他课题在于提供一种包括上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法的图案形成方法、及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法为至少包含通过酸的作用分解而极性增大的树脂、通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物及溶剂的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法，是通过上述光化射线或放射线的照射产生酸的化合物包含选自由化合物(I)～下述化合物(III)组成的组中的1种以上的化合物，将包含上述通过酸的作用分解而极性增大的树脂及第1溶剂的第1溶液与选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上的化合物混合而制造感光化射线性或感放射线性树脂组合物的方法
感光射线放射线性树脂组合制造方法图案形成电子器件

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法-CN202280014601.0在审
发明人：山口修平;三好太朗;吉冈知昭;福崎英治 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2022-01-17 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供一种能够减小所形成的图案的LWR的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物为包含具有重复单元(a)的树脂(A)的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，上述重复单元(a)是具有通过光化射线或放射线的照射使脱离基脱离而产生酸的离子性基团，并且将上述脱离基取代为氢原子而成的重复单元的分子量为300以下的重复单元，相对于上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的总固体成分，上述重复单元(a)为规定量以上。
感光射线放射线性树脂组合抗蚀剂膜图案形成方法电子器件制造

[发明专利]放射线敏感性肿瘤靶向启动子及用途-CN200910061396.X无效
发明人：周云峰;廖正凯;周福祥;谢丛华;熊杰;孙文洁 -专利权人：武汉大学
申请日： 2009-04-03 - 公布日： 2009-08-19 - 主分类号： C12N15/11 文献下载
摘要：本发明公开了一种放射线敏感性肿瘤靶向启动子及用途，涉及嵌合启动子的构建，放射线对嵌合启动子活性的增强作用，放射线与基因治疗联合用于杀伤肿瘤细胞的协同作用。采用正常细胞和三种不同肿瘤细胞进行研究，通过嵌合启动子调控的下游荧光素酶报告基因的表达，评价嵌合启动子的特异性和放射线对嵌合启动子活性的影响。并通过检测细胞增殖率、细胞凋亡率来评价放射线与嵌合启动子调控HRP/IAA联合使用时的协同杀伤作用。结果证实，嵌合启动子具有肿瘤特异性，同时放射线可以增强嵌合启动子活性，放射线与其联用时对多种肿瘤(宫颈癌、肝癌和肺癌)细胞有显著的杀伤作用。
放射线敏感性肿瘤靶向启动子用途

[发明专利]放射线敏感性树脂组合物和滤色器-CN200810003776.3无效
发明人：荒井雅史;河本达庆;松本龙;小林和博 -专利权人： JSR株式会社
申请日： 2008-01-22 - 公布日： 2008-07-30 - 主分类号： G03F7/031 文献下载
摘要：一种放射线敏感性树脂组合物，其含有碱溶性树脂、着色剂、多官能性单体和光聚合引发剂，所述碱溶性树脂是选自不饱和羧酸(酐)和不饱和酚化合物的至少一种、含有烯丙基的化合物和与上述任意一种化合物不同的不饱和化合物的共聚物
放射线敏感性树脂组合滤色器

[发明专利]用于形成着色层的放射线敏感性组合物、滤色器以及彩色液晶显示元件-CN200710096681.6有效
发明人：森下聪;依田杏介 -专利权人： JSR株式会社
申请日： 2007-04-23 - 公布日： 2007-11-07 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及用于形成着色层的放射线敏感性组合物，其含有(A)着色剂、(B)碱溶性树脂、(C)多官能性单体以及(D)光聚合引发剂，其中(B)碱溶性树脂含有以下述成分作为构成成分的共聚物：(b1)选自不饱和羧酸、不饱和羧酸酐和不饱和酚化合物的至少一种、(b2)具有脂环式碳环结构的不饱和化合物、(b3)具有氧杂环丁烷环结构的不饱和化合物。该组合物中，碱溶性树脂本身的保存稳定性良好，即使在高颜料浓度下其颜料分散液和液态组合物的保存稳定性优异，在低曝光量下也不会发生残膜率低、图案边缘缺损或凹陷，可得到耐溶剂性、与基板的贴合性等优异的像素和黑矩阵
用于形成着色放射线敏感性组合滤色器以及彩色液晶显示元件

[发明专利]图案形成方法、用于制造电子器件的方法和电子器件-CN201380044148.9有效
发明人：涩谷明规;片冈祥平;松田知树;福原敏明;后藤研由 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2013-08-16 - 公布日： 2019-05-10 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明提供了一种图案形成方法，所述方法包括：通过使用放射线敏感或光化射线敏感树脂组合物形成膜，该组合物含有：(A)在阳离子部分中含有氮原子的盐化合物；(B)能够在用光化射线或放射线照射后生成酸的化合物；和(C)能够通过酸的作用增加极性而降低在含有有机溶剂的显影液中的溶解度的树脂，将所述膜曝光；以及通过使用含有有机溶剂的显影液将所曝光的膜显影
图案形成方法用于制造电子器件

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法-CN202080006761.1有效
发明人：金子明弘;小岛雅史;上村稔;后藤研由;白川三千纮 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2020-01-16 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： C08F20/10 文献下载
摘要：本发明提供一种能够形成分辨率优异且LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含树脂以及通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物，其中，由式(1)求出的A值为0.130以上，且通过上述光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物包含选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上。
感光射线放射线性树脂组合抗蚀剂膜图案形成方法电子器件制造

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法-CN202180039928.9在审
发明人：牛山爱菜;高田晓;小岛雅史;后藤研由;白川三千纮;加藤启太 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2021-05-19 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种即使在长期保存后也能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，本发明的课题还在于提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含通过酸的作用分解而极性增大的树脂及通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物，上述通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物包含选自化合物(I)及(III)
感光射线放射线性树脂组合抗蚀剂膜图案形成方法电子器件制造

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法-CN202080033770.X在审
发明人：高田晓;后藤研由;小岛雅史;牛山爱菜 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2020-06-16 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。还提供一种使用了感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含酸分解性树脂及通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物，通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物包含1种以上的选自由化合物(I)～(III)组成的组中的化合物，选自由上述化合物(I)～(III)组成的组中的化合物的含量相对于组合物中的总固体成分超过20.0质量％。
感光射线放射线性树脂组合抗蚀剂膜图案形成方法电子器件制造

[发明专利]共聚物、树脂组合物、显示板用隔片、平坦化膜、热固性保护膜、微型透镜、以及共聚物的制备方法-CN201210462360.4有效
发明人：远藤昌之 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2008-09-29 - 公布日： 2013-03-20 - 主分类号： C08F220/32 文献下载
摘要：本发明不使用第3单体，通过使具有羧基的单体和具有环氧基的单体两种成分共聚得到作为射线敏感性树脂组合物的原料聚合物可实用的共聚物。使具有羧基的单体与特定的非聚合性化合物反应后，再使该反应混合物与具有环氧基的单体共聚。含有所得的共聚物的射线敏感性树脂组合物及热固性树脂组合物保存稳定性良好，可用作液晶显示板用等的隔片、TFT元件平坦化膜以及滤色器保护膜。
共聚物树脂组合显示板用隔片平坦热固性保护膜微型透镜以及制备方法

[发明专利]共聚物、树脂组合物、显示板用隔片、平坦化膜、热固性保护膜、微型透镜、以及共聚物的制备方法-CN201210461777.9有效
发明人：远藤昌之 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2008-09-29 - 公布日： 2013-03-20 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明不使用第3单体，通过使具有羧基的单体和具有环氧基的单体两种成分共聚得到作为射线敏感性树脂组合物的原料聚合物可实用的共聚物。使具有羧基的单体与特定的非聚合性化合物反应后，再使该反应混合物与具有环氧基的单体共聚。含有所得的共聚物的射线敏感性树脂组合物及热固性树脂组合物保存稳定性良好，可用作液晶显示板用等的隔片、TFT元件平坦化膜以及滤色器保护膜。
共聚物树脂组合显示板用隔片平坦热固性保护膜微型透镜以及制备方法

[发明专利]共聚物、树脂组合物、显示板用隔片、平坦化膜、热固性保护膜、微型透镜、以及共聚物的制备方法-CN200880109608.0有效
发明人：远藤昌之 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2008-09-29 - 公布日： 2010-12-01 - 主分类号： C08F220/32 文献下载
摘要：本发明不使用第3单体，通过使具有羧基的单体和具有环氧基的单体两种成分共聚得到作为射线敏感性树脂组合物的原料聚合物可实用的共聚物。使具有羧基的单体与特定的非聚合性化合物反应后，再使该反应混合物与具有环氧基的单体共聚。含有所得的共聚物的射线敏感性树脂组合物及热固性树脂组合物保存稳定性良好，可用作液晶显示板用等的隔片、TFT元件平坦化膜以及滤色器保护膜。
共聚物树脂组合显示板用隔片平坦热固性保护膜微型透镜以及制备方法

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法、化合物、树脂-CN202080060142.0在审
发明人：高田晓;后藤研由;小岛雅史;牛山爱菜;白川三千纮;加藤启太;冈宏哲;藤田光宏;白石康晴 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2020-07-29 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种用于能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的树脂以及作为其单体的化合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有树脂X，所述树脂X含有来源于下述化合物的重复单元。化合物：其含有2个以上由阴离子部位和阳离子部位构成的结构部位及聚合性基团，通过光化射线或放射线的照射产生含有来源于上述2个以上的结构部位中的上述阴离子部位的酸性部位的酸。
感光射线放射线性树脂组合抗蚀剂膜图案形成方法电子器件制造化合物

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法-CN201980057549.5在审
发明人：八木一成;金子明弘;川岛敬史;后藤研由 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2019-08-13 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明能够提供一种LER性能及崩塌抑制能力优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含通过酸的作用而极性增大的树脂及通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物，该感光化射线性或感放射线性树脂组合物中，树脂具有由通式(B‑1)表示的重复单元。
感光射线放射线性树脂组合抗蚀剂膜图案形成方法电子器件制造

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、正型图案形成方法、电子器件的制造方法-CN202180093287.5在审
发明人：山口修平;三好太朗 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2021-12-20 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供一种经时稳定性及所形成的图案的LWR抑制性优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、正型图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含具有重复单元(a)的树脂(A)及共轭酸的pKa为13.00以下的碱性化合物，上述重复单元(a)具有通过光化射线或放射线的照射使脱离基脱离而产生酸的非离子性基团，并且将上述脱离基取代为氢原子而成的重复单元的分子量为300以下，相对于上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的总固体成分，上述重复单元(a)为规定量。
感光射线放射线性树脂组合抗蚀剂膜图案形成方法电子器件制造

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