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[实用新型]一种具有报警功能的抛光机-CN201720367671.0有效
发明人：刘磊;耿卫兵;王全生;朱军 -专利权人：江苏鑫蕴模塑科技有限公司
申请日： 2017-04-10 - 公布日： 2018-03-13 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种具有报警功能的抛光机，涉及一种抛光机领域。包括抛光盘、抛光罩、机体、连接柱、把手、距离感应器、指示灯；所述的连接柱一端与抛光盘相连另一端与抛光罩相连，所述的抛光罩通过螺栓与机体相连，所述的把手位于机体的一端并与机体通过螺栓相连，所述的距离感应器位于抛光罩内部，一端与位于抛光盘表面的传感器通过线路连接，另一端与位于机体外表面的指示灯通过线路连接。该装置能够提高抛光的合格率，减少误差，为我国抛光机领域作出贡献。
一种具有报警功能抛光机

[实用新型]一种大米抛光机-CN202320213211.8有效
发明人：张赞 -专利权人：湖南益粮机械有限公司
申请日： 2023-02-15 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： B02B3/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种大米抛光机，包括箱体和底座，所述箱体内设有推进器、抛光槽和导板，所述推进器固定安装在所述箱体内壁上，所述推进器一侧设有雾化喷头，所述抛光槽内形成一个工作空间，所述工作空间内设有抛光辊，所述导板位于所述抛光槽正下方；通过将抛光辊周面设置三条筋和螺纹凸条，三条筋能提高抛光次数，使大米在抛光槽内多次与抛光网相互接触摩擦，有效提高了大米抛光精度，使得抛光后的大米更加白亮，螺纹凸条能将在工作空间内的大米向右端出料口输送
一种大米抛光机

[发明专利]一种精孔抛光工艺装置及方法-CN202310246519.7在审
发明人：陈寅丘;熊朝林;庹先定;郭学卫;朱婷婷;姜三琦;张虎 -专利权人：阿为特精密机械（常熟）有限公司
申请日： 2023-03-15 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： B24B29/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种精孔抛光工艺装置及方法，包括壳体、转盘机构、抛光机构、偏心机构；转盘机构设置在壳体底部，包括转盘控制器、转盘手柄和转盘，转盘控制器通过转盘轴与转盘相连接，转盘用于固定待研磨产品，待研磨产品包括待研磨精孔，待研磨精孔与转盘轴同心；抛光装置包括连接块、抛光电机和抛光头，抛光电机固定设置在连接块上，通过抛光轴与抛光头相连接，抛光头与待研磨精孔相对，转盘手柄带动转盘控制器左右移动以调整转盘的位置，使得抛光轴与待研磨精孔非同心；偏心机构与抛光机构正交，用于驱动抛光机构上下往复运动，以带动抛光头在待研磨精孔内上下移动，将待研磨精孔进行抛光研磨。本发明保证研磨的均匀，减少孔抛光的不可控性。
一种抛光工艺装置方法

[发明专利]碳化硅晶片及其制造方法-CN201711255198.8有效
发明人：林钦山;吕建兴;刘建成;李依晴 -专利权人：环球晶圆股份有限公司
申请日： 2017-12-01 - 公布日： 2020-09-11 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：所述碳化硅晶片的制造方法包括：提供碳化硅晶片，具有待抛光面；其中，所述待抛光面具有第一表面与第二表面；以抛光器在第一抛光液中，对所述待抛光面的所述第一表面与所述第二表面的其中一个表面进行抛光；其中，所述抛光器包含抛光垫及固定于所述抛光垫的多个研磨颗粒；以及以所述抛光器在第二抛光液中，对所述待抛光面的所述第一表面与所述第二表面的其中另一表面进行抛光；其中，所述第一抛光液的pH值不大于7，而所述第二抛光液的pH值不小于7。
碳化硅晶片及其制造方法

[实用新型]一种平面换向器零件生产用抛光结构-CN202121811974.X有效
发明人：蒋振文 -专利权人：苏州帕兰提尼智能科技股份有限公司
申请日： 2021-08-05 - 公布日： 2022-03-08 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：一种平面换向器零件生产用抛光结构，包括固定板、侧边抛光结构总成、端部抛光结构总成、自动抓料结构；所述侧边抛光结构总成包括第一旋转工作台结构、第一压紧结构、第一自动抛光结构；所述端部抛光结构总成包括第二旋转工作台结构、第二自动抛光结构。需要进行抛光的平面换向器零件通过自动抓料结构被依次抓取到侧边抛光结构总成的第一旋转工作台结构上、端部抛光结构总成的第二旋转工作台结构上，然后在第一自动抛光结构和第二自动抛光结构的作用下分别进行侧边和端部的抛光工作各个结构协同合作，不但大大提高了平面换向器零件的抛光工作效率和抛光质量，而且机械化替代人工化，大大减轻了工人的工作量，降低了人工成本。
一种平面换向器零件生产抛光结构

[实用新型]一种立柱外侧抛光装置-CN202321271895.3有效
发明人：陈佳骏;夏利民;张学斌 -专利权人：上海迅威金属制品有限公司
申请日： 2023-05-24 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： B24B23/02 文献下载
摘要：本实用新型提供一种立柱外侧抛光装置，涉及抛光技术领域，包括抛光机主体，所述抛光机主体的一端活动安装有抛光轮，所述抛光机主体与抛光轮的交接处固定安装有保护罩，抛光机主体的一侧固定安装有储水箱，所述储水箱的底部固定连接有输送管道，所述输送管道的另一端固定连接有抽水器。本实用新型通过在抛光机侧面设置独立的储水箱，在保护罩的外壁上安装提取器，将提取器与储水箱之间用输送管道连接起来，将延伸把手设置在抛光机把手的附近，方便操作人员进行控制，可以在抛光的过程中实时对抛光部位进行清理，以此来解决碎屑吸附在目标表面与抛光轮发生接触，使得抛光的部位被碎屑分隔出而对抛光的效果造成影响的问题。
一种立柱外侧抛光装置

[发明专利]电诱导辅助化学机械抛光测试装置-CN201910661325.7在审
发明人：王永光;钮市伟;寇青明;陈瑶;赵栋;刘卫卫 -专利权人：苏州大学
申请日： 2019-07-22 - 公布日： 2019-09-27 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种电诱导辅助化学机械抛光测试装置，包括：抛光液池、抛光垫、抛光盘、抛光头、驱动器、负电极以及外接电源；所述抛光液池用于盛装抛光电解液，其通过所述抛光盘带动而旋转；所述抛光垫贴合于抛光液池的底壁上；所述抛光头用于固定待抛光的晶片，并通过所述驱动器驱动而与所述抛光垫相对反向旋转，以对晶片进行机械抛光；所述外接电源的正极与所述晶片接通，负极与所述负电极接通。本发明的电诱导辅助化学机械抛光测试装置，通过电诱导作用的方式，增强晶片的氧化腐蚀，提高材料去除率，降低晶片抛光的生产成本，改善晶片的表面质量。
晶片机械抛光电诱导测试装置辅助化学抛光垫抛光液驱动器外接电源抛光负电极抛光盘抛光头接通正极材料去除率负极晶片抛光氧化腐蚀电解液底壁贴合生产成本盛装驱动

[实用新型]电诱导辅助化学机械抛光测试装置-CN201921151577.7有效
发明人：寇青明;钮市伟;王永光;陈瑶;赵栋;刘卫卫 -专利权人：苏州大学
申请日： 2019-07-22 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种电诱导辅助化学机械抛光测试装置，包括：抛光液池、抛光垫、抛光盘、抛光头、驱动器、负电极以及外接电源；所述抛光液池用于盛装抛光电解液，其通过所述抛光盘带动而旋转；所述抛光垫贴合于抛光液池的底壁上；所述抛光头用于固定待抛光的晶片，并通过所述驱动器驱动而与所述抛光垫相对反向旋转，以对晶片进行机械抛光；所述外接电源的正极与所述晶片接通，负极与所述负电极接通。本实用新型的电诱导辅助化学机械抛光测试装置，通过电诱导作用的方式，增强晶片的氧化腐蚀，提高材料去除率，降低晶片抛光的生产成本，改善晶片的表面质量。
诱导辅助化学机械抛光测试装置

[实用新型]一种电位计抛光机的控制装置-CN201120471818.3有效
发明人：周伟;谭又安;王峰;袁承静 -专利权人：武汉航空仪表有限责任公司
申请日： 2011-11-18 - 公布日： 2012-08-08 - 主分类号： B24C7/00 文献下载
摘要：本实用新型属于自动控制技术领域，涉及一种电位计抛光机，特别是涉及一种电位计抛光机的控制装置。控制装置包括面板操作系统、触摸屏、可编程控制器、执行阀、电机驱动器，可编程控制器的输入端与面板操作系统和触摸屏相接，可编程控制器的输出端分别与执行阀、电机驱动器相接。本实用新型将直线抛光和弧线抛光功能合二为一，实现自动控制转速、转角或距离、抛光时间，抛光压力、抛光结束后自动清洗并吹干，提高抛光效率并能保证电位计一致性的电位计抛光机。
一种电位抛光机控制装置

[实用新型]修整组件和化学机械研磨设备-CN201821940014.1有效
发明人：汪康;田得暄;辛君;吴龙江;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2018-11-23 - 公布日： 2019-07-19 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：一种修整组件和化学机械研磨设备，所述修整组件包括：修整盘，用于修整抛光垫的抛光面，使所述抛光垫的抛光面保持粗糙度；抛光垫修整器，具有一连接面，用于吸附所述修整盘的背面；检测单元，包括：管道，部分所述管道位于所述抛光垫修整器内，贯穿所述抛光垫修整器，所述管道的第一端位于所述抛光垫修整器的连接面且端部通过一弹性密封层密封，当所述抛光垫修整器吸附于所述修整盘的背面时，所述弹性密封层与所述修整盘接触，所述管道内用于盛放耐挥发的液体
抛光垫修整器修整盘修整组件化学机械研磨设备弹性密封层连接面抛光垫抛光面吸附背面实时侦测液体液位粗糙度第一端液位计掉落检测挥发盛放修整密封贯穿

[实用新型]一种齿轮加工用表面抛光装置-CN202221473681.X有效
发明人：周磊 -专利权人：六安市精锐齿轮有限公司
申请日： 2022-06-13 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： B24B31/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种齿轮加工用表面抛光装置，涉及齿轮加工技术领域，为解决现有技术中的普通用于齿轮加工的抛光装置抛光维度不够广泛，抛光效果不够好的问题，包括框架，其设置在所述抛光桶的内部；转轴，其安装在所述抛光桶的内部，且转轴与抛光桶转动连接；连接头，且设置在框架的一侧，且框架与连接头通过紧固螺丝固定连接，所述连接头与转轴咬合连接，所述抛光桶的一侧分别设置有电机和减速器，所述转轴和电机均通过联轴器与减速器固定连接，所述抛光桶的下方设置有磁力发生器，所述磁力发生器的上方安装有操作面板，且操作面板与磁力发生器通过紧固螺丝固定连接。
一种齿轮工用表面抛光装置

[实用新型]皮具擦油抛光器-CN201020652532.0有效
发明人：谢鸿 -专利权人：谢鸿
申请日： 2010-12-10 - 公布日： 2011-06-22 - 主分类号： A47L23/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种皮具擦油抛光器,其包括手柄、抛光体，抛光体连接于手柄上，所述抛光体由水平面部和立面部连接构成;集皮具的擦油抛光于一体携带使用方便，对皮鞋的各面都能触及擦油抛光器，使用省时省力。
皮具抛光

[实用新型]一种换向器抛光机构及其抛光检测一体机-CN202123297505.3有效
发明人：张云峰;朱炯 -专利权人：苏州工业园区安固电器有限公司
申请日： 2021-12-24 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种换向器抛光机构及其抛光检测一体机，其中换向器抛光机构，包括底座、换向器定位组件、夹持组件和抛光组件，底座上分别安装有换向器定位组件、夹持组件和抛光组件；换向器定位组件具有一个用于对换向器进行定位的压紧部，压紧部可转动地设置在底座上；夹持组件用于对换向器进行转运。工作时，夹持组件将换向器转运至换向器定位组件处，然后换向器定位组件将换向器压紧，然后抛光组件对换向器的表面进行抛光。本方案的技术效果在于：提出了一种自动化的方案来对换向器进行表面加工处理。
一种换向器抛光机构及其检测一体机

[实用新型]一种阶梯轴抛光工装-CN202222791313.6有效
发明人：刘洁;张羽 -专利权人：重庆纳川海隅机械有限公司
申请日： 2022-10-24 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： B24B29/04 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种阶梯轴抛光工装，包括：工作箱，所述工作箱的前后两侧均开设有穿孔；定位器，所述定位器安装在工作箱内的上侧壁并可上下移动；抛光器，所述抛光器有两组，分别对称安装在工作箱内的左右两侧壁上，所述抛光器的一端同轴固定有电机；联动器，所述联动器有两组，两组联动器的一端分别与定位器的两端固定连接，另一端通过轴承套设在同侧的抛光器上，所述抛光器可通过联动器随定位器上下移动而左右移动。本实用新型解决了技术中存在的无法对阶梯轴进行连续性地抛光问题。
一种阶梯抛光工装

[发明专利]化学机械抛光装置及驱动其的方法-CN202010521547.1有效
发明人：朴宗烈;潘俊昊 -专利权人：爱思开海力士有限公司
申请日： 2020-06-10 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本申请涉及化学机械抛光(CMP)装置及驱动其的方法。化学机械抛光(CMP)装置可以包括：附接有晶片的抛光头；布置在抛光头下方的抛光垫；以及被配置为将浆料供应到抛光垫与晶片之间的空间的浆料供应器。浆料供应器可以包括在抛光垫的直径方向上布置的多喷射喷嘴。
化学机械抛光装置驱动方法