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- [发明专利]微纳射频器件及其制备方法-CN202110353170.8有效
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陈泽基;杨晋玲;袁泉;刘文立;杨富华
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中国科学院半导体研究所
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2021-03-31
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2022-05-24
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B81C1/00
- 一种微纳射频器件及制备方法，方法包括：在SOI片上生长隔离层；图形化隔离层，以在SOI片上形成谐振单元、电极引线、信号屏蔽层及封装环；在谐振单元的侧壁生长微纳级间隔层；去除电极引线、信号屏蔽层及封装环表面的隔离层，在SOI表面生长一层导电层，对导电层图形化，保留电极引线、信号屏蔽层、封装环部分上的导电层，以及在谐振单元与电极引线之间形成输入电极及输出电极；去除谐振单元表面的隔离层及SOI片上正对谐振单元的绝缘层该方法可在微纳射频器件谐振单元侧壁制备微纳级间隔层，进而实现微纳级电容间隙，突破微纳射频器件机电转换效率低、驱动电压高等技术瓶颈，且制备垂直引线结构，可实现低寄生、小尺寸封装。
- 射频器件及其制备方法
- [实用新型]一种光学薄膜-CN201720234837.1有效
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高育龙;亢红伟;洪莘;杨广舟
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昇印光电（昆山）股份有限公司
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2017-03-11
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2017-10-24
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G02B3/00
- 本实用新型公开了一种光学薄膜，其特征在于，包括承载体；图文结构层，所述图文结构层位于所述承载体一表面，所述图文结构层包括图文结构，所述图文结构为凸起结构或凹陷结构；微纳结构层，所述微纳结构层位于所述承载体另一表面一侧，所述微纳结构层包括微纳结构，所述微纳结构为凸起结构或凹陷结构；其中，所述图文结构所在表面与所述微纳结构所在表面相对设置；本实用新型提供的一种光学薄膜，在承载体一侧设有微纳结构，另一侧设有图文结构，这样的装饰片视觉上会显示图文结构的光影，同样也会有微纳结构的效果，使的光学薄膜的具有光影效果以及微纳结构的效果，也会使光影蒙上一层雾状效果。
- 一种光学薄膜
- [发明专利]偏光片组件及显示设备-CN201310292371.7有效
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刘伟;唐根初;唐彬;董绳财
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南昌欧菲光学技术有限公司
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2013-07-12
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2013-10-02
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G02B5/30
- 一种偏光片组件包括偏光片及微纳结构。偏光片包括本体及设于本体的一侧面的胶层。微纳结构相对于胶层形成于本体的另一侧面，微纳结构包括多个纳米尺寸的凸起，多个凸起间隔分布于所述本体的一侧面上，每一凸起的结构尺寸小于可见光波长，使得光波无法辨识出凸起结构。当具有折射梯度的微纳结构阵列的一侧与另一光学元件堆叠接触时，因为微纳结构阵列呈凹凸结构，每一凸起的结构尺寸小于可见光波长使得光波无法辨识出该微纳结构，同时凸起相互间的间隔较小，因此两者接触时空气间隙间的反射光线不会相互干涉还提供一种含有上述偏光片组件的显示设备。
- 偏光组件显示设备
- [发明专利]GaAs上微/纳光学元件制备方法-CN200710008512.2有效
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汤儆;张力;马信洲;田昭武
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厦门大学
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2007-01-30
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2008-08-06
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B81C1/00
- GaAs上微/纳光学元件制备方法，涉及一种微/纳光学元件。提供一种低成本、方法简单且无需掩模光刻等复杂工艺，并可一次性在半导体GaAs材料表面直接刻蚀加工微/纳光学阵列元件的制备方法。用具有微/纳光学阵列的石英为原始母版，将石英微/纳光学元件上的浮雕结构精确复制到高分子材料表面，并依次溅射Ti层和Pt层，表面金属化得模板电极；将模板电极作为工作电极，调节模板电极与被加工工件GaAs片平行；将电化学刻蚀溶液加入电解池，在模板电极上产生刻蚀剂，利用刻蚀溶液中的约束剂将刻蚀剂层厚度压缩至微米级或者纳米级厚度；控制GaAs片向模板电极表面移动，直至模板电极上的结构全部复制于被加工工件表面，控制两者分离
- gaas光学元件制备方法
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