专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果966202个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]层叠的磁记录介质-CN01813420.3无效
  • 霍亚·范多;埃里克·E·富勒顿;戴维·T·马古利斯;哈尔·J·罗森 - 国际商业机器公司
  • 2001-07-06 - 2003-09-24 - G11B5/66
  • 一种用于数据存储的层叠磁记录介质采用了一种磁记录层,该层至少有两个被非间隔层分隔的耦合(AFC)层。每个AFC层形成为通过一个耦合耦合在一起的两层膜,该耦合膜具有引发第二膜与第一膜的耦合的成分和厚度。每个AFC层中的两个耦合膜的磁矩平行取向,并且因而每个AFC层的净磁化强度-厚度乘积(Mrt)为两个膜的Mrt值之差。两个相邻的AFC层之间的非间隔层具有足以防止一个AFC层的膜与相邻AFC层的膜的任何耦合的成分和厚度。
  • 层叠记录介质
  • [发明专利]一种磁存储器及其制备方法-CN202111522263.5在审
  • 卢世阳;殷加亮;商显涛;刘宏喜;曹凯华;王戈飞 - 致真存储(北京)科技有限公司
  • 2021-12-13 - 2022-09-02 - H01L43/08
  • 本发明公开了一种磁存储器及其制备方法,涉及磁存储器领域,该磁存储器包括:电流写入层以及设置在之上的耦合自由层,自由层包括:耦合层、第一翻转层以及第二翻转层,第一翻转层厚度小于第二翻转层,第一翻转层设于耦合层与电流写入层之间,第二翻转层设于耦合层之上,第一翻转层通过所述电流写入层产生的自旋累积实现翻转,翻转过程带动第二翻转层翻转,由于耦合自由层厚度较单自由层高,因此提升了存储器的使用寿命,并且由于耦合自由层的第一翻转层的厚度小于第二翻转层,可以实现优先翻转,并且带动第二翻转层翻转,翻转速度大于现阶段的翻转速度。
  • 一种磁存储器及其制备方法
  • [发明专利]磁阻磁头及其制造方法-CN200510082332.X无效
  • 重松惠嗣;西冈浩一;田岛康成 - 日立环球储存科技荷兰有限公司
  • 2005-06-30 - 2006-01-25 - G11B5/39
  • 使得旋转阀设备的层和第一层之间的交换耦合能以及经由Ru耦合耦合的第一层和第二层之间的耦合能增加,从而增加磁阻比例并减小旋转阀膜的自由层矫顽磁力。在MnPt基础型合成型旋转阀膜中,底层、包括MnPt的层、包括CoFe的第一层、包括Ru的耦合层、包括CoFe的第二层、包括Cu的中间非磁性层、包括CoFe和NiFe合成膜的自由层以及保护层被堆叠在基底上,并且第一层的CoFeX中的Fe组分被设定为20<X≤50at%。
  • 磁阻磁头及其制造方法
  • [发明专利]磁性多层膜结构及磁性器件-CN202210785203.0在审
  • 吴迪 - 苏州凌存科技有限公司
  • 2022-07-04 - 2022-12-13 - H01L43/08
  • 本发明公开了一种磁性多层膜结构,包括:形成在缓冲层或种子层上的第一多层结构;所述第一多层结构包括顺序布置的:参考层、非磁性中间层、自由层和耦合层;其中,耦合层和自由层通过界面的耦合耦合层和自由层的磁矩方向平行或平行排列本发明利用耦合层和自由层通过界面的耦合,或耦合层和参考层通过界面的耦合,界面的耦合作用提供了较强的垂直各向异性,可以在保证垂直各向异性的条件下进一步提高自由层或参考层厚度,从而提高当耦合层和自由层为耦合时,使磁矩方向形成平行排列,从而降低总体的饱和磁化强度,进而降低外磁场的干扰。
  • 磁性多层膜结构器件
  • [发明专利]一种随机存储器及其写入方法、读取方法和制备方法-CN201711147716.4有效
  • 徐泽东;陈朗 - 南方科技大学
  • 2017-11-17 - 2020-09-18 - H01L43/08
  • 本发明公开了一种随机存储器及其写入方法、读取方法和制备方法,该随机存储器包括依次堆叠设置的衬底层、电层、复合结构、第一隔离层和第一层,复合结构为随机存储器的自由层,第一层为随机存储器的固定层;电层在外加电压作用下发生极化或晶格形变,用于改变复合结构的耦合状态;第一层具备恒定的第一磁矩方向;第一隔离层用于控制第一磁矩方向不受复合结构耦合状态的影响。此随机存储器,利用电场作用下复合结构耦合耦合的相互转变,实现MRAM的写入,解决了用导线的感应磁场或极化电流实现MRAM写入时,线宽较宽导致的MRAM尺寸较大,MRAM存储密度较低的问题
  • 一种随机存储器及其写入方法读取制备
  • [发明专利]人工多层膜结构及包括其的随机存储器-CN202110381200.6在审
  • 魏晋武;于国强;韩秀峰 - 中国科学院物理研究所
  • 2021-04-09 - 2022-10-18 - H01L43/04
  • 本发明涉及人工多层膜结构及包括其的随机存储器。根据一实施例,一种人工多层膜结构可包括:面内场耦合层,包括由导电材料形成的第一层和第二层,以及位于所述第一层和第二层之间的第一间隔层,所述第一间隔层由非导电材料形成并且诱导所述第一层和第二层之间的耦合;自由层,包括由导电材料形成的第三层和第四层,以及位于所述第三层和第四层之间的自旋霍尔效应层,所述自旋霍尔效应层由具有自旋霍尔效应的材料形成并且诱导所述第三层和第四层之间的耦合;以及中间层,位于所述面内场耦合层与所述自由层之间,所述中间层由非材料形成。
  • 人工反铁磁多层膜结构包括随机存储器

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top