专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]激光加工系统及用于激光加工系统的方法-CN201980065557.4有效
  • B·许尔曼;N·韦肯曼 - 普雷茨特两合公司
  • 2019-08-02 - 2023-09-26 - B23K26/03
  • 所述激光加工系统包括:具有壳体的加工头,所述壳体具有用于从所述加工头(101)发射所述激光束(10)的开口(212);测量装置(120),其配置为能够引导光学测量光束(13)通过所述开口(212),以及用于使所述激光束(10)和所述光学测量光束(13)对准的光学单元,所述光学单元能够被设定以在开口(212)的区域内垂直于所述加工头(101)的光轴调整所述激光束(10)和所述光学测量光束(13)。测量装置(120)还配置为能够根据基于光学测量光束(13)对于光学单元的不同设定而言的反射的测量值来确定光学单元的与激光束(10)的居中对准相对应的设定。
  • 激光加工系统用于方法
  • [实用新型]一种光学测量仪器的校准器-CN202020425098.6有效
  • 高欢迪;高丽莎 - 中衡计量服务(海南)有限公司
  • 2020-03-30 - 2020-09-15 - G01C25/00
  • 本实用新型提供一种光学测量仪器的校准器,包括支撑管、在该支撑管管内升降的升降杆、设置在该支撑管的内部与该升降杆的底端固定并可以在该支撑管的任意位置定位的定位机构、设置该升降杆顶端的用于安装光学测量仪器的微调机构,本实用新型通过定位机构在支撑管内任意位置定位,实现升降杆在支撑管内升降并定位,实现安装在微调机构上的光学测量仪器能定位在不同的高度,若光学测量仪器所在的位置还存在误差时,则通过微调机构对光学测量仪器再次微调高度,实现高精度调节光学测量仪器的高度的功能,使光学测量仪能够有效的、精准的对被测物进测量避免测量存在的正负误差,提高测量精度,本实用新型操作简单,使用方便。
  • 一种光学测量仪器校准
  • [发明专利]基于双光梳干涉测量法的光学镜片质量检测系统及方法-CN202010150743.2有效
  • 元晋鹏;汪丽蓉;王三丹 - 山西大学
  • 2020-03-06 - 2021-05-14 - G01M11/02
  • 本发明属于光学精密测量技术领域,公开了一种基于双光梳干涉测量法的光学镜片质量检测系统及方法,系统包括光源系统、干涉测量系统、信号处理系统。光源系统包括第一光学频率梳和第二光学频率梳,用于产生重复频率满足外差拍频条件的两束激光;干涉测量系统中,第一光学频率梳的输出信号被分为测量光束和参考光束两束光,其中,测量光束入射到待测光学镜片后,与参考光束重合;重合后的测量光束和参考光束与第二光学频率梳的输出光束再次重合后分为两束,分别被探测器的两个探测窗口探测;信号处理系统用于根据探测器的探测信号,计算得到待测光学镜片的厚度和折射率。本发明可以同时测量玻璃镜片的厚度和折射率,并实现玻璃镜片的二维表征。
  • 基于双光梳干涉测量光学镜片质量检测系统方法
  • [发明专利]光学测量装置-CN202010488724.0在审
  • 韩政洹 - 三星显示有限公司
  • 2020-06-02 - 2020-12-18 - G01N21/84
  • 提供了光学测量装置。光学测量装置包括多个测量单元、第一光学系统和第二光学系统,其中,多个测量单元在第一方向上间隔开,第一光学系统配置成改变光路以允许光入射在多个测量单元上,并且第二光学系统配置成改变光路以允许光入射在第一光学系统上,其中,第一光学系统包括配置成将光路改变为对应多个测量单元的多个固定单元,并且第二光学系统能够在第二方向上被传送并且包括配置成将光路改变为对应多个固定单元的多个移动单元,其中,多个移动单元允许外部光入射在其上并且能够在与第二方向不同的第三方向上被传送
  • 光学测量装置
  • [发明专利]光学测量系统的屏蔽方法-CN200710020864.X无效
  • 陈荣发;赵毅红 - 扬州大学
  • 2007-04-10 - 2008-05-21 - G01S17/08
  • 本发明公开了一种光学测量系统的屏蔽方法,其特征是在光学测量系统的光学k9玻璃表面上镀ITO透明导电薄膜。镀膜步骤包括:将光学k9玻璃镜面进行预处理;采用DHK-500镀膜装置和ITO烧结靶;将预处理的镜片装夹在基片架上,镜片与靶面之间距离为40~50mm;抽真空,充入氩气,施加射频电压,形成等离子区,通入氧气,监控薄膜生长厚度;对光学k9玻璃表面上沉积薄膜ITO膜,经过真空退火工艺,制得ITO透明导电薄膜。本发明工艺合理先进,在光学测量系统的光学k9玻璃表面上镀ITO透明导电薄膜,使光学测量仪器在各种环境下工作,都能排除电磁干扰,提高光学测量仪器的测量质量和精度。
  • 光学测量系统屏蔽方法

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