专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]对准系统及对准标记-CN202011116436.9在审
  • 郑谕潍;陈建豪 - 联华电子股份有限公司
  • 2020-10-19 - 2022-04-22 - G03F9/00
  • 本发明公开一种对准系统及对准标记,其中该对准系统包含一光源用于发射一光线,一对准标记设置于一基底上,对准标记用于接受第一光线,对准标记包含一第一图案和一第二图案设置于基底上,第一图案包含一第一区域和一第二区域第二区域和第四区域相对于对称轴呈对称,第一区域包含有多条第一标记线互相平行,相邻的第一标记线具有第一间距,第二区域包含有多条第二标记线互相平行,相邻的第二标记线具有第二间距,第一间距和第二间距相异,一传感器用于检测由对准标记绕射光线而来的一绕射光
  • 对准系统标记
  • [发明专利]对准系统及对准方法-CN200510088148.6有效
  • 吴兆明 - 友达光电股份有限公司
  • 2005-07-29 - 2006-01-04 - G03F7/20
  • 一种对准系统及其方法,适用于半导体或液晶显示器工艺中曝光前的光掩模对准对准系统包括对准单元、至少一影像处理单元以及至少一监控显示装置对准单元具有多组影像撷取装置,用以同时监测多组光掩模标记对应于一基板的多组基板标记的对准状态。影像处理单元将撷取信号转换为影像信号,使多组影像同时显示于监控显示装置上。
  • 对准系统方法
  • [发明专利]对准器结构及对准方法-CN201810085860.8有效
  • 曹生贤 - 应用材料公司
  • 2015-02-27 - 2021-05-14 - C23C16/04
  • 本发明的目的在于提供一种对准器结构,以相对较大的移动尺度结束基板(S)及掩模(M)间的第1次相对移动后,以相对较小的移动尺度执行基板(S)及掩模(M)间的第2次相对移动,从而能够实现迅速而精密的基板及掩模的对齐本发明的对准器结构作为在基板(S)表面执行薄膜沉积工序之前对准掩模(M)及基板(S)的对准器结构,包括:第1次对准部(100),其借助于基板(S)及掩模(M)的第1相对移动,依次地第1次对准基板(S)及掩模(M);第2次对准部(200),其在借助于所述第1次对准部(100)的第1次对准后,借助于基板(S)及掩模(M)的第2相对移动,依次地第2次对准基板(S)及掩模(M);所述第2相对移动的移动尺度小于所述第
  • 对准结构方法
  • [发明专利]对准方法及对准系统-CN201610309546.4有效
  • 张强;郝静安 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
  • 2016-05-11 - 2019-02-15 - G03F9/00
  • 一种对准方法及对准系统,其中对准方法包括:提供待曝光晶圆;将待曝光晶圆放置在基准平面上;对曝光面进行对准测量,获得测量距离;进行曝光面与基准平面之间的调平测量,获得调平数据;根据调平数据和测量距离,获得扩张参考值;根据扩张参考值和标准距离的差异,获得扩张补偿值;根据扩张补偿值,调整光刻工艺参数以实现对准。本发明在扩张补偿值的计算中,加入了曝光面的调平数据;在未增加对准标志的前提下,能够获得曝光面内对准标志和基准点之间的实际距离,能够有效的减小晶圆翘曲对曝光对准误差的影响,有效提高所获得曝光补偿值的补偿精度,提高对准精度。
  • 对准方法系统
  • [发明专利]对准器结构和对准方法-CN201680023001.5在审
  • 曹生贤;安成一 - VNI斯陆深株式会社
  • 2016-04-01 - 2018-04-10 - H01L21/68
  • 本发明的目的是提供一种对准器结构,通过提供用于在基板(S)和掩模(M)垂直的状态下使基板(S)和掩模(M)固定且对准对准结构而能够在基板S和掩模M垂直的状态下良好处理基板;以及一种对准方法。本发明的对准器结构包括掩模夹紧单元(100),被设置在工艺腔室(10)中以便夹紧掩模(M);基板夹紧单元(200),用于夹紧基板载体(320),基板(S)通过静电卡盘吸住并固定到基板载体上;对准单元(400),相对于掩模(M)而相对移动基板载体(320),以便使由基板夹紧单元(200)夹紧的基板(S)和由掩模夹紧单元(110)夹紧的掩模M对准;以及紧密接触驱动单元,用于允许通过对准单元(400)对准的基板
  • 对准结构方法
  • [发明专利]对准器结构及对准方法-CN201580010595.1有效
  • 曹生贤 - VNI斯陆深株式会社
  • 2015-02-27 - 2018-01-30 - H01L51/56
  • 本发明的目的在于提供一种对准器结构,以相对较大的移动尺度结束基板(S)及掩模(M)间的第1次相对移动后,以相对较小的移动尺度执行基板(S)及掩模(M)间的第2次相对移动,从而能够实现迅速而精密的基板及掩模的对齐本发明的对准器结构作为在基板(S)表面执行薄膜沉积工序之前对准掩模(M)及基板(S)的对准器结构,包括第1次对准部(100),其借助于基板(S)及掩模(M)的第1相对移动,依次地第1次对准基板(S)及掩模(M);第2次对准部(200),其在借助于所述第1次对准部(100)的第1次对准后,借助于基板(S)及掩模(M)的第2相对移动,依次地第2次对准基板(S)及掩模(M);所述第2相对移动的移动尺度小于所述第
  • 对准结构方法
  • [发明专利]一种键合机台装置与键合对准的方法-CN201310013119.8有效
  • 李平 - 陆伟
  • 2013-01-14 - 2013-05-01 - H01L21/60
  • 本发明涉及半导体制造键合技术,具体涉及一种键合机台装置与键合对准的方法。包括将顶部对准相机和底部对准相机分别与标准对准标识对准;将顶部卡盘对准标识与底部对准相机对准,将底部卡盘对准标识与顶部对准相机对准;将顶部晶圆对准标识与顶部卡盘对准标识对准;底部晶圆对准标识与底部卡盘对准标识对准;顶部晶圆对准标识与底部对准相机对准,将底部晶圆对准标识与顶部对准相机对准对准后的顶部晶圆与底部晶圆进行键合。通过本发明实质上减少了卡盘是否对准这个未知参数,使晶圆对准更加精确,从而解决键合过程中对准度低导致影像传感器器良品率低与对准时间长的问题,进而提高影像传感器的良品率,减少整个键合工艺的时间,提高生产效率
  • 一种机台装置对准方法
  • [实用新型]一种承载装置和检测设备-CN202320541714.8有效
  • 庞芝亮;陈鲁 - 深圳中科飞测科技股份有限公司
  • 2023-03-14 - 2023-08-29 - G01N21/01
  • 本实用新型公开了一种承载装置和检测设备,承载装置包括基座;设置于基座的承载机构,承载机构包括承载面;以及对准机构,对准机构包括安装架和对准组件,对准组件位于靠近承载机构的承载面的一侧,对准组件用于带动待测件相对承载面沿第二方向移动由于对准组件位于靠近承载机构的承载面的一侧,即对准组件设置在承载面的上方,对准组件位于待测的上方空间内,避免了对准组件与承载机构以及待测件两侧部件之间的结构干涉;同时,将对准组件设置在承载机构的上方,无需将对准组件分设在对准机构的两侧,使得对准机构能够实现集成化和简约化,以及减少动力源数量,有利于提高对准效率以及准确性。
  • 一种承载装置检测设备
  • [发明专利]显示装置和用于制造该显示装置的方法-CN202180075090.9在审
  • 金范俊;任铉德 - 三星显示有限公司
  • 2021-10-14 - 2023-07-25 - H01L27/15
  • 提供了一种显示装置和用于制造该显示装置的方法。该显示装置包括:第一对准电极和第二对准电极,彼此分隔开;发光元件,布置在第一对准电极与第二对准电极之间;第一辅助电极,设置在发光元件的一侧上并且与第一对准电极分离;以及第二辅助电极,设置在发光元件的另一侧上并且与第二对准电极分离,其中,对准信号被施加到第一对准电极,并且具有与对准信号不同的相位的第一辅助信号被施加到第一辅助电极。
  • 显示装置用于制造方法
  • [发明专利]一种晶圆的夹持装置-CN202211515406.4在审
  • 田凯佳 - 拓荆键科(海宁)半导体设备有限公司
  • 2022-11-29 - 2023-04-28 - H01L21/68
  • 本发明提供了一种晶圆的夹持装置,用于使晶圆自动调整至居中位置,夹持装置包括:晶圆平台,用于放置晶圆,晶圆平台的底部通过连接杆竖直连接至旋转平台;以及多个晶圆对准部,晶圆对准部设有对准块,对准块与晶圆侧周相抵接,多个对准块沿晶圆的周向均匀分布,晶圆对准部的底部通过支撑杆固定连接至旋转平台,晶圆对准部还设有偏心块,旋转平台带动整个夹持装置旋转时,多个偏心块在离心力的作用下拉动或推动对准块以使多个对准块相配合来移动晶圆
  • 一种夹持装置

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