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[发明专利]测量透光基板中尺寸变化的方法和装置-CN200680014608.3有效
发明人： R·L·福克斯;K·C·坎恩;A·J·普里斯科达 -专利权人：康宁股份有限公司
申请日： 2006-04-20 - 公布日： 2009-07-29 - 主分类号： G06F1/28 文献下载
摘要：一种测量透光基板中尺寸变化的方法包括在参考板上形成参考标记阵列、在透光基板上形成基板标记阵列、将参考板和透光基板层叠成使得参考标记和基板标记重叠、在处理透光基板之前和之后相对于参考标记的坐标测量基板标记的坐标、以及从在处理透光基板之前和之后所测量的基板标记的相对坐标之间的差异来确定透光基板中的尺寸变化。
测量透光基板中尺寸变化方法装置

[发明专利]基板对组标记方法及其显示面板、显示装置-CN202011408247.9有效
发明人：廖辉华 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2020-12-03 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： G02F1/1333 文献下载
摘要：本申请公开了一种基板对组标记的制备方法及其显示面板、显示装置，该方法包括：提供具有BM标记的CF基板；将具有BM标记的CF基板作为基准玻璃基板；基准玻璃基板上包括多个BM标记；提供基于BPS工艺制备的CF基板；将基于BPS工艺制备的CF基板作为待标记CF基板；基于基准玻璃基板上的各个BM标记的BM标记位置，在待标记CF基板上分别制备一一对应各BM标记的各个LOC标记，使得各BM标记位置与各对应LOC标记的LOC标记位置一一对应重合，进而改善LOC产品单独制造时因玻璃精度差异导致的标记(mark)偏移，达到Cell制程正常且精准的对组需求，提升BPS产品的LOC标记精度，改善Cell制程的对组精度，减少了破片率
标记方法及其显示面板显示装置

[发明专利]基板切割标记及具有该基板切割标记的基板-CN201510387675.0有效
发明人：李亚锋 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2015-07-03 - 公布日： 2017-03-15 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：本发明公开一种基板切割标记，其包括边切割精度标记(11)及倒角精度标记(12)，其中，所述倒角精度标记(12)设置于所述边切割精度标记(11)的角落。本发明还公开一种具有该基板切割标记的构成液晶显示面板的基板。本发明通过重新设计基板切割标记，使得在同样的构成液晶显示面板的基板上设置的基板切割标记大大减少，并且基板切割标记都设置在基板的角落处，在这些基板切割标记所在区域的形成黑色矩形框的材料均被整面去除掉时，大大降低出现漏光的风险
切割标记具有

[发明专利]一种液晶显示器及基板-CN200910092129.9有效
发明人：李于华;曹昆 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2009-09-02 - 公布日： 2011-04-06 - 主分类号： G02F1/1333 文献下载
摘要：本发明公开了一种液晶显示器及基板，为解决目前设有基板的产品，尤其液晶显示器，其基板对位时所需时间较长而发明。所述液晶显示器，包括阵列基板和彩膜基板，在所述阵列基板和彩膜基板上均设有组合型对位标记，所述组合型对位标记包括粗对位标记和细对位标记，所述细对位标记位于所述粗对位标记的外围四周区域；所述阵列基板的粗对位标记和所述彩膜基板上的粗对位标记相对应；所述阵列基板的细对位标记和所述彩膜基板上的细对位标记相对应。本发明可用于涉及基板对位的产品，尤其液晶显示器。
一种液晶显示器

[发明专利]空间相位特征定位-CN200880119656.8无效
发明人： P·D·苏马克;B·莫卡贝利;T·H·拉弗蒂 -专利权人：分子制模股份有限公司
申请日： 2008-12-05 - 公布日： 2010-11-10 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：描述了用于对基板上的对准标记进行定位的方法。通常，基板包括与基板对准标记相邻的一个或多个定位标记。定位标记提供基板对准标记的相对定位，使得在光刻系统中使基板与模板相对准的过程中可以使用基板对准标记，同时减小了相对的位移的大小。
空间相位特征定位

[发明专利]用以制造具有可辨识标记的基板的方法-CN200910309824.6有效
发明人：江佳铭;颜思琳;游辉钟 -专利权人：华映光电股份有限公司;中华映管股份有限公司
申请日： 2009-11-16 - 公布日： 2010-06-09 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明揭露一种用以制造具有可辨识标记的基板的方法，包含：提供一基板；于所述基板上规划至少二基板区域；提供一光罩，所述光罩上四角落各包含预先形成的至少一光罩辨识标记，其中所述光罩的周边范围是大于所述基板的周边范围，且所述些光罩辨识标记包含至少二类型的光罩辨识标记；及利用所述光罩于所述至少二基板区域上分别执行曝光，以于所述至少二基板区域上形成对应至所述些光罩辨识标记的至少八基板辨识标记，并使所述至少八基板辨识标记中至少二基板辨识标记因重复曝光而消失，藉此，在所述至少二基板区域上分别形成有对应至所述至少二类型的光罩辨识标记的所述些基板辨识标记。
用以制造具有辨识标记方法

[发明专利]显示面板和显示装置-CN201810273708.2在审
发明人：马宇芳;简守甫;宁俊鹏;夏志强 -专利权人：上海中航光电子有限公司
申请日： 2018-03-29 - 公布日： 2018-10-16 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：显示面板包括阵列基板、彩膜基板和对位标记结构。对位标记结构中下对位标记和上对位标记均包括个数相同的至少两个标记单元，沿第一方向依次为第0标记单元、第1标记单元至第N标记单元，阵列基板与彩膜基板对位后下对位标记的第0标记单元与上对位标记的第0标记单元对准；沿第一方向下对位标记中第n标记单元在阵列基板的投影的宽度与上对位标记中第n标记单元在彩膜基板的投影的宽度相同，在下对位标记中相邻的两个标记单元在阵列基板的投影中心之间的间距均为X，在上对位标记中相邻的两个标记单元在彩膜基板的投影中心之间的间距均为
标记单元对位标记彩膜基板显示面板阵列基板投影中心显示装置对位投影性能可靠性功能保证对准

[发明专利]曝光标记装置-CN201310105488.X无效
发明人：清水修一;松田政昭;久根正弥 -专利权人：株式会社奥珂制作所
申请日： 2013-03-28 - 公布日： 2013-10-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光标记装置。该曝光标记装置容易对基板位置进行调节，且使对准标记高精度地形成在基板上。该曝光标记装置具有基板位置调节部及由四个标记头（16A～16D）构成的标记部，在标记头（16A～16D）上沿着与基板输送方向正交的方向（X方向）设置用于对基板进行定位的调节销（X1～X4）。在对基板位置进行调节时，使标记头（16A～16D）移动而使调节销（X1～X4）抵接于基板端面，从而自动地对基板进行定位，并且使标记头（16A～16D）定位于标记形成位置。
曝光标记装置

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN200780049603.9无效
发明人：森井浩二郎 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2007-12-04 - 公布日： 2009-11-18 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本基板处理装置根据载放在基板载放台(1)的载放面上的第一基板的第一标记和第二标记的位置，使将第一标记与第二标记连接的线的方向与台架(2)的能移动的方向一致，使在将第一标记与第二标记连接的线的方向与上述移动方向一致的状态下的第一标记的位置和第三标记的位置存储在存储部中，在基板载放台(1)的载放面上载放第二基板后，针对第二基板，使将第二基板上的第一标记与第三标记连接的线的方向与根据存储部中存储的信息计算得到的将第一基板上的第一标记与第二基板上的第三标记连接的线的方向一致
处理装置方法

[发明专利]对准装置、对准方法、光刻装置和制造物品的方法-CN201780077390.4有效
发明人：芝山卓;古卷贵光 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2017-11-22 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种定位装置，其中测量单元包括照射单元，照射单元照射第一原板侧标记、第二原板侧标记、第一基板侧标记和第二基板侧标记，第一原板侧标记用于粗略测量并且布置在原板或原板保持部件上，第二原板侧标记用于精细测量并且布置在原板或原板保持部分上，第一基板侧标记用于粗略测量并且布置在基板上或基板保持部分上，第二基板侧标记用于精细测量并且布置在基板上或基板保持部件上。测量单元：使照射单元在第一条件下进行照射，并基于来自第一原板侧标记和第一基板侧标记的光进行粗略测量；使照射单元在第二条件下进行照射，并基于来自第二原板侧标记和第二基板侧标记的光进行精细测量。
对准装置方法光刻制造物品

[发明专利]器件安装装置-CN200410058438.1无效
发明人：鹤田俊郎;小泽正人 -专利权人：重机公司
申请日： 2004-08-11 - 公布日： 2005-02-16 - 主分类号： H05K13/04 文献下载
摘要：一种器件安装装置，在进行多面组合基板的搬入时进行对应多面组合基板的各个基板部不良标记的有无的检测，同时作成对应各个多面组合基板的不良标记表，把不良标记的有无记录在作成的不良标记表中，在该器件安装装置中进行如下的电子器件安装控制，即，对于被搬入的多面组合基板，在向各个基板部上安装电子器件之前参照对应多面组合基板的不良标记表，在有不良标记的情况下，不向该基板部安装电子器件，而参照对应下一个基板部的不良标记表。由此，可缩短基板部不良的有无的检测动作时间，从而克服了以往技术中的在检测到基板不良标记的情况下，直到完成对全部的各个基板部不良标记的检测所耗费的时间长的缺点。
器件安装装置

[实用新型]一种双视觉基板镭射设备-CN202220242066.1有效
发明人：余承祥;任宏 -专利权人：苏州富润泽激光科技有限公司
申请日： 2022-01-29 - 公布日： 2022-07-26 - 主分类号： B23K26/36 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种双视觉基板镭射设备，属于基板镭射加工技术领域，基板具有热塑变形的特点，使得基板上的电路图形会产生缩胀变形。由于产品具有不稳定性，所以在基板激光标记工序时，无法保证标记(镭射)的位置精度；通过产品搬运模组将基板搬运至预热整形平台上，预热整形平台对基板进行预热整形，再通过产品搬运模组将基板搬运至激光加工视觉检测模组内，激光加工视觉检测模组对基板进行激光标记并对激光标记后的基板进行检测，保证激光标记的精度，同时，产品收料模组回收激光标记后的基板，从而方便的实现了基板的激光标记及标记后的精度检测，进而避免基板上的电路图形会产生缩胀变形，以及提高了基板的稳定性。
一种视觉镭射设备

[发明专利]用于将掩膜版和基板对齐的方法及彩膜基板的制造方法-CN201410164615.8有效
发明人：王耸;万冀豫;杨同华 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2014-04-23 - 公布日： 2014-08-06 - 主分类号： G02F1/1333 文献下载
摘要：本发明公开了用于将掩膜版和基板对齐的方法及彩膜基板的制造方法，对齐的方法包括如下步骤：在基板上形成至少一个基板对位标记集合，其包括n个基板对位标记，n个基板对位标记是X种形貌的基板对位标记，n是每个像素包括的子像素的个数，n是大于等于3的自然数，X是小于等于n的自然数；在掩膜版上形成与基板对位标记集合一一对应的掩膜对位标记集合，其包括n个掩膜对位标记，n个掩膜对位标记是Y种形貌的掩膜对位标记，Y是小于等于n的自然数且XY≥n；掩膜对位标记集合和与之对应的基板对位标记集合对位，每一个掩膜对位标记与一个基板对位标记对位形成n种不同的对位形貌。
用于将掩膜版对齐方法彩膜基板制造

[发明专利]对准装置、成膜装置、对准方法、电子器件的制造方法以及存储介质-CN202110480488.2在审
发明人：小林康信 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2021-04-30 - 公布日： 2021-11-12 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：提高基板与掩模的对准的精度。对准装置进行基板和掩模的对位。检测构件检测设置于掩模的第一掩模标记和第二掩模标记、以及与第一掩模标记对应地设置于基板的第一基板标记。设定构件基于由检测构件检测到的第一基板标记的位置信息，设定与第二掩模标记对应的基板上的假想位置信息。位置调整构件基于假想位置信息和由检测构件检测到的第一掩模标记、第二掩模标记及第一基板标记的位置信息，进行基板和掩模的位置调整。
对准装置方法电子器件制造以及存储介质

[发明专利]彩膜基板的制作方法、彩膜基板及显示面板-CN201711027589.4有效
发明人：张星;李伟;张建业 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2017-10-27 - 公布日： 2020-11-27 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本发明涉及显示技术领域，公开了一种彩膜基板的制作方法、彩膜基板及显示面板，以提高彩膜基板的制作精度。彩膜基板的制作方法包括：在衬底基板上形成对位标记的图形，对位标记包括对应制作彩色光阻时所用的标记和对应制作黑矩阵时所用的原始标记；根据对位标记，在衬底基板上形成彩色光阻的图形，同时在对应制作黑矩阵时所用的原始标记远离衬底基板的一侧形成与该原始标记重合的复制标记；根据复制标记，在衬底基板上形成位于彩色光阻界定出的区域内的黑矩阵的图形。
彩膜基板制作方法显示面板

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