专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种新型副室单晶-CN202020037070.5有效
  • 卢阳华;马向东 - 深圳晶鑫智造科技有限公司
  • 2020-01-08 - 2020-10-23 - C30B15/00
  • 本实用新型公开一种新型副室单晶,包括一机架、设置在机架上的一主室、一第一驱动机构与一第二驱动机构、以及与第一驱动机构、第二驱动机构输出端对应连接的第一副室与第二副室。本实用新型的是设计一种全新的副室单晶,一个上部配置高精度提拉头的副室用于拉硅单晶棒,另一个上部配置低成本提升机的副室用于二次加料;从而节约停等待时间,大幅提高单的产出量和单晶室的使用效率,减少电能和Ar气消耗,降低单晶硅生产成本。
  • 一种新型双副室单晶炉
  • [发明专利]一种制备CsPbBr3-CN202110890842.9有效
  • 刘勇;董顺洪 - 武汉理工大学
  • 2021-08-04 - 2023-01-10 - C30B29/12
  • 本发明公开一种制备CsPbBr3单晶的方法,属于新型纳米材料技术领域。一种制备CsPbBr3单晶的方法,包括以下步骤:S1、将CsBr和PbBr2混合并研磨均匀得到混合物;S2、将混合物放入温区管式的上游区,将SiO2/Si基片放入温区管式的下游区,并向温区管式中通入惰性气体;所述混合物在温区管式中反应得到所述CsPbBr3单晶;其中,所述上游区的温度为580~670℃,所述下游区的温度为300~380℃。该方法制得的CsPbBr3单晶的分散度高,而且形状完整,晶格缺陷密度小。
  • 一种制备cspbbrbasesub
  • [发明专利]一种大尺寸CrI3-CN202110519037.5有效
  • 潘双;徐桂舟;徐锋 - 南京理工大学
  • 2021-05-12 - 2022-09-09 - C30B25/00
  • 本发明公开了一种大尺寸CrI3单晶的制备方法,采用化学气相输运法,将铬粉和无水碘珠按照一定摩尔比密封入真空石英管中;并置于温区管式中保温3天,冷却至室温,制得大尺寸CrI3单晶。本发明通过改变温区管式的温度梯度提出大尺寸CrI3单晶的制备方法,解决了单晶制备周期长、尺寸小的问题。
  • 一种尺寸cribasesub
  • [发明专利]一种超细单晶Si纳米线及其制备方法-CN201310223540.1有效
  • 张析;李瑞;向钢 - 四川大学
  • 2013-06-06 - 2013-09-11 - C30B29/62
  • 本发明属于纳米材料领域,特别涉及一种超细单晶Si纳米线及其制备方法。所述超细单晶Si纳米线的直径为1.5~2.5nm,且不含催化剂。所述方法的工艺步骤为:(1)生长基底及载物盘的清洗;(2)超细单晶Si纳米线的生长:①将SiO粉末平铺在第一载物盘上并放入温区管式的高温区中心部位,将所述长基底放在第二载物盘上并放入所述温区管式的低温区中心部位;②在通载流气体条件下将温区管式的低温区升温至950~960℃,高温区升温至1300~1350℃,并使内压强保持在0.02~0.04MPa,然后在上述温度和压强保温4~6h,保温时间届满后,所述生长基底上即生长出超细单晶
  • 一种超细单晶si纳米及其制备方法
  • [实用新型]一种高效率的单晶-CN201521116870.1有效
  • 张忠安 - 江西豪安能源科技有限公司
  • 2015-12-30 - 2016-08-10 - C30B29/06
  • 本实用新型公开了一种高效率的单晶,包括单晶主体,单晶主体内设有坩埚,坩埚设置在坩埚底座上,坩埚底座下端设有转轴,转轴连接坩埚上升旋转机构,坩埚设置在加热装置内,单晶主体上端设有上炉腔,上炉腔中设有提拉杆,提拉杆与上炉腔顶部的上升旋转机构连接,单晶主体上端一侧设有视觉传感器,本实用新型结构新颖,通过设置的视觉传感器能够准确的把握单晶硅的生长状态,实现实时监测,提高了产品质量,也进一步提高了生产效率,通过抽气泵接口的设置
  • 一种高效率单晶炉
  • [发明专利]具备室结构的单晶单晶硅生产方法-CN201110186275.5有效
  • 朱亮;王魏;孙明;曹建伟;邱敏秀 - 浙江晶盛机电股份有限公司
  • 2011-07-04 - 2012-01-11 - C30B15/00
  • 本发明涉及直拉硅单晶设备,旨在提供一种具备室结构的单晶单晶硅生产方法。该单晶有一个主室,主室上部装配有一个副室;该单晶还额外配置一个副室,两个副室均具备筒、晶体提升机构、水平调整机构、副室旋转机构和控制副室升降的液压缸,副室旋转机构均通过连接件活动安装于支撑柱上;各副室的下端设置一个副室闸阀,副室闸阀内设置活动的阀板;所述主室的上端设有一个隔离阀座,隔离阀座内部设置活动的主室隔离阀板,隔离阀座上侧与两个副室闸阀相互匹配。通过两个筒的交替使用,可在晶棒冷却的同时进行下一根晶棒的拉制,缩短了生产周期,大幅度提高生产效率,有效降低成本。
  • 具备双副炉室结构单晶炉单晶硅生产方法

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