专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]纳米金-复合材料光诱导降解阴离子染料的方法-CN202010675527.X有效
  • 刘晓燕;司东辉;贾碧;张均;范保艳;邢安 - 重庆科技学院
  • 2020-07-14 - 2022-04-22 - C02F1/30
  • 本发明公开了一种纳米金‑复合材料光诱导降解阴离子染料的方法,首先制备纳米金‑复合材料;所述复合材料包括基底,该基底为平行于c轴晶轴的单畴结构,在该基底的+Z面上附着有纳米金;然后将纳米金‑复合材料附着有纳米金的面朝上置于阴离子染料溶液中,并对纳米金‑复合材料施以近红外光照射,吸附在纳米金表面的阴离子染料被氧化降解。采用本发明的显著效果是,通过对纳米金‑复合材料进行近红外光照射,使纳米金产生表面等离子体共振效应,电子从纳米金迁移至基底使纳米金表面聚集正电荷,能够充分吸附甲基橙等阴离子染料并实现直接氧化降解
  • 纳米铌酸锂复合材料光诱导降解阴离子染料方法
  • [发明专利]基于异质集成薄膜片上耦合结构、制备方法及光器件-CN202211167513.2在审
  • 蔡鑫伦;张仙 - 中山大学
  • 2022-09-23 - 2022-11-29 - G02F1/017
  • 本发明涉及光学器件技术领域,提出一种基于异质集成薄膜片上耦合结构、制备方法及光器件。其中,包括薄膜光子芯片,薄膜光子芯片上通过异质集成晶圆键合技术集成有III‑V有源波导层;薄膜光子芯片上设置有波导层,波导层的输出端与III‑V有源波导层的输入端垂直倏逝波耦合;III‑V有源波导层上覆盖有N金属电极和P金属电极。本发明通过异质集成晶圆键合技术将III‑V有源波导层集成到光子芯片上,实现了薄膜平台片上光探测的功能。III‑V有源波导层与薄膜光子芯片通过优化设计的III‑V/LN模斑转换器以垂直倏逝波耦合的方式光学互连,实现III‑V有源波导层与波导之间的高效率耦合。
  • 基于集成薄膜铌酸锂片上耦合结构制备方法器件
  • [发明专利]片上薄膜偏振分集器及其制备方法-CN202110427472.5在审
  • 张磊;杨林;付鑫;杨尚霖;戴进成 - 中国科学院半导体研究所
  • 2021-04-20 - 2021-07-13 - G02B6/14
  • 一种片上薄膜偏振分集器及其制备方法,片上薄膜偏振分集器包括薄膜,并包括:加载波导与波导;其中,所述加载波导包括:用作偏振光的传输端口的第一端口与第二端口;第一加载波导段,通过第一波导连接段与第一端口连接;曲线加载波导段,与第一加载波导段连接;以及第二加载波导段,通过第二波导连接段与曲线加载波导段连接。本发明通过在偏振光入射方向并列设置加载波导和波导,实现TM模式偏振光与TE模式偏振光不发生耦合;通过对纳米线尺寸参数的设计实现将TM模式偏振光转换为TE模式偏振光,最终消除偏振光的双折射现象,实现片上薄膜偏振分集器的偏振分集功能
  • 片上铌酸锂薄膜偏振分集及其制备方法
  • [发明专利]基于掺铒的光波导芯片及锁模激光器-CN202111088025.8有效
  • 吴侃;陈建平 - 上海交通大学
  • 2021-09-16 - 2023-04-07 - H01S3/063
  • 一种基于掺铒的光波导芯片及锁模激光器,该芯片自下向上依次是衬底、二氧化硅包层、掺铒薄膜和射频电极;利用光刻刻蚀所述的掺铒薄膜,形成脊掺铒波导;在所述的掺铒波导的两侧、互相平行地设置所述的射频电极本发明采用掺铒薄膜作为波导,即保留了掺铒波导的低噪声增益特性,又引入了波导的电光特性,满足了主动锁模激光器所需的增益和调制需求,配合直流偏置,可以实现低噪声且重频连续可调的集成主动锁模激光器通过脊掺铒波导将电极间距靠近,降低所需的调制电压和电功耗,对信号光和泵浦光模斑的强束缚还可以增加两者的交叠,提升泵浦效率。
  • 基于掺铒铌酸锂波导芯片激光器
  • [发明专利]一种低直流漂移的薄膜强度调制器-CN201611181127.3在审
  • 李萍;范宝泉 - 天津领芯科技发展有限公司
  • 2016-12-20 - 2018-04-27 - G02F1/035
  • 本发明公开了一种低直流漂移的薄膜强度调制器,包括基底晶片、薄膜、光学波导、调制电极、信号电极、地电极、直流偏压电极,所述基底晶片采用具有低介电常数的材料;所述薄膜为单晶结构、X切Y传晶向的光学级单晶薄膜;所述光学波导为钛扩散波导或退火质子交换波导;所述调制电极为推挽行波式电极结构,所述直流偏压电极为推挽集总式电极结构。本发明的有益效果为,通过采用基于低介电常数材料基底晶片的薄膜结构,可去除二氧化硅缓冲层,实现强度调制器直流漂移现象的大幅抑制,显著提升强度调制器的长期工作性能和可靠性。
  • 一种直流漂移铌酸锂薄膜强度调制器
  • [实用新型]一种低直流漂移的薄膜强度调制器-CN201621399669.3有效
  • 李萍;范宝泉 - 天津领芯科技发展有限公司
  • 2016-12-20 - 2017-07-28 - G02F1/035
  • 本实用新型公开了一种低直流漂移的薄膜强度调制器,包括基底晶片、薄膜、光学波导、调制电极、信号电极、地电极、直流偏压电极,所述基底晶片采用具有低介电常数的材料;所述薄膜为单晶结构、X切Y传晶向的光学级单晶薄膜;所述光学波导为钛扩散波导或退火质子交换波导;所述调制电极为推挽行波式电极结构,所述直流偏压电极为推挽集总式电极结构。本实用新型的有益效果为,通过采用基于低介电常数材料基底晶片的薄膜结构,可去除二氧化硅缓冲层,实现强度调制器直流漂移现象的大幅抑制,显著提升强度调制器的长期工作性能和可靠性。
  • 一种直流漂移铌酸锂薄膜强度调制器
  • [发明专利]一种光栅端面耦合器及其设计方法-CN202210353554.4在审
  • 谢臻达;张弛;田晓慧;祝世宁;许志城 - 南京大学
  • 2022-04-06 - 2023-10-24 - G02B6/124
  • 本申请提供一种光栅端面耦合器及其设计方法,所述光栅端面耦合器包括:埋氧层、层、光栅层和外包层,其中:所述埋氧层上键合设置所述层;所述层上沉积设置所述光栅层,所述层包括波导层和衬底层;所述光栅层包括光栅波导和输出波导;所述层和所述光栅层外侧镀有外包层。如此,仅需对光栅层的材料做大线宽长周期刻蚀,工艺成熟简单,可用于解决现有亚波长光栅倒锥端面耦合器工艺复杂,导致生产成本过高的技术问题。
  • 一种光栅端面耦合器及其设计方法

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