专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]图案片和图案系统-CN202122130645.5有效
  • 阿米尔·诺伊;本尼·纳韦;埃亚尔·科恩;瓦莱里·索林;多尔·德罗尔 - 武汉帝尔激光科技股份有限公司
  • 2021-09-03 - 2022-03-29 - B41M5/00
  • 本实用新型提供了图案片和图案系统。一种图案片,包括:多个沟槽,以指定图案布置,并且配置为接收印刷浆料并在由激光束照射时将印刷浆料从沟槽释放到接收衬底上,图案片包括以下中的至少一者:(i)至少一个迹线标记,位于指定图案的外部并且配置为接收印刷浆料,其中,至少一个迹线标记相对于沟槽中的至少一个对准,且比激光束的宽度宽;以及(ii)多个工作窗口标记,工作窗口标记位于指定图案的外部并配置为接收印刷浆料,其中,工作窗口标记相对于指定图案的指定沟槽以指定偏移量设置利用该图案片,能够监测和在需要时校正激光照射的位置和功率,以改善印刷品质。
  • 图案转印片系统
  • [实用新型]图案系统和图案片材-CN202122167282.2有效
  • 阿米尔·诺伊;加德·伊格拉;厄伦·斯特;埃兰·云格;摩西·菲纳罗夫 - 武汉帝尔激光科技股份有限公司
  • 2021-09-08 - 2022-07-29 - B41F15/08
  • 本实用新型提供了图案系统和图案片材。图案系统包括激光扫描装置、可移动台和控制器。激光扫描装置包括配置成使用激光束对源基板进行照射的激光扫描头,源基板包括以第一图案布置并且对印刷浆料进行保持的多个沟槽,源基板配置成在通过激光束照射时位置不变并将印刷浆料从沟槽释放到接收基板上。控制器配置成控制激光扫描头沿着沟槽运动以及沿着横过沟槽的扫描方向运动,并且控制器还配置成使可移动台运动以在接收基板上产生沉积浆料的第二图案。动态图案可以被用于适应不同宽度的接收基板以用于实现更有效的图案和/或实现具有高晶片生产量的一对多图案技术。
  • 图案系统转印片材
  • [实用新型]图案装置-CN201320773724.0有效
  • 魏科梁 - 昆山科富源电子科技有限公司
  • 2013-11-28 - 2014-05-21 - B41F16/00
  • 本实用新型公开了一种图案装置,包括动力装置、从动轮、承载物治具、压印胶辊和压印气缸,所述承载物治具固定于所述从动轮上用于承载待转的承印塑料材料,所述动力装置能够带动该从动轮绕其轴线旋转;所述压印胶辊间隔置于所述承载物治具上方该图案装置不仅结构简洁,而且能够实现塑料材料的规则曲面表面及回转体表面的图案热转印或烫,填充了此方面的技术空白。
  • 图案装置
  • [发明专利]图案系统以及图案转印方法-CN201410056632.X有效
  • 富藤幸雄;上代和男;南茂树 - 大日本网屏制造株式会社
  • 2014-02-19 - 2014-10-01 - B41M1/06
  • 本发明提供一种图案系统以及图案转印方法。本发明的图案系统包括:第一清洗部,清洗橡皮布及印刷版;涂布部,对橡皮布涂布转剂;转部,通过将涂布着转剂的橡皮布及印刷版贴合,而对橡皮布转图案;以及转部,通过将转印有图案的橡皮布贴合在基板上,而对基板转图案。此外,图案系统包括交接搬送部,所述交接搬送部将已由转部对橡皮布转图案的印刷版、及已由转部对基板转图案的橡皮布朝向第一清洗部搬送。
  • 图案系统以及方法
  • [实用新型]美甲机-CN201921264273.1有效
  • 曹乃承;曹可瀚 - 南京美小甲科技有限公司
  • 2019-08-06 - 2020-11-13 - A45D29/00
  • 本发明的美甲机包括至少一膜执行模块,膜执行模块包括膜,膜执行模块能收放/缠绕/移动膜;包括雕刻模块,能在膜上雕刻图案膜模块能把雕刻图案后的膜压在手指上;包括喷绘模块,能以喷射和/或涂刷的方式把颜料/甲油涂布在膜的图案处,以把图案在指甲上。膜执行模块包括膜架,膜架能沿滑轨滑动,膜架能带动膜沿手指纵向方向移动。膜模块包括上张紧轴,能上下移动,能把膜压覆在手指/指甲上。本发明的膜模块能被雕刻图案,喷绘模块能在图案上涂布颜料,膜能防止颜料污染指甲其他部位和手指皮肤。
  • 美甲机
  • [发明专利]光掩模、光掩模制造方法以及光掩模缺陷修正方法-CN200910003232.1无效
  • 须田秀喜 - HOYA株式会社
  • 2009-01-21 - 2009-08-05 - G03F1/00
  • 光掩模缺陷修正方法、光掩模制造方法、相移掩模制造方法、光掩模、相移掩模、光掩模组以及图案转印方法。在第1光掩模(1)所形成的第1转图案中产生的图案缺陷(4、5)中,仅对如下区域中的缺陷(4)进行修正,即进行使用第1光掩模(1)对被转体进行的转、和与第1光掩模(1)组合使用向同一被转体转第2转图案的第2光掩模对被转体进行的转这两者时,在被转体上第1转图案所包含的图案中,通过第2转图案的转而不形成图案的区域之外的区域。
  • 光掩模制造方法以及缺陷修正

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