专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果34507935个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]烃CO2-CN202210190099.0在审
  • 王爱洁;李观春;何健 - 唐山亿昌热能科技有限公司
  • 2022-03-01 - 2022-07-26 - F23G7/06
  • 本发明公开了烃CO2气体处理的方法及装置,其中方法包括:启动高温热源对反应进行加热,直至加热到所需温度,同时对反应区外排热量进行回收;烃CO2气体和助燃空气进入预热后的高温反应进行氧化分解,氧化分解产生的热量用于维持自身反应后,加热即将进入反应烃CO2气体和助燃空气,循环叠加升温使反应持续达到反应温度,使烃CO2气体高效分解;高温热源根据反应温度逐渐升高,自动关小补热量,直至全部关停,当反应温度下降所需温度下限时,高温热源自动启动,并根据反应温度的自动调节风速,维持热平衡状态;反应后的烟气经换热后返回烟道并排出。本发明可有效的实现超低热值烃CO2气体的稳定燃烧,完全保证烃类物质的高效分解。
  • 一种cobasesub
  • [发明专利]微机电结构及其制作方法-CN201510908759.4有效
  • 林梦嘉;李勇孝;陈翁宜;李世伟;刘崇显 - 联华电子股份有限公司
  • 2015-12-10 - 2021-09-21 - B81B7/00
  • 本发明公开种微机电结构及其制作方法。该微机电结构的制作方法,包含首先提供基底包含逻辑元件微机电元件,接着形成逻辑元件于逻辑元件,之后全面形成氮材料层覆盖逻辑元件和微机电元件,然后移除位于微机电元件区内的部分的氮材料层以在氮材料层上定义出至少退缩区域,在形成退缩区域之后,形成至少介电层覆盖逻辑元件和微机电元件,并且介电层填入退缩区域,接续蚀刻位于微机电元件的部分的介电层以形成至少孔洞穿透介电层,其中退缩区域环绕孔洞,最后蚀刻基底以形成腔室
  • 微机结构及其制作方法
  • [发明专利]种电解电容及相关电子元器件全自动二次浸生产线-CN201910409177.X在审
  • 喻良岳 - 东莞市瑾耀精密设备有限公司
  • 2019-05-17 - 2020-06-12 - H01G13/00
  • 本发明公开了种电解电容及相关电子元器件全自动二次浸生产线,包括自动升降待料机构、第次真空浸机构、第次烘干机构、冷却机构、第二次真空浸机构、第二次烘干机构,第机械手搬送机构、第二机械手搬送机构、第三机械手搬送机构、自动升降收料机构,本发明通过将机架顶部的移栽装置划分为三个区域,取料、第次干燥进为第,第次干燥出、第二次干燥进为第二,第二次干燥出、收料为第三,划分为三合理利用有限空间,同时也提高了生产效率,实现了电解电容及相关元器件的二次浸、烘干、冷却的流水线自动生产,占地面积小,生产效率高、劳动强度低、浸效果好。
  • 一种电解电容相关电子元器件全自动二次生产线
  • [发明专利]基板处理方法和基板处理装置-CN202010078704.6在审
  • 水野秀树;铃木敬纪 - 东京毅力科创株式会社
  • 2020-02-03 - 2020-08-11 - H01L21/311
  • 本发明提供种减小蚀刻第域和第二域时的形状的差异的基板处理方法和基板处理装置,该第域具有氧化硅膜和氮化硅膜的层叠膜,该第二域具有氧化硅膜的单层膜。基板处理方法具有以下工序:提供具有第域和第二域的第基板及第二基板的工序,第域具有氧化硅膜和氮化硅膜的层叠膜,第二域具有氧化硅膜的单层膜;改变硫气体的流量,以各流量使用处理气体蚀刻第基板,求出硫气体的流量与形状差之间的关系的工序,形状差为形成于第域的凹部的形状与形成于第二域的凹部的形状的形状差;根据关系,决定硫气体的流量的工序;以及以决定出的硫气体的流量来蚀刻第二基板的工序
  • 处理方法装置
  • [发明专利]无抗蚀剂图案化掩模-CN202010254819.6有效
  • M·克里斯塔;S·阿米尼 - IMEC 非营利协会;鲁汶天主教大学
  • 2020-04-02 - 2023-09-08 - G03F1/76
  • 本发明涉及无抗蚀剂图案化掩模以及种在待图案化层(100)上形成图案化掩模的方法,所述方法包括以下步骤:(a)在待图案化层(100)上提供碳基层(200);(b)用卤素基团(400)使碳基层(200)的顶表面(300)官能化;(c)通过以图案化方式使顶表面(300)暴露于能源来部分去除卤素基团(400),从而形成包括第域(510)和第二域(520)的图案,所述第域具有使表面官能化的卤素基团(400),所述第二域(520)没有使表面官能化的卤素基团(400);以及(d)相对于第域(510),在第二域(520)上选择性形成金属、金属氧化物或金属氮化物(600)。
  • 无抗蚀剂图案化掩模
  • [实用新型]种电极极片及其锂离子电池-CN201921877590.0有效
  • 汪小知;王雪巍;宋安宁 - 苏州微木智能系统有限公司
  • 2019-10-31 - 2020-06-02 - H01M4/13
  • 本实用新型涉及电池技术领域,具体涉及种电极极片及其锂离子电池。本实用新型提供的电极极片,包括:集流体和碳导电涂层,所述碳导电涂层远离所述集流体的表面包括至少个第面和至少个第二面,所述第面和第二面交替设置,所述第面上排布若干炭黑颗粒单元和若干石墨烯颗粒单元,所述炭黑颗粒单元与石墨烯颗粒单元平行设置;活性材料层,设置于所述碳导电涂层远离所述集流体的表面上,并覆盖所述第面及其上的炭黑颗粒单元和石墨烯颗粒单元与第二面。通过上述设置可有效增大碳导电涂层和活性材料层的接触面积,进而提高集流体和活性材料的结合力,提升电池性能。
  • 一种电极及其锂离子电池

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top