专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种单面抛光的异质结太阳能电池-CN201620789531.8有效
  • 张杰;宋广华 - 福建钧石能源有限公司
  • 2016-07-26 - 2017-02-15 - H01L31/0236
  • 本实用新型公开了一种单面抛光的异质结太阳能电池,其包括N单面抛光硅片;设在N单面抛光硅片受光面和背光面的本征硅层;设在N单面抛光硅片受光面本征硅层上的N掺杂硅层;设在N单面抛光硅片背光面本征硅层上的P掺杂硅层;分别设在N掺杂硅层和P掺杂硅层上的透明导电膜层;设在N掺杂硅层的透明导电膜层上的金属栅线电极;设在N掺杂硅层的透明导电膜层上、金属栅线电极之间的MgF2层;设在P掺杂硅层的透明导电膜层上的金属反光层;设在金属反光层上的金属栅线电极。本实用新型有利于控制硅薄膜沉积的膜厚和均匀性,使PN结更加平整,提高了电池片的电学性能。
  • 一种单面抛光异质结太阳能电池
  • [发明专利]光电转换装置-CN201680028567.7有效
  • 原田真臣;东贤一;神川刚;酒井敏彦;国吉督章;辻埜和也;邹柳民 - 夏普株式会社
  • 2016-02-24 - 2020-02-28 - H01L31/0216
  • 光电转换装置(1)具备以与半导体基板(101)的一个面相接的方式形成的i质半导体层(102i)、分隔而配置于i质半导体层(102i)上的p质半导体层(102p)与分隔而配置于i质半导体层(102i)上,且于半导体基板(101)的面内方向邻接于p质半导体层(102p)而形成的n质半导体层(102n)。进而,光电转换装置(1)具备电极(103)作为保护层,所述保护层是以在邻接的p质半导体层(102p)之间及邻接的n质半导体层(102n)之间与i质半导体层(102i)相接的方式形成。
  • 光电转换装置
  • [发明专利]光生伏打装置-CN200510105632.5有效
  • 寺川朗 - 三洋电机株式会社
  • 2005-09-28 - 2006-04-05 - H01L31/04
  • 本发明是一种在n单晶硅基板和含有氢的p硅层之间,设置了含有氢的实质本征硅层的光生伏打装置,在该装置中,在所述p硅层和所述本征硅层之间,设有氢浓度比所述本征硅层的氢浓度低的捕获层利用该捕获层抑制氢从本征硅层向p硅层扩散。
  • 光生伏打装置
  • [实用新型]硅层叠太阳能电池-CN201620100125.6有效
  • 杨华;戚运东;张群芳 - 山东新华联新能源科技有限公司
  • 2016-01-29 - 2016-08-31 - H01L31/043
  • 本实用新型提供了一种硅层叠太阳能电池,包括顶电池层,包括顺序层叠的第一P硅层、第一本征硅层和第一N硅层;中间电池层,包括在第一N硅层的远离第一本征硅层的一侧顺序层叠的第二P硅层、第二本征硅锗层和第二N硅层;第一反射层,设置于中间电池层的远离顶电池层的一侧表面;底电池层,设置于第一反射层的远离中间电池层的一侧表面,且底电池层包括顺序层叠的第三P硅层、第三本征硅锗层和第三N硅层。上述硅层叠太阳能电池进一步优化了顶电池层、中间电池层和底电池层之间的电流匹配,进而提高了硅层叠太阳能电池的转化效率。
  • 非晶硅层叠太阳能电池
  • [实用新型]P硅衬底异质结电池-CN201320194906.2有效
  • 包健;郭万武;余冬冬;杨同春 - 常州天合光能有限公司
  • 2013-04-18 - 2013-09-04 - H01L31/075
  • 本实用新型公开了一种P硅衬底异质结电池,它包括一P晶体硅衬底层、一本征硅层、一N硅层、一P硅掺杂层、一第一透明导电层、一上电极层、一本征硅锗钝化层、一第二透明导电层和一背电极层,P晶体硅衬底层具有一正面和一背面;本征硅层沉积在P晶体硅衬底层的正面上;N硅层沉积在本征硅层的上表面上;第一透明导电层位于N硅层的上表面上;本征硅锗钝化层沉积在P晶体硅衬底层的背面上;P硅掺杂层沉积在本征硅锗钝化层的下表面上;第二透明导电层位于P硅掺杂层的下表面上;背电极层位于第二透明导电层的下表面上并通过第二透明导电层与P硅掺杂层电性连接。
  • 衬底异质结电池
  • [发明专利]光电动势元件-CN200610057698.6有效
  • 寺川朗;浅海利夫 - 三洋电机株式会社
  • 2006-02-24 - 2006-08-30 - H01L31/04
  • 在n单晶硅基板主面的除去外周部的规定宽度之外的区域内形成有i硅膜和n硅膜。n单晶硅基板的主面上形成有覆盖i硅膜和n硅膜的表面电极。在n单晶硅基板的背面的整个区域内形成有i硅膜和p硅膜。在p硅膜上的除去外周部的规定宽度的区域内形成背面电极。表面电极侧成为主要的光入射面。
  • 电动势元件
  • [发明专利]异质结太阳能电池及其制造方法-CN201510099839.X有效
  • 陈芃 - 新日光能源科技股份有限公司
  • 2015-03-06 - 2017-06-16 - H01L31/078
  • 一种异质结太阳能电池包含半导体基板、第一缓冲层、第二缓冲层、第二n半导体层、第二p半导体层、第一透明导电层以及第二透明导电层。其中,其制造方法主要是将第一缓冲层的第一n半导体层与第二缓冲层的第一p半导体层分别设置在半导体基板的第一表面与第二表面上,并对第一n半导体层与第一p半导体层以一掺杂气体等离子体处理制程进行处理然后在第一n半导体层上形成第一本征半导体层,以及在第一p半导体层上形成第二本征半导体层。
  • 异质结太阳能电池及其制造方法
  • [发明专利]异质结太阳能电池及其制造方法-CN202110035157.8在审
  • 张津燕;吴科俊;王琳;陈金元 - 上海理想万里晖薄膜设备有限公司
  • 2021-01-12 - 2021-05-28 - H01L31/20
  • 所述方法先对N单晶硅片进行制绒及清洗;然后在其正反两面上分别形成第一、第二本征硅层;接着在第一本征硅层上形成N硅层;之后在第二本征硅层上形成其中的P杂质浓度沿着远离第二本征硅层的方向在X%‑Y%的范围内以第一斜率线性增长的第一P硅层;接着在第一P硅层上形成其中的P杂质浓度沿着远离第一P硅层的方向在Y%‑Z%的范围内以第二斜率线性增长的第二P硅层;然后在所述N硅层以及第二P硅层上分别形成第一、第二透明导电膜;最后在第一、第二透明导电膜上形成第一、第二电极。
  • 异质结太阳能电池及其制造方法
  • [发明专利]异质结太阳能电池及其制造方法-CN202110916140.3在审
  • 吴科俊;陈金元 - 上海理想万里晖薄膜设备有限公司
  • 2021-08-11 - 2023-08-29 - H01L31/20
  • 所述方法先对N单晶硅片进行制绒及清洗;然后在其正反两面上分别形成第一、第二本征硅层;接着在第一本征硅层上形成N硅层;之后在第二本征硅层上形成其中的P杂质浓度沿着远离第二本征硅层的方向在X%-Y%的范围内以第一斜率线性增长的第一P硅层;接着在第一P硅层上形成其中的P杂质浓度沿着远离第一P硅层的方向在Y%-Z%的范围内以第二斜率线性增长的第二P硅层;然后在所述N硅层以及第二P硅层上分别形成第一、第二透明导电膜;最后在第一、第二透明导电膜上形成第一、第二电极。
  • 异质结太阳能电池及其制造方法
  • [发明专利]薄膜硅-N晶体硅异质结叠层太阳能电池-CN201210041796.6无效
  • 包健 - 常州天合光能有限公司
  • 2012-02-23 - 2012-07-11 - H01L31/0747
  • 本发明涉及一种薄膜硅-N晶体硅异质结叠层太阳能电池,具有N晶体硅基体,N晶体硅基体背面沉积有厚度为2~10nm的背面硅本征层,背面硅本征层的背面钝化后沉积有厚度为5~15nm的N硅层,N晶体硅基体正面沉积有厚度为2~10nm的正面第一硅本征层,正面第一硅本征层的正面钝化后沉积有厚度为10~20nm的P硅层,P硅层正面依次沉积有厚度为5~15nm的N硅层、厚度为50~200nm的正面第二硅本征层、厚度为10~20nm的P硅层。本发明可以减少硅本征薄膜的厚度,可以提高对太阳光的利用率,从而提升太阳能电池的效率。
  • 薄膜非晶硅晶体硅异质结叠层太阳能电池

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