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[发明专利]一种具有宽角域调控的非周期时间调制角反射器及其谐波频谱变换方法-CN202310168833.8在审
发明人：冯德军;孙光;王俊杰;孔亚盟;刘思佳;徐勇;隋冉;邢世其;全斯农;庞礴;李永祯;王雪松 -专利权人：中国人民解放军国防科技大学
申请日： 2023-02-27 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： H01Q15/00 文献下载
摘要：本发明提出一种具有宽角域调控的非周期时间调制角反射器及其谐波频谱变换方法，反射器包括时间调制超表面和三面角反射器结构；其中，时间调制超表面为单一平面结构，由有源可调超表面和现场可编程门阵列FPGA时间调制控制系统所组成变换方法为：步骤一：宽角域时间调制角反射器设计；步骤二：基于宽角域时间调制角反射器的非周期时间调制模型建立；步骤三：基于宽角域时间调制角反射器的连续谐波频谱变换方法。本发明通过将时间调制超表面与角反射器相结合，也有效提高了时间调制超表面的宽角域稳定性，可以在宽角度范围内操控后向反射电磁波的谐波频谱分布。同时，从信号层面建立了非周期时间调制模型，实现了反射式连续谐波频谱变换的效果。
一种具有宽角域调控周期时间调制反射及其谐波频谱变换方法

[发明专利]发光装置-CN201910085755.9有效
发明人：北岛忠征;三浦创一郎 -专利权人：日亚化学工业株式会社
申请日： 2019-01-29 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： F21K9/23 文献下载
摘要：一个方式的发光装置具有：基体(50)、发出第一辐射光的第一半导体激光元件(11)、将第一辐射光向上方反射的第一光反射部(21)、具有第一辐射光所照射的下表面以及成为光输出面的上表面的荧光部(30)、以及包围荧光部在发光装置中，第一光反射部(21)包括第一区域(21a)、以及第二区域(21b)，第一区域(21a)及第二区域(21b)形成为，使由第一区域(21a)反射的光之中的由接近第二区域(21b)的一侧反射的光、与由第二区域(21b)反射的光之中的由接近第一区域(21a)的一侧反射的光在到达荧光部(30)的下表面为止相交，并向荧光部(30)的下表面中的照射区域的两端部照射。
发光装置

[发明专利]感测系统-CN200810176468.0无效
发明人：林卓毅 -专利权人：原相科技股份有限公司
申请日： 2008-11-13 - 公布日： 2010-06-16 - 主分类号： G06F3/042 文献下载
摘要：本发明是有关一种生产成本较低的感测系统，其包括面板、反射元件、影像感测器与电性连接影像感测器的处理器。面板具有平面与位于平面的第一与第三区域。第三区域位于第一区域内且小于第一区域。第一与第三区域的形状为四边形。第一区域具有依序连接的第一、第二、第三与第四边。反射元件配置于第一边且位于平面上。反射元件的镜面反射面垂直平面且映照第一与第三区域以形成第二与第四区域。影像感测器的感测范围涵盖第三与第四区域。经过影像感测器、垂直镜面反射面且位于平面上的假想线位于第三与第四区域之外。
系统

[发明专利]二维海面鬼波水体成像测量方法、系统、终端及测流设备-CN202210592015.6在审
发明人：尹燕欣;杨宸;刘怀山;杨熙镭;李枫林;夏秋萍 -专利权人：中国海洋大学
申请日： 2022-05-27 - 公布日： 2022-09-16 - 主分类号： G01V1/30 文献下载
摘要：获取地震数据的频率域正变换数据；对于任意频率分量及射线参数，计算得到虚反射与一次反射的延迟时间，求解得到第一次的下行波场频率域Radon变换结果；获取射线参数所对应的虚反射与一次反射的平均延迟时间和平均振幅差异系数并再次计算，不断交替迭代直至满足收敛条件，得到最终的虚反射对应的频率域Radon变换结果，再进行频率域Radon反变换、时间域傅里叶反变换，得到最终的虚反射预测数据。本发明能够对ADCP接收到的虚反射信号等有用信息进行全波形反演来获得表层海水的性质信息，对水体实现精确成像。
二维海面水体成像测量方法系统终端测流设备

[实用新型]激光雷达-CN202223362972.4有效
发明人：张明伟;杨昆 -专利权人：武汉万集光电技术有限公司
申请日： 2022-12-08 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G01S7/481 文献下载
摘要：分光装置包括第一区域、包围第一区域的第二区域以及包围第二区域的第三区域。其中，第二区域反射发射光至目标物时，第一区域和第三区域透射回波光，且第一区域和第三区域上设置有角度选择透射膜；或，第二区域透射发射光至目标物时，第一区域和第三区域反射回波光，且第一区域和第三区域上设置有角度选择反射膜利用第一区域减小了同轴光路激光雷达在近距离探测时分光装置对回波光的遮挡，减小了激光雷达的近距离盲区。角度选择透射膜或角度选择反射膜设置在分光装置上，有利于激光雷达的小型化和装配。
激光雷达

[发明专利]成像装置及成像控制系统-CN202010752833.9在审
发明人：方涛;徐俊峰;吴慧军 -专利权人：未来（北京）黑科技有限公司
申请日： 2020-07-30 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： G06F3/01 文献下载
摘要：提供一种成像装置及成像控制系统，该成像装置包括图像源，发出图像光线；透反元件，允许光线反射且允许光线透射；对向反射元件，将入射至其的光线沿入射方向的反方向出射；图像源设置在第一区域，对向反射元件设置在第二区域，第一区域和第二区域分别为透反元件的两侧区域；图像源发出的图像光线出射至透反元件，反射的图像光线出射至第一区域，在第一预设空间形成虚像；透射的图像光线出射至对向反射元件，沿入射方向的反方向出射，出射的图像光线经由透反元件反射至第二区域，在第二预设空间形成实像；第一预设空间和第二预设空间重合，均位于第二区域。
成像装置控制系统

[实用新型]一种背光模组及液晶显示装置-CN201521073434.0有效
发明人：刘风磊 -专利权人：歌尔声学股份有限公司
申请日： 2015-12-22 - 公布日： 2016-08-10 - 主分类号： F21V5/04 文献下载
摘要：本实用新型提出一种背光模组及液晶显示装置，背光模组包括背板、反射片和多个光源，所述背板上设置有所述光源，所述反射片设置于所述光源与所述背板之间，所述背光模组还包括透镜，每一所述光源上设置有所述透镜，所述透镜包括有反射式透镜和折射式透镜，所述背板包括第一区域及第二区域，所述第一区域呈矩形并位于所述背板的中央位置，所述第二区域呈矩形框状并围绕所述第一区域，所述反射式透镜位于所述第一区域内，所述折射式透镜位于所述第二区域内。通过本实用新型解决了现有技术中背光模组在解决亮带问题时需要对反射片的对应区域进行印刷工艺操作复杂，成本高的问题，省去了反射片的印刷操作工艺，节省了成本。
一种背光模组液晶显示装置

[实用新型]成像装置-CN202021550394.5有效
发明人：方涛;徐俊峰;吴慧军 -专利权人：未来（北京）黑科技有限公司
申请日： 2020-07-30 - 公布日： 2021-06-15 - 主分类号： G06F3/01 文献下载
摘要：提供一种成像装置，该成像装置包括图像源，发出图像光线；透反元件，允许光线反射且允许光线透射；对向反射元件，将入射至其的光线沿入射方向的反方向出射；图像源设置在第一区域，对向反射元件设置在第二区域，第一区域和第二区域分别为透反元件的两侧区域；图像源发出的图像光线出射至透反元件，反射的图像光线出射至第一区域，在第一预设空间形成虚像；透射的图像光线出射至对向反射元件，沿入射方向的反方向出射，出射的图像光线经由透反元件反射至第二区域，在第二预设空间形成实像；第一预设空间和第二预设空间重合，均位于第二区域。
成像装置

[发明专利]反射板、液晶显示装置以及电子设备-CN02107322.8无效
发明人：船本昭宏;青山茂 -专利权人：欧姆龙株式会社
申请日： 2002-03-13 - 公布日： 2002-10-23 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：提供反射板、使用它的液晶显示装置和电子设备。该反射板1具有多个具有至少一个反射面的单位反射区域13,来自该多个单位反射区域的反射光形成的多个出射扩展区,分别在上方的规定位置交叉而形成共同的出射域14,上述单位反射区域配置成,从上述反射板1的铅直方向上入射的光,借助于上述多个单位反射区域分别大致向位于上述反射板的铅直上方区域的外部的上述出射域的中心的方向反射,该各个反射光的强度中心聚光于上述出射域的中心12。
反射液晶显示装置以及电子设备

[发明专利]一种外置天线及电子设备-CN201811516616.9在审
发明人：任翔 -专利权人：无锡睿勤科技有限公司
申请日： 2018-12-12 - 公布日： 2019-02-26 - 主分类号： H01Q19/10 文献下载
摘要：所述外置天线包括天线壳体、位于所述天线壳体内的天线辐射体及金属反射部件；所述天线辐射体通过馈线连接馈电电路和接地电路；所述天线辐射体设置于靠近所述外置天线顶端的第一区域；所述金属反射部件设置于远离所述外置天线顶端的第二区域；所述金属反射部件用于反射所述第二区域的信号以增强所述第一区域的信号。
外置天线金属反射部件天线辐射体第二区域第一区域电子设备接地电路馈电电路馈线连接天线壳体反射天线体内申请

[实用新型]一种外置天线及电子设备-CN201822090930.7有效
发明人：任翔 -专利权人：无锡睿勤科技有限公司
申请日： 2018-12-12 - 公布日： 2019-10-25 - 主分类号： H01Q19/10 文献下载
摘要：所述外置天线包括天线壳体、位于所述天线壳体内的天线辐射体及金属反射部件；所述天线辐射体通过馈线连接馈电电路和接地电路；所述天线辐射体设置于靠近所述外置天线顶端的第一区域；所述金属反射部件设置于远离所述外置天线顶端的第二区域；所述金属反射部件用于反射所述第二区域的信号以增强所述第一区域的信号。
外置天线金属反射部件天线辐射体第二区域第一区域电子设备接地电路馈电电路馈线连接天线壳体反射天线体内申请

[发明专利]用于改善粒子检查系统的生产量的双扫描光学机械配置-CN202180059164.X在审
发明人： M·E·帕洛斯基 -专利权人： ASML控股股份有限公司
申请日： 2021-07-20 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：在粒子检查系统的曝光时间段的第一部分期间，示例性方法可以包括：照射衬底表面的第一区域，阻挡第一区域以外的所有反射的辐射，以及基于从第一区域反射的辐射生成第一区域的第一子图像。在曝光时间段的第二部分期间，示例性方法可以进一步包括：照射衬底表面的第二区域，阻挡第二区域以外的所有反射的辐射，以及基于从第二区域反射的辐射生成第二区域的第二子图像。
用于改善粒子检查系统生产量扫描光学机械配置

[发明专利]一种发光装置-CN201910566810.6有效
发明人：田梓峰;陈彬;段银祥;徐虎;李屹 -专利权人：深圳市绎立锐光科技开发有限公司
申请日： 2019-06-27 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： F21S2/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种发光装置，该发光装置包括：光源；导光元件，位于光源的出光侧，用于传导光源发出的光线，导光元件包括出光面和外侧面，外侧面包括靠近出光面的第一区域；反射元件，设于导光元件的出光面上，用于将经出光面射出的光线至少部分反射至导光元件的所述第一区域；发光元件，位于导光元件的第一区域上，用于受反射元件反射的光线激发而发出光线；其中，反射元件反射的光线强度与光线从反射元件至第一区域的距离正相关。
一种发光装置

[发明专利]保护膜检测方法-CN201610127183.2有效
发明人：梁仙一;伊藤优作;远藤智章;大浦幸伸;小田中健太郎 -专利权人：株式会社迪思科
申请日： 2016-03-07 - 公布日： 2021-04-23 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：准备步骤(ST1)具有：反射强度获取步骤(ST12)，对参照物的覆盖有水溶性保护膜的第1区域和未覆盖水溶性保护膜的第2区域照射红外光并接受反射光，获取第1区域的反射强度和第2区域的反射强度；阈值决定步骤(ST13)，根据波数为3000cm‑1～3600cm‑1的情况下的第1区域的反射强度和第2区域的反射强度来求解阈值。检测步骤(ST2)对被加工物的表面照射红外光并接受反射光并将获取的反射强度与阈值进行比较。
保护膜检测方法

[发明专利]DBR结构、LED芯片、半导体发光器件及制造方法及显示面板-CN202310611638.8在审
发明人：王庆;栗伟;何敏游;刘士伟;洪灵愿;林素慧;张中英 -专利权人：厦门三安光电有限公司
申请日： 2020-11-19 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： H01L33/10 文献下载
摘要：本发明的DBR结构包括多个反射膜组，反射膜组包括依次叠置的折射率不同的第一材料层和第二材料层；其中，沿所述反射膜组的堆叠方向，DBR结构包含：第一区域及第二区域，第一材料层在第一区域和第二区域的光学厚度范围不同，第二材料层在第一区域和第二区域的光学厚度范围不同。该DBR结构还可以包括设置在反射膜组下方的第二材料层。上述第一材料层的折射率小于第二材料层的折射率。通过设置材料层不同的光学厚度，上述DBR结构的第一区域对芯片内部的反射最大化，第二区域对35°~45°及50°~55°的光具有较低的透射率，从而降低芯片的正面透光率。
dbr 结构 led 芯片半导体发光器件制造方法显示面板