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[发明专利]用于调节辐射束的光学设备、光刻设备和器件制造方法-CN201210107106.2有效
发明人： G·C·德弗里斯;简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特;F·J·J·杰森;N·A·J·M·范阿尔勒 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-04-12 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：在一种极紫外光刻设备中，照射系统包括琢面场反射镜和琢面光瞳反射镜。反射镜内部的场琢面反射镜将极紫外辐射聚焦到特定的相关光瞳琢面反射镜，由此将其引导至目标区域。每个场琢面反射镜被修改为散射不期望的深紫外辐射进入一方向范围内。深紫外辐射的大部分落到光瞳反射镜内的相邻光瞳琢面反射镜上，使得到达目标的深紫外辐射的量与期望的极紫外辐射相比被抑制。因为反射镜之间的距离远大于单个光瞳琢面反射镜的宽度，所以可以仅使用窄散射角来实现对深紫外辐射的良好的抑制。可以将散射层内的极紫外辐射的吸收最小化。
用于调节辐射光学设备光刻器件制造方法

[发明专利]光刻设备和制造器件的方法-CN201580038295.4有效
发明人：简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特;S·比林;M·恩德林斯;M·M·埃斯卡兰特;T·格鲁纳;L·维施迈尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司;卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2015-07-06 - 公布日： 2019-03-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：照射器包括具有多个可独立导向的反射器的场反射镜(422)和具有多个光瞳琢面(4241‑1至4241‑M)的光瞳反射镜(424)，其中可独立导向的反射器被分成多组相邻的可独立导向的反射器、以形成虚拟场琢面(50)，光瞳琢面投影虚拟场琢面的像、以填充照射场(IS)。
光刻设备制造器件方法

[发明专利]光刻设备以及器件制造方法-CN201080057980.9有效
发明人： K·范隐真申诺;J·范斯库特;G·德维里斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-11-19 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：在光刻设备中，使用包括多个可移动琢面以将辐射引导至光瞳琢面反射镜上的可选择位置的场反射镜设置照射模式。从一组预定照射模式选择基础照射模式并且可移动琢面被设置以实现该模式。为了调节成像参数，可移动琢面的一部分被设置到不同位置。确定哪些琢面设置到不同位置基于对将每个琢面设置到不同位置的效应的累加。
光刻设备以及器件制造方法

[发明专利]光刻设备以及器件制造方法-CN201080051846.8有效
发明人： J·范斯库特;克恩·万英根谢诺;G·德维里斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-09-08 - 公布日： 2012-07-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：在光刻设备中，使用场反射镜设置照射模式，场反射镜包括多个可移动琢面以引导辐射至光瞳琢面反射镜上的可选定位置。在一场琢面反射镜有缺陷且不能被设置到期望位置的情形中，可移动琢面反射镜中的另一个被设置到与其期望位置不同的校正位置，以便至少部分地缓解有缺陷的琢面反射镜的有害影响。
光刻设备以及器件制造方法

[发明专利]匹配光瞳确定-CN201980055414.5在审
发明人： A·B·范奥斯汀 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-08-12 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： G02B27/09 文献下载
摘要：所述方法包括：获得(i)参考设备(例如参考扫描器)的参考性能(例如CD)、(ii)从被选择用以再现所述参考性能的设备(例如，待匹配的扫描器)的多个光瞳琢面反射镜的多个自由度中所选择的一组初始引导自由度、以及(iii)与所述图案化过程的基于所述一组初始引导自由度来指示所述设备的性能的一个或更多个参数有关的曝光数据(例如CD、重叠、聚焦等)；和基于所述一组初始引导自由度来确定所述设备的匹配光瞳、和所述曝光数据，使得所述匹配光瞳减少所述设备的性能与所述参考性能之间的差异。
匹配确定

[发明专利]装饰用钻石的切割结构-CN01125881.0无效
发明人：川渊良范;松村保 -专利权人：株式会社微笑智能
申请日： 2001-08-27 - 公布日： 2002-03-20 - 主分类号： A44C17/00 文献下载
摘要：顶侧角c和底侧角p选择成使得入射顶侧琢面后从顶侧琢面射出的光、入射切平面后从顶侧琢面射出的光和入射顶侧琢面后从切平面射出的光同时指向观察者。此外,底侧角p和顶侧角c最好选择成使得入射光形成的角度与射出光形成的角度大致相等。其切平面直径与腰棱翻光面直径之比应大于等于0.33小于等于0.60,最好不大于0.55,更好不大于0.38。
装饰钻石切割结构

[发明专利]宝石及其切割方法-CN202310149420.5在审
发明人：鲁文·帕金 -专利权人：艾伯特加德有限公司
申请日： 2019-05-08 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： A44C27/00 文献下载
摘要：宝石的表面通常分成以各种角度设置的多组互锁琢面。包括冠部的表面的琢面组通常包括星琢面、上主冠部琢面、上中间冠部琢面、下主冠部琢面、下中间冠部琢面和上腰围琢面。上腰围琢面大致邻接腰围的上边缘。包括亭部的表面的琢面组包括亭尖相邻琢面、下烛琢面、下主亭部琢面、上烛琢面、上主亭部琢面和下腰围琢面。下部腰围琢面大致邻接腰围的下部边缘。
宝石及其切割方法

[发明专利]宝石及其切割方法-CN201980033328.4有效
发明人：鲁文·帕金 -专利权人：艾伯特加德有限公司
申请日： 2019-05-08 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： A44C17/00 文献下载
摘要：宝石的表面通常分成以各种角度设置的多组互锁琢面。包括冠部的表面的琢面组通常包括星琢面、上主冠部琢面、上中间冠部琢面、下主冠部琢面、下中间冠部琢面和上腰围琢面。上腰围琢面大致邻接腰围的上边缘。包括亭部的表面的琢面组包括亭尖相邻琢面、下烛琢面、下主亭部琢面、上烛琢面、上主亭部琢面和下腰围琢面。下部腰围琢面大致邻接腰围的下部边缘。
宝石及其切割方法

[发明专利]一种平面光波导-CN201710327538.7在审
发明人：不公告发明人 -专利权人：上海誉沛光电科技有限公司
申请日： 2017-05-11 - 公布日： 2017-08-22 - 主分类号： G02B6/122 文献下载
摘要：第一表面用于出射经过光波导的光线，第二表面包括多个线性棱镜，每个线性棱镜特征包括第一琢面和第二琢面，其中所述第一琢面与第一表面为平行设置，是全内反射TIR表面，光线通过第一琢面在光波导内反射传播，第二琢面与第一表面之间存在一定夹角，光线在第二琢面反射后改变光线的传播方向，通过第一表面出射。一种显示装置包括提供显示图像的光引擎和平面光波导。
一种平面波导

[发明专利]用于投射曝光设备的照明光学单元的光瞳分面反射镜-CN202180052698.X在审
发明人： A·温克勒;M·恩德雷斯;M·帕特拉;M·拉莫拉;A·伊萨克;T·费希尔 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2021-08-20 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： G02B26/08 文献下载
摘要：光瞳分面反射镜为投射曝光设备的照明光学单元的构成部分，其除了光瞳分面反射镜之外，还包含具有多个可切换场分面(20)的场分面反射镜。照明通道(25)借助于场分面反射镜的一个相应场分面(21)和光瞳分面反射镜的一个相应光瞳分面(23)来指定。场分面(21)的图像(26)经由光瞳分面(23)以重叠方式成像到物场中。可倾斜的光瞳分面(23)与光瞳分面反射镜的倾斜致动器系统(27)相互作用。光瞳分面反射镜具有用于指定粗调倾斜角的粗调致动器系统操作模式(28)和用于指定可倾斜光瞳分面(23)的微调倾斜角的微调致动器系统操作模式(29)，其可用于照明通道分配和用于指定可倾斜光瞳分面(23)的照明通道这产生了光瞳分面反射镜，在照明光学单元中使用该光瞳分面反射镜可提高使用的灵活性，且特别是有助于观察投射曝光设备的精确照明参数指定。
用于投射曝光设备照明光学单元光瞳分面反射

[发明专利]微型光学透镜及微型光学透镜角度的设计方法-CN200910139367.0无效
发明人：何志强;李孝文 -专利权人：采钰科技股份有限公司
申请日： 2009-05-13 - 公布日： 2010-06-23 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：本发明的微型光学透镜，包括：一基板，以及一形成于此基板上的透镜，其中此透镜包括一平坦表面及一环状沟槽表面，此环状沟槽表面包括多个第一及第二琢面，第一琢面使一光线平行射出，且第二琢面与此光线平行。本发明的微型光学透镜可减少影像遗失并增加光效率。此外，本发明还提供一种含此透镜的发光二极管封装结构。
微型光学透镜角度设计方法

[发明专利]光瞳分面反射镜-CN201680024997.1有效
发明人： T.费希尔 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2016-05-11 - 公布日： 2021-01-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明的目的为改善投射曝光设备的照明光学单元的光瞳分面反射镜。本发明的本质是形成具有不同尺寸的光瞳分面(29)的光瞳分面反射镜。光瞳分面(29)尤其还可具有不同形式。光瞳分面的至少一子集可具有规则形式。它们尤其具有不同长度的侧边缘。它们可尤其具有不规则多边形的形式。
光瞳分面反射

[发明专利]照明器、光刻装置和调整曝光辐射的强度均一性的方法-CN202010709965.3在审
发明人：许哲彰;郑介任;陈立锐;简上杰;张晁祯;陈思妤 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2020-07-22 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种照明器包括：第一琢面镜面，接收且反射曝光辐射；可调整屏蔽元件，安置于第一琢面镜面上，可调整屏蔽元件调整由第一琢面镜面反射的曝光辐射的强度均一性；以及第二琢面镜面，接收且反射由第一琢面镜面反射的曝光辐射
明器光刻装置调整曝光辐射强度均一方法

[发明专利]光瞳滤波远场超分辨成像系统及光瞳滤波器设计方法-CN201910726353.2有效
发明人：王超;刘壮;史浩东;付强;李英超;魏明 -专利权人：长春理工大学
申请日： 2019-08-07 - 公布日： 2022-01-14 - 主分类号： G02B27/58 文献下载
摘要：光瞳滤波远场超分辨成像系统及光瞳滤波器设计方法，属于超分辨成像技术领域，为了解决现有的视场光阑扫描的远场超分辨成像系统中，严重影响最终的超分辨成像质量的问题，该系统沿光线入射方向依次设置为：前端光学物镜、视场光阑、准直镜组、光瞳滤波器、成像镜头和CCD探测器，前端光学物镜用于将远处场景成像在系统中间像面处，视场光阑放置在前端光学物镜的后焦面即整个系统中间像面处，准直镜组的前焦点在系统中间像面处，光瞳滤波器放置在前端光学物镜和准直镜组组合的系统的后端出瞳位置，且光瞳滤波器有效口径位置和尺寸与出瞳面重合，成像镜头将通过光瞳滤波器的光线进行二次成像，CCD探测器靶面与所述二次成像平面重合。
滤波远场超分辨成像系统滤波器设计方法

[发明专利]投射光刻的照明光学系统-CN201980078420.2在审
发明人： T.刚;J.范肖特 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2019-11-05 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：光学照明系统的光瞳分面反射镜具有多个光瞳分面(11)。每个光瞳分面(11)被设计为引导照明光的部分束(24i)。对于被设计为选择性反射的光瞳分面的至少一些光瞳分面(11)，以下适用：选择性反射的光瞳分面(11)具有用于照明光的反射涂层(27)。在选择性反射的光瞳分面(11)的第一部分上的第一涂层区域(271)具有第一反射率。在选择性反射的光瞳分面(11)的第二部分上的第二涂层区(272)具有第二反射率。组合地或作为替代，对于被设计为具有宽带反射率的光瞳分面中的至少一些光瞳分面，以下适用：具有宽带反射率的分面具有用于照明光的具有宽带反射率的涂层。
投射光刻照明光学系统

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