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- [发明专利]一种RIE黑硅的制作方法-CN201710243104.9在审
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于满
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北京市合众创能光电技术有限公司
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2017-04-14
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2017-08-11
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H01L31/18
- 该制作方法使用如下配方对硅片进行处理BOEH2O2H2O=125,与硅片反应的温度为40℃,与硅片反应的时间为200秒,H2O,与硅片反应的温度为室温,与硅片反应的时间为180秒,HCl乙醇H2O=1118,与硅片反应的温度为室温,与硅片反应的时间为180秒,H2O,与硅片反应的温度为室温,与硅片反应的时间为180秒,HF,5%,与硅片反应的温度为室温,与硅片反应的时间为180秒,H2O,与硅片反应的温度为室温,与硅片反应的时间为180秒,本发明能增加对光子的吸收,提高转换效率。同时反应溶液易于集中处理,便于大规模生产。
- 一种rie制作方法
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