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[发明专利]图案形成方法-CN200680024829.9无效
发明人：高岛正伸;冈崎洋二;石川弘美 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2006-06-16 - 公布日： 2008-07-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种图案形成方法，其通过在不导致装置的成本增加或曝光速度的降低的情况下提高曝光性能，能够高精细且效率良好地形成配线图案等永久图案。因此，其特征在于，至少包括对感光层进行的如下的步骤，即：利用接受来自光照射机构的光且基于图案信息进行调制的光调制机构，将来自光照射机构的光进行调制，将利用所述光调制机构调制的光经由成像机构和焦点调节机构成像于所述感光层的被曝光面上
图案形成方法

[发明专利]图案形成方法-CN200680011107.X无效
发明人：高岛正伸;角克人;古和田一辉;铃木一诚;植村隆之 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2006-02-22 - 公布日： 2008-04-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种可以通过减轻在图案形成材料的被曝光面上形成的所述图案的析像度的不均或浓度的不均，来高精细而且有效地形成所述图案的图案形成方法。所以，本发明提供一种图案形成方法，其特征在于，在被处理基体上层叠在支撑体上具有感光层的图案形成材料中的该感光层之后，相对于对该感光层，使用曝光头(其中，该曝光头为具备光照射机构以及具有n个排列成二维状的描绘部的光调制机构且被配置成所述描绘部的列方向相对扫描方向呈规定的设定倾斜角度
图案形成方法

[发明专利]图案形成方法-CN200680026721.3无效
发明人：高岛正伸;角克人 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2006-07-06 - 公布日： 2008-07-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种图案形成方法，其是进行使光调制机构倾斜来描绘的曝光的图案形成方法，不降低曝光速度，在感光层的被曝光面上形成锯齿的产生被抑制的希望的描绘图案，由此高精细且效率良好地形成配线图案等。因此，以使由再现利用描绘部形成的描绘像素而产生的锯齿的锯齿间距及锯齿振幅的至少任一个成为规定值的方式，设定描绘像素的排列间距(a)、倾斜角度(b)、描绘间距(c)、及相位差(d)的至少任一个，基于所述图案信息以规定的时刻调制控制所述描绘部来进行
图案形成方法

[发明专利]图案形成方法-CN200680014526.9无效
发明人：芹泽慎一郎;佐藤守正 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2006-04-12 - 公布日： 2008-04-23 - 主分类号： G03F7/38 文献下载
摘要：本发明提供良好地抑制因安全灯等光源的图案形成材料的敏感度变化，保存稳定性优良，可以高精细且有效地形成布线图案等永久图案的图案形成方法。由此提供一种图案形成方法，其使用具有支承体和该支承体上的至少在350～500nm下显示感光特性的感光层，且能量敏感度为1～20mJ/cm²的图案形成材料，在具有380～500nm的波长区域
图案形成方法

[其他]微细图案形成系统-CN201490000734.3有效
发明人：郑光春;柳志勋;成俊基;韩孝珍 -专利权人：印可得株式会社
申请日： 2014-03-20 - 公布日： 2016-10-26 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种微细图案形成系统，本实用新型的微细图案形成系统包括：输送部，连续输送形成有阴刻图案的衬底；供给部，向所述衬底供给填料；和旋转填充部，沿所述衬底的输送方向设置在所述供给部的后方，在与所述衬底接触的状态下进行旋转，从而将所供给的填料填充到所述阴刻图案内。
微细图案形成系统

[其他]微细图案形成系统-CN201490000733.9有效
发明人：郑光春;柳志勋;成俊基;韩孝珍 -专利权人：印可得株式会社
申请日： 2014-03-20 - 公布日： 2016-08-03 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种微细图案形成系统，本实用新型的微细图案形成系统，包括：输送部，连续输送形成有阴刻图案的衬底；和填充部，在与所述衬底接触的状态下向所述衬底供给填料，并且以垂直于所述衬底的虚拟的转轴为中心进行旋转，从而将所述填料填充到所述阴刻图案内。
微细图案形成系统

[发明专利]涂布图案形成方法、涂布图案形成装置和带涂布图案的基材-CN201780038028.6在审
发明人：岛谷谦一;友枝哲 -专利权人：东丽工程株式会社
申请日： 2017-06-22 - 公布日： 2019-03-01 - 主分类号： B05D3/06 文献下载
摘要：本发明提供一种能够按照预先设定的形状形成涂布图案的涂布方法。具体地说，本发明的涂布图案形成方法对设置于基材上的图案区域涂布涂布液，形成具有图案区域的形状的涂布图案，其具有下述工序：亲液性调节工序，对图案区域的亲液性进行调节；以及涂布图案形成工序，对调节了亲液性的图案区域涂布涂布液，形成涂布图案，在亲液性调节工序中，对图案区域的亲液性进行调节，以使得图案区域在至少一个方向上被划分成2个以上的小图案区域，且相邻的小图案区域彼此具有不同的亲液性，在划分图案区域的方向即划分方向上，图案区域的端部以外的上述小图案区域具有最低亲液性，小图案区域的亲液性从该具有最低亲液性的小图案区域朝向图案区域的端部增高。
图案区域亲液性涂布图案小图案涂布涂布基材形成工序形成装置形状形成增高

[实用新型]可在边坡坡面形成图案和文字的植生构件-CN201120399266.X有效
发明人：晁建强;陈人福;袁盛华 -专利权人：贵州边坡生态防护研究所有限责任公司
申请日： 2011-10-19 - 公布日： 2012-05-30 - 主分类号： E02D17/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种可在边坡坡面形成图案和文字的植生构件，植生构件（1）根据所需的图案或文字固定在坡面上，植生构件（1）由一个或一个以上的空心柱（2）相互连接构成。在客户具有特定的图案和文字体现时，也可先用植生格拼接出该图案和文字，然后在该部分空心格内植入特定的种子或植入培育好的袋装苗，植被生长后就可形成固定图案和文字。
坡坡形成图案文字构件

[发明专利]图案形成方法及其形成装置-CN201310086490.7无效
发明人：牛房信之;植村直仁;铃木茂 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2013-03-19 - 公布日： 2013-12-18 - 主分类号： B41F15/08 文献下载
摘要：在使用吐出机构部从在规定的位置具有开口部的图案形成用掩模将膏转印到在工作台上固定的被图案形成物的规定的位置的图案形成装置中，为了实现能够高精度地稳定地对微细的图案进行图案形成，并且对微细的通孔的内部也能够可靠地填充膏的图案形成，将吐出机构部前端的与图案形成用掩模接触的角部形成为凹形形状，在包括凹形形状部的吐出机构部的前端部分的表面用具有疏液性的膜来包覆，在向具有期望的图案开口部的图案形成用掩模填充并转印膏时，在用具有疏液性的膜包覆的吐出机构部前端的凹形形状部和图案形成用掩模所形成的区域的内部促进膏的滚压，从而能够高精度地形成微细的图案。
图案形成方法及其装置

[发明专利]基材的图案形成装置、图案形成方法、基材和容器-CN202180077152.X在审
发明人：赤津和宏;平山里绘;藤田和弘;坂井昭一朗 -专利权人：株式会社理光
申请日： 2021-09-24 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： B65B61/02 文献下载
摘要：一种用于基材的图案形成装置，包括保持单元和图案形成单元。保持单元被构造为保持其上形成有突起形状部分和凹陷形状部分之一的基材。图案形成单元被构造为在基材上形成图案。图案形成在突起形状部分、凹陷形状部分、凹陷形状部分的外围、突起形状部分的外围、沿着突起形状部分的部分和沿着凹陷形状部分的部分中的至少一个上。
基材图案形成装置方法容器

[发明专利]图案形成方法及图案形成装置、以及元件制造方法-CN201210039778.4有效
发明人：柴崎佑一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2006-12-28 - 公布日： 2012-09-19 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开一种图案形成方法及图案形成装置、以及元件制造方法，本发明是在晶片载台(WST)从将晶片(W)搬入晶片载台(WST)的装载位置、移动至对晶片(W)开始曝光的曝光开始位置的期间，一边使对准系统(ALG1
图案形成方法装置以及元件制造

[发明专利]图案形成装置、对齐标记检测方法和图案形成方法-CN201910135137.0有效
发明人：舟桥直纪 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2019-02-25 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开内容涉及图案形成装置、对齐标记检测方法和图案形成方法。一种被配置为在基板上形成图案的图案形成装置包括：保持部分，其被配置为通过吸附保持基板；光学系统，其被配置为从基板的吸附表面侧检测被设于由保持部分保持的基板的对齐标记；以及被配置为遮蔽入射光学系统的光的单元
图案形成装置对齐标记检测方法

[发明专利]图案形成方法、图案形成装置和液状体干燥装置-CN200810005805.X无效
发明人：三浦弘纲 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2008-02-05 - 公布日： 2008-08-20 - 主分类号： B41J2/01 文献下载
摘要：本发明提供一种利用激光控制液状体的配置位置并在所希望的配置位置使该液状体干燥而可以形成高精细、高精密的图案的图案形成方法、图案形成装置和液状体干燥装置。液状膜(FL)被第一照射光(Le1)干燥，形成没有干燥不足的高精细高精密的层图案(FP)。
图案形成方法装置液状干燥

[发明专利]掩模、掩模的制造方法、图案形成装置、图案形成方法-CN200610009566.6无效
发明人：四谷真一 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2006-02-24 - 公布日： 2006-08-30 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明是用于对被成膜基板形成具有第一图案的薄膜的掩模(M)，具备：具有与第一图案相对应的开口部分(22)的非磁性体基板(S)，和在非磁性体基板(S)上所配置的具有第二图案的磁性体膜(28)。
掩模制造方法图案形成装置

[发明专利]导电图案形成用组合物和导电图案形成方法-CN201680007402.1在审
发明人：内田博;栗谷真澄;米田周平 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2016-03-17 - 公布日： 2017-09-26 - 主分类号： H01B1/22 文献下载
摘要：本发明的课题是提供，能够提高导电图案的电导率的、利用光照射或微波照射形成导电图案的导电图案形成用组合物和导电图案形成方法。本发明的解决方法是一种利用光照射或微波照射形成导电图案的导电图案形成用组合物，其包含(A)选自碳原子数为2～18的有机羧酸的金属盐和不包含有机羧酸作为配体的有机金属络合物中的至少一种金属化合物、(B)金属材料
导电图案形成组合方法

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