专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体器件及其制造方法-CN200510064286.0有效
  • 粉谷直树 - 松下电器产业株式会社
  • 2005-04-12 - 2005-10-19 - H01L29/78
  • 本发明的半导体器件,作为周边用MISTr25b,包括:形成在活性区域10b上的栅极绝缘膜13b和栅电极14b;形成在栅电极14b的侧面上的第一侧壁19b和第二侧壁23b;在活性区域不靠在一起的n型源极·漏极区域24b;形成在位于栅电极14b的外侧侧向下方的氮扩散层18b;形成在活性区域10b中栅电极14b的外侧侧向下方的区域覆盖着氮扩散层18b的内侧侧面及底面、含砷的n型延伸区域16;以及形成在活性区域10b中位于栅电极14b的外侧侧向下方的区域,比n型延伸区域16还深、含磷的n型杂质区域17。
  • 半导体器件及其制造方法
  • [发明专利]集电环电刷以及装备该集电环电刷的集电环单元-CN200710003815.5有效
  • L·安杰波因特纳;K·德罗斯特 - LTN伺服技术有限责任公司
  • 2007-01-17 - 2007-07-25 - H01R39/18
  • 本发明涉及一种集电环电刷,包括一个支架(1)和一个具有三种区域(2.1、2.2、2.3)的电刷元件(2)。该电刷元件(2)在第一区域(2.1)中与该支架(1)连接,并在预先确定用于与一个集电环(3.1)接触的第二区域(2.2)中具有一种横截面面积为(A)的横截面几何形状(Q2)。在第三区域(2.3)中,该电刷元件(2)具有与第二区域(2.2)相同的横截面面积(A)。此外如此构造该电刷元件(2),使其第三区域(2.3)布置在第一区域(2.1)和第二区域(2.2)之间。如此构造电刷元件(2)在第三区域(2.3)中的横截面几何形状(Q3),使其不同于所述第二区域(2.2)的横截面几何形状(Q2),以降低该电刷元件(2)的有效弹簧刚度
  • 集电环电刷以及装备单元
  • [发明专利]射频晶体管射频参数模型建立方法-CN201810114825.4有效
  • 王伟 - 上海华力微电子有限公司
  • 2018-02-06 - 2021-08-13 - G06F30/367
  • 本发明公开了一种射频晶体管射频参数模型建立方法,包括:将射频晶体管按其物理尺寸描述为一空间区域,将该空间区域根据预设物理尺寸划分为4n个子空间区域,每个子空间区域对应一个器件;选择位于该空间区域8个顶点位置的子空间区域,分别对该8个子空间区域对应的器件建立模型提取射频参数;将该8个子空间区域射频参数与其该子空间区域的预设物理尺寸形成8元一次方程组,将该8元一次方程组作为该空间区域射频参数的解析表达式;对该8元一次方程组求解得出各解析参数
  • 射频晶体管参数模型建立方法
  • [发明专利]基于拟合的触摸点轨迹追踪方法、装置及智能设备-CN201710888614.1有效
  • 邓华芹 - 深圳市天英联合教育股份有限公司
  • 2017-09-27 - 2021-01-12 - G06F3/041
  • 本发明适用于触摸控制技术领域,提供了基于拟合的触摸点轨迹追踪方法、装置及智能设备方法及装置,包括:获取用户输入的触摸区域,根据所述触摸区域确定起始点所在的第一触摸点区域以及与其相邻的触摸点所在的第二触摸点区域;建立与第一触摸点区域相切的切点的第一新圆和第二新圆,与第二触摸点区域相切的切点的第三新圆和第四新圆,根据所述第二触摸点区域以及与其相邻的第三触摸点区域确定第五新圆和第六新圆,依次类推,直到确定终点触摸区域的第2N‑1新圆和第2N新圆,对所述第一新圆至所述第2N‑1新圆进行拟合,对所述第二新圆至所述第2N新圆进行拟合,根据拟合结果确定所述触摸区域的轨迹。
  • 基于拟合触摸轨迹追踪方法装置智能设备
  • [发明专利]美颜方法、装置、计算机可读存储介质和电子设备-CN201711242782.X有效
  • 曾元清 - OPPO广东移动通信有限公司
  • 2017-11-30 - 2020-01-10 - G06T5/00
  • 上述方法,包括:对待处理图像进行人脸识别,识别所述待处理图像中人脸区域,获取所述人脸区域的色彩值和亮度值;检测数据库中是否存储与所述人脸区域的色彩值和亮度值对应的第一美颜参数,所述第一美颜参数是电子设备已存储的美颜图像中对所述人脸区域的美颜参数;若所述数据库中存储与所述人脸区域对应的第一美颜参数,根据所述第一美颜参数对所述人脸区域进行美颜处理。上述方法,电子设备在识别出待处理图像中人脸区域后,可获取数据库已存储的与上述人脸区域对应的第一美颜参数,根据上述第一美颜参数对待处理图像中人脸区域进行美颜处理,使得电子设备对人脸区域的美颜处理更加智能化和个性化
  • 美颜方法装置计算机可读存储介质电子设备
  • [发明专利]一种显示装置和电子设备-CN201711217911.X有效
  • 李波 - 武汉天马微电子有限公司
  • 2017-11-28 - 2021-06-08 - G06F3/041
  • 本发明实施例公开了一种显示装置和电子设备,该显示装置包括:第一基板,第一基板包括显示区域,显示区域包括至少一个第一显示区域和至少一个第二显示区域,沿显示装置第一边界线的延伸方向上第一显示区域的延伸长度小于第二显示区域的延伸长度;位于第一基板上的第一触控电极层和第二触控电极层,第一触控电极层具有多个第一触控电极,第二触控电极层具有多个第二触控电极,第一显示区域中至少一条第一触控电极的阻值和第二显示区域中至少一条第一触控电极的阻值相等本发明实施例,降低了第一显示区域的第一触控电极的阻值和第二显示区域的第一触控电极的阻值的差异,提高了触控均一性。
  • 一种显示装置电子设备
  • [发明专利]光学晶片的制造-CN201710481201.1有效
  • 哈特穆特·鲁德曼 - 赫普塔冈微光有限公司
  • 2013-08-19 - 2020-11-06 - H01L27/146
  • 制造光学晶片包括提供晶片,所述晶片包括由玻璃增强环氧树脂构成的芯部区域,所述晶片进一步包括在所述芯部区域的顶表面上的第一树脂层和在所述芯部区域的底表面上的第二树脂层。所述芯部区域和第一树脂层与第二树脂层对电磁波谱的特定范围是基本上不透明的。所述晶片进一步包括垂直透明区域,所述垂直透明区域延伸穿过所述芯部区域和所述第一树脂层与第二树脂层,并且由对所述电磁波谱的所述特定范围是基本上透明的材料构成。所述晶片例如通过从其顶表面和其底表面抛光来变薄,以便所得厚度在预定范围内,而不引起所述芯部区域的玻璃纤维暴露。在所述透明区域中的至少一些透明区域的一个或多个暴露表面上提供相应光学结构。
  • 光学晶片制造

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