专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种污染物通过高聚物扩散试验装置-CN202310766978.8在审
  • 李嘉;张展广;张景伟;黄楚豪;黎杰;刘拴成;孙佩;常雪洁 - 郑州大学
  • 2023-06-27 - 2023-09-08 - G01N13/00
  • 本发明公开了一种污染物通过高聚物扩散试验装置,包括上扩散和下扩散,所述上扩散和下扩散之间设有密封圈,所述上扩散和下扩散整体为透明玻璃,所述上扩散上设有上顶部取样口、上左部取样口和上右部取样口,所述下扩散上设有下左部取样口和下右部取样口,所述上扩散底部及下扩散顶部设有相适配的底部高聚物置样口和顶部高聚物置样口,且密封圈为相互配合的上密封圈和下密封圈,所述底部高聚物置样口和顶部高聚物置样口内侧设有凹槽结构,本发明费用成本优、模拟效果好、小巧便携以实现对不同污染物在不同密度高聚物试样中扩散系数测定。
  • 一种污染物通过高聚物扩散试验装置
  • [实用新型]一种无源累积式匹配双氡个人剂量计-CN201320580787.4有效
  • 曹磊;邓君 - 中国疾病预防控制中心辐射防护与核安全医学所
  • 2013-09-18 - 2014-02-05 - G01T1/02
  • 一种无源累积式匹配双氡个人剂量计,包括,扩散本体,所述扩散本体内设置有扩散,所述扩散室内设置有CR-39探测器,所述扩散本体中含有两个并列的扩散,所述扩散本体可抽拉地安装在盒套之中,所述盒套的表面与扩散相对应之处设置有测量时可开放和非测量时可闭合的百叶,所述扩散上方紧固有密封防尘结构,其中一个扩散的密封防尘结构的下方设置有低密度聚乙烯滤膜。本实用新型的有益效果:由于在扩散本体上设置有两个并列的扩散,并在其中一个扩散室内设置有低密度聚乙烯滤膜,能够使氡气体和氡子体进行分离,达到同时测量氡气体和氡子体的目的。
  • 一种无源累积匹配双室氡个人剂量计
  • [实用新型]一种硅片扩散炉用导流结构-CN202223406632.7有效
  • 陈摇;武笑雨;任志鹏 - 江苏华恒新能源有限公司
  • 2022-12-20 - 2023-06-09 - C30B31/16
  • 本实用新型公开了一种硅片扩散炉用导流结构,包括炉体和炉门,炉体内自上而下设置有用于暂存扩散气的暂存和用于硅片扩散扩散,所述扩散与所述暂存之间通过导流板相隔,导流板的所有侧壁均与炉体内壁密封连接,所述暂存扩散气的进气管相连通,所述扩散扩散气的出气管相连通;所述暂存室内设置有能够将其内部扩散气充分混合的搅拌结构;所述导流板上设置有控制暂存扩散连通或闭合的触发结构,暂存室内的扩散气通过所述触发结构和导流板能够均匀的散落在扩散室内本实用新型能够使扩散气混合均匀,并对混合均匀的气体具有导流的作用,使扩散气平均地分配至石英舟上各个区域,以提高硅片的合格率。
  • 一种硅片扩散导流结构
  • [发明专利]基板加工设备及用于选择性地插入扩散板的基板加工方法-CN201080030469.X有效
  • 诸成泰;朴灿用;金劲勋 - 株式会社EUGENE科技
  • 2010-07-02 - 2012-05-23 - H01L21/205
  • 根据本发明的一种实施方式,一种基板加工设备包括:具有开口的顶部的下腔;覆盖下腔的顶部的上腔,其与下腔一起形成用于基板加工的内部空间;布置在上腔的下部用于向内部空间提供反应气体的喷头,在所述喷头与上腔之间形成缓冲空间;形成在所述上腔中用以向所述缓冲空间提供反应气体的供气口,以及布置在缓冲空间内用于扩散通过供气口提供的反应气体的扩散单元。扩散单元包括:互相隔离的多个扩散区,所述多个扩散区用来使反应气体能够在其中扩散;用于使供气口与扩散区连接的多个扩散孔;以及一个或者更多个扩散板,每个都具有与扩散区相应的形状,所述一个或者更多个扩散板选择性地插入扩散
  • 加工设备用于选择性插入扩散方法

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