专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种锂陶瓷溅射靶材及其制备方法、应用-CN202211413978.1有效
  • 侯俊峰;张明哲;田少华;蒋亮;董福元 - 北方民族大学
  • 2022-11-11 - 2023-05-09 - C04B35/495
  • 本申请涉及一种锂陶瓷溅射靶材及其制备方法、应用,包括以下步骤:球磨化学计量比锂原粉;取还原金属粉和锂粉体A混合均匀,放入真空气氛炉中处理,然后依次经过液酸洗、清洗液清洗,抽滤干燥后得到锂粉体B;将锂粉体B放入放电等离子烧结炉中烧结,得到相对密度为93.4%至98.1%的锂陶瓷溅射靶材。采用化学计量比锂粉体预处理加放电等离子烧结技术制备锂陶瓷溅射靶材,通过对锂粉体A缺陷化处理,提高锂粉体B中的氧空位浓度,能够制备得到致密度高以及纯度高的锂陶瓷溅射靶材,相对密度高,避免在制备锂陶瓷溅射靶材的过程中加入聚乙烯醇
  • 一种铌酸锂陶瓷溅射及其制备方法应用
  • [发明专利]一种制备锂表面图形的方法-CN201110245639.2无效
  • 郑婉华;齐爱谊;王海玲;渠红伟 - 中国科学院半导体研究所
  • 2011-08-25 - 2012-01-04 - C30B33/12
  • 本发明公开了一种制备锂表面图形的方法,该方法包括:在锂衬底表面制作掩膜图形;采用氟基等离子对锂衬底进行干法刻蚀,以刻蚀锂;采用氧等离子对锂衬底进行刻蚀,以刻蚀在锂表面形成的氟化锂;重复上述采用氟基等离子及氧等离子的刻蚀步骤,直至完成锂表面图形的制备。利用本发明,解决了氟基等离子刻蚀锂时表面再沉积氟化锂的问题,达到制备大深度、底面光滑锂表面图形的目的。本方法简单易用,可以用于锂的刻蚀,获得大深度、底面光滑的锂表面图形。
  • 一种制备铌酸锂表面图形方法
  • [发明专利]一种氧化和氧化钽的制备方法-CN202110995803.5在审
  • 石波;李石凤;邓朝勇;李超;李斌;梁原 - 稀美资源(广东)有限公司
  • 2021-08-27 - 2021-12-17 - C01G35/00
  • 一种氧化或氧化钽的制备方法,涉及钽湿法冶炼领域;用液(氟或氟氧溶液)或钽液(氟钽溶液)与硼酸反应得到或钽;过滤或钽后的母液用于制备氟硼酸钾;与钽行业用氨中和液或钽液制备氢氧化或氢氧化钽的传统方法相比,不产生含氟含氨废水,实现清洁化生产,同时得到锑、铜等杂质元素含量低的高纯度氧化或氧化钽产品。本发明采用全新的方法制备氧化或氧化钽,解决了传统钽湿法冶炼产生大量含氟含氨碱性废水及钽氧化物产品中杂质元素锑难分离的问题,同时得到高纯度的氧化或氧化钽产品,并进一步制取氟硼酸钾实现氟资源的回收。
  • 一种氧化制备方法
  • [发明专利]一种氟钾结晶的制备方法-CN202110671566.7在审
  • 张伟宁;张宇;郭涛;张向楠;马东鹏 - 宁夏东方钽业股份有限公司
  • 2021-06-17 - 2021-08-20 - C01G33/00
  • 本申请涉及氟制备方法技术领域,特别地,涉及一种氟钾结晶的制备方法。为了解决工艺流程和反应条件复杂、产品杂质高,收率偏低等问题。所述制备方法包括:选取氢氧化粉体溶于氢氟酸溶液,得到溶液,过滤所述溶液,去除杂质;过滤后的所述溶液升温至60℃或以上,加入氯化钾、氟化钾、氢氧化钾中的任一种,保温至少30min进行合成反应,得到氟钾溶液;将所述氟钾溶液冷却至25‑30℃,分离样品和母液,将所述样品进行洗涤、干燥,获得氟钾结晶。
  • 一种氟铌酸钾结晶制备方法
  • [发明专利]锂晶体畴结构的制备方法、光电器件-CN202111195202.2有效
  • 张国权;钱月照;张子晴;许京军 - 南开大学
  • 2021-10-13 - 2022-06-14 - C30B33/04
  • 本发明涉及铁电畴制备技术领域,具体而言,涉及一种锂晶体畴结构的制备方法、光电器件。锂晶体畴结构的制备方法包括以下步骤:用施加了电压的导电探针扫描锂晶体表面形成畴结构,其中导电探针在锂晶体表面形成的电场强度大于等于锂晶体发生极化反转的阈值电场强度,锂晶体为非极性的X本发明提供的制备方法对样品结构无要求,无需底电极,且能够制备出任意图案且完整的畴结构。本发明还提供了一种包括上述制备方法制得的锂晶体畴结构的光电器件。
  • 铌酸锂晶体结构制备方法光电器件
  • [发明专利]一种铟镱铥三掺杂锂晶体及其制备方法-CN201310252932.0无效
  • 代丽;焦珊珊;钱钊;李大勇;林家齐;王喜明 - 哈尔滨理工大学
  • 2013-06-24 - 2013-09-25 - C30B29/30
  • 一种铟镱铥三掺杂锂晶体及其制备方法,它涉及一种掺杂锂晶体及其制备方法。本发明是要解决现有的镱铥掺杂的锂晶体抗光损伤能力较低的问题。本发明一种铟镱铥三掺杂锂晶体由Nb2O5、LiCO3、In2O3、Yb2O3和Tm2O3制成。制备方法:一、混合;二、采用提拉法生长晶体;三、极化;即得到铟镱铥三掺杂锂晶体。本发明制备的铟镱铥三掺杂锂晶体光洋度高、成分均一、无瑕疵、无生长条纹和无裂纹产生,在保证了镱铥掺杂的锂晶体原有优良性能的同时抗光损伤能力显著提高;本发明铟镱铥三掺杂锂晶体的制备方法简单,便于操作本发明可用于制备铟镱铥三掺杂锂晶体。
  • 一种铟镱铥三掺杂铌酸锂晶体及其制备方法
  • [发明专利]锂晶体及其制备方法-CN202111022496.9有效
  • 薛冬峰;陈昆峰;王晓明 - 中国科学院深圳先进技术研究院
  • 2021-09-01 - 2023-07-18 - C30B29/30
  • 本申请属于光电材料技术领域,尤其涉及一种锂晶体及其制备方法。其中,锂晶体的制备方法,包括步骤:计算锂晶体生长的温度场结构;计算锂晶体的生长参数;将锂源和源进行混合干燥处理,得到混合原料;在空气氛围中,对混合原料进行烧结处理,得到锂多晶料块;在计算的温度场结构中,将锂多晶料块融化后,在籽晶的引导下,依据计算的生长参数,采用提拉法进行晶体生长后,得到锂晶体。本申请锂晶体的制备方法,通过模拟、推演和计算方法分别计算锂晶体的温度场结构和生长参数,然后在计算的温度场结构中,依据计算的晶体生长参数,采用提拉法进行晶体生长,显著提高锂晶体的生长效率。
  • 铌酸锂晶体及其制备方法
  • [发明专利]一种锂纳米器件的刻蚀方法-CN202210080620.5在审
  • 江安全;敖孟寒 - 复旦大学
  • 2022-01-24 - 2022-05-13 - H01L21/461
  • 本发明属于光电器件制备技术领域,具体为一种锂材料的刻蚀方法。本发明方法包括:在锂表面制备金属钝化层,用来提高纳米图形的保形性以及侧壁刻蚀倾斜角;沉积硬掩膜,并采用微电子光刻技术进行图形化处理;在待刻蚀的锂区域沉积活性金属薄膜,以提高刻蚀深度;将覆盖有活性金属层的锂晶体在还原气氛中进行退火;然后采用相应的溶液和碱溶液去掉锂表面的金属及其与锂的反应物,得到具有一定刻蚀深度的锂纳米图形。所制备的大规模锂纳米器件阵列尺寸可控,保形性和重复性好,侧壁倾斜角大于80°,图形凸块表面光滑。锂纳米器件制备步骤简单,难度低,可降低大规模生产成本。
  • 一种铌酸锂纳米器件刻蚀方法

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