专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]捕蝇器-CN98244246.7无效
  • 任艺明 - 任艺明
  • 1998-09-23 - 1999-10-20 - A01M1/02
  • 本实用新型为一种捕蝇器,包括带支脚的底座、顶部开设孔的内、外罩,底座上开设一通孔,内、外罩相应地卡合于底座顶端面上。内罩上布有许多空隙,空隙大小小于苍蝇通常个体大小。外罩是一透明体,底座是下方为开放的中空腔体。底座下方设有一底盘。底盘、底座、内、外罩为分体成型。底座与内形成的一个暗洞,通过内顶部开设的孔,利用苍蝇惯于往上、向光飞的特性,苍蝇飞进的内与外罩形成的空间内,有效地发挥了“留黑阻”的作用,最终能广泛地消灭苍蝇。采用的分体结构清洗起来更方便。
  • 捕蝇器
  • [发明专利]一种氛围灯及安装其的洗碗机-CN202011298615.9在审
  • 梁进军;王豪杰;潘叶江 - 华帝股份有限公司
  • 2020-11-18 - 2021-03-12 - F21S8/00
  • 本发明公开一种氛围灯和洗碗机,氛围灯包括灯板本体、灯板压条、导、控制面板组件和外部壳体,灯板压条压设于灯板本体后表面上,导半包围设于灯板本体上,控制面板组件设于导罩上,控制面板组件与外部壳体固定,控制面板组件下侧设置有透光口,导的在透光口内向下延伸,导区域包括夹角为锐角的第一平面和第二平面,第一平面为位于透光口内的导底部平面,第二平面为控制面板组件右侧端部一体成型或固定设置有的由上至下向前方倾斜的平面
  • 一种氛围安装洗碗机
  • [实用新型]一种氛围灯及安装其的洗碗机-CN202022682239.5有效
  • 梁进军;王豪杰;潘叶江 - 华帝股份有限公司
  • 2020-11-18 - 2021-07-27 - F21S8/00
  • 本实用新型公开一种氛围灯及安装其的洗碗机,氛围灯包括灯板本体、灯板压条、导、控制面板组件和外部壳体,灯板压条压设于灯板本体后表面上,导半包围设于灯板本体上,控制面板组件设于导罩上,控制面板组件与外部壳体固定,控制面板组件下侧设置有透光口,导的在透光口内向下延伸,导区域包括夹角为锐角的第一平面和第二平面,第一平面为位于透光口内的导底部平面,第二平面为控制面板组件右侧端部一体成型或固定设置有的由上至下向前方倾斜的平面
  • 一种氛围安装洗碗机
  • [发明专利]一种灯内-CN201210458237.5无效
  • 魏真 - 西安华士照明科技有限公司
  • 2012-11-14 - 2014-05-21 - F21V3/02
  • 本发明提出了一种灯内,包括灯内本体,灯内本体内表面的横截面为台阶的横截面,台阶的横截面包括上台阶面和下台阶面,上台阶面的内径小于下台阶面,上台阶面和下台阶面之间通过台阶连接,灯内本体顶部设置有安装孔,灯内设置在灯罩内。本发明提出了一种均匀性好的灯内
  • 一种灯内罩
  • [发明专利]用于预测晶片级缺陷可印性的设备及方法-CN201680045998.4有效
  • 阿卜杜勒拉赫曼(阿波)·塞兹吉内尔;石瑞芳 - 科磊股份有限公司
  • 2016-08-05 - 2020-03-17 - G06T7/00
  • 本发明揭示用于鉴定光刻合格性的方法及设备。使用光检验工具在不同成像配置处从校准的图案区域中的每一者获取图像。基于从所述校准的每一图案区域获取的图像恢复所述校准的图案区域中的每一者的近场。基于所述近场使用所述校准的恢复的近场产生用于模拟晶片图像的光刻模型。接着,在不同成像配置处从测试的所述图案区域中的每一者获取图像。接着,基于从所述测试获取的图像恢复所述测试近场。将所产生的模型施加到所述测试的所述近场以模拟多个测试晶片图像,且分析所述模拟的测试晶片图像以确定所述测试是否将可能导致不稳定或缺陷晶片。
  • 用于预测晶片缺陷可印性设备方法
  • [发明专利]具有架的无盖线性光源导引装置-CN201410803517.4在审
  • 陈彦杰;程士哲;廖建良 - 景传光电股份有限公司
  • 2014-12-22 - 2015-06-24 - F21V8/00
  • 本发明涉及一种具有架的无盖线性光源导引装置,将发光二极管模块设于导引装置上。架环设于导引装置的接收端,包括一屏蔽顶盖、一屏蔽背盖、两屏蔽侧面及两设于屏蔽侧面的屏蔽握持部,其中屏蔽背盖包括导引装置的接收端,光线由此进入导引装置;屏蔽握持部包括复数可与发光二极管模块兼容的握持组件,以稳固地将发光二极管模块支撑在导引装置上;架使发光二极管模块和导引装置之间的距离及发光二极管模块和导引装置之间的角度是固定的,以维持最佳准直及接近(proximity),保护接收的光强度和发射的一致性
  • 具有无盖式线性光源导引装置
  • [发明专利]减少微影制程旁瓣的方法-CN01109524.5无效
  • 王立铭;蔡高财 - 华邦电子股份有限公司
  • 2001-03-30 - 2002-11-13 - H01L21/027
  • 一种改善微影制程旁瓣产生的方法,其包括下列步骤于半导体基底上形成阻层;以相移对此阻层进行曝光,将罩上的图形转移至阻上;之后,对曝光后的阻层进行后曝光烘烤步骤;最后再进行显影,完成阻层的图案化本发明特点可减少旁瓣的产生;仅以调整制程参数即可增加阻层的对比,不须额外制作,或是增加额外制程,与现有的制程兼容;应用范围广泛,不受阻种类限制。可应用于ArF,KrF,I-line或G-line或DUV的阻材质。
  • 减少微影制程旁瓣方法
  • [发明专利]一种曝光显影工艺-CN202110488523.5在审
  • 郑永庆;张衡;陈宏渊 - 艾斯尔光电(南通)有限公司
  • 2021-05-06 - 2021-07-16 - G03F7/32
  • 本发明公开了一种曝光显影工艺,包括以下步骤:A、首先将置于载台上,并通过负压将吸附固定于载台上;B、将载台通过多个气缸顶紧;C、将曝光系统的光源通过聚光透镜照射至罩上且光源完全遮盖,对光进行曝光;D、将曝光后放置于显影液中进行显影;E、将显影后的倾斜放置于放置架上,并冲洗光,最后进行干燥,本发明采用的工艺操作简单,能够实现对光的均匀曝光和均匀显影,提高了加工质量
  • 一种曝光显影工艺
  • [发明专利]可装设数块支架及微影曝光系统-CN02106111.4有效
  • 林本坚 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2002-04-03 - 2003-10-15 - G03F1/16
  • 本发明公开了一种可装设数块支架及微影曝光系统。一种可装设数块支架,具有复数个窗口,可装设复数个,以进行微影曝光程序,并在晶圆上定义由这些所组合成的曝光结合区域,其中在每一个的侧边上具有微调装置,可在装设于窗口中时,调整的位置与角度,而使复数个彼此间完全的平行。如此,在使用微影曝光系统时,可移动可装设数块支架,将要进行曝光的移动至曝光光源下方,以进行微影曝光程序而在晶圆表面,形成由这些任意组合的图案。
  • 装设数块光罩支架曝光系统

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