专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种基于亿级像素相机的目标区域安防与监控系统-CN202111452205.X有效
  • 袁潮;温建伟;邓迪旻 - 北京拙河科技有限公司
  • 2021-12-01 - 2022-07-12 - G08B13/196
  • 所述系统包括:相机阵列,所述相机阵列包括多个相机;信息存储阵列,用于存储所述相机阵列针对目标区域获取的信息;重叠识别子系统,用于识别至少两个相机获得的两组不同信息中重叠信息;目标体素化子系统,用于将重叠信息对应的目标执行体素化处理,获得多个体素结果;安防与监控处理子系统,基于所述多个体素结果,发出安防或者监控信号;其中,所述多个相机中的至少一个的像素超过一亿本发明可基于相机阵列实现亿级像素监控区域智能和智慧监控和安防识别。
  • 一种基于像素相机目标区域监控系统
  • [发明专利]一种相变材料薄膜的图像相位调控装置及方法-CN202210737935.2在审
  • 李朝晖;陈鸿飞 - 中山大学
  • 2022-06-28 - 2022-07-29 - G02F1/00
  • 本申请提供一种相变材料薄膜的图像相位调控装置及方法,涉及光学系统技术领域。该相变材料薄膜的图像相位调控装置包括激光光源、图像调控器和相变材料薄膜;所述激光光源设置在所述图像调控器的前端,所述激光光源用于发射激光光束至所述图像调控器;所述相变材料薄膜设置在所述图像调控器的后端,所述图像调控器调制所述激光光束,并将所述激光光束调制为预设分布光斑,所述预设分布光斑投射在所述相变材料薄膜的待加工表面。该相变材料薄膜的图像相位调控装置可以实现保证加工精度的同时,极大地提高加工效率的技术效果。
  • 一种相变材料薄膜图像相位调控装置方法
  • [发明专利]一种空间振幅及相位复合调制系统、方法及其检测系统-CN202110930694.9在审
  • 赵圆圆;吴志财;陈经涛;段宣明 - 暨南大学
  • 2021-08-13 - 2021-11-19 - G03F7/20
  • 本发明为克服空间调制仅对光的单一信息振幅或者相位进行空间调制,光刻分辨率较低的缺陷,提出一种空间振幅及相位复合调制系统、方法及其检测系统,其中空间振幅及相位复合调制系统包括振幅型空间调制器、像元匹配光学系统和相位型空间调制器,振幅型空间调制器对输入进行像素振幅调制,再通过像元匹配光学系统对图像进行位置调整,使图像与所述相位型空间调制器中的空间像素位置一一对应,再输入所述相位型空间调制器中,相位型空间调制器对输入的经过振幅调制的图像中对应像素进行相位调制,输出为相位、振幅独立调制的图案,实现空间振幅和相位信息像素、多自由度、独立的调制。
  • 一种空间振幅相位复合调制系统方法及其检测
  • [发明专利]一种基于普朗克参数相机标定方法-CN201910547293.8有效
  • 张琦;王庆;李亚宁;周果清;王雪 - 西北工业大学
  • 2019-06-24 - 2022-09-06 - G06T7/80
  • 本发明提供了一种基于普朗克参数相机标定方法,通过移动标定板或相机拍摄不同姿态下的标定板,获取数据,并确定多组标定板上角点与对应的光线集,确定相机记录的光线集与三维场景点的线性关系,通过线性初始计算相机内参数与相应姿态下的外参数,构建视点相关的相机径向畸变模型,最后建立线线几何距离的代价函数,迭代求得待标定相机内参数、外参数及径向畸变参数的最优解。本发明解决了相机内参数冗余的问题,更加符合相机主透镜的成像原理,能够精确且鲁棒的标定相机内参数及外参数。
  • 一种基于普朗克参数相机标定方法
  • [发明专利]激光干涉光刻设备和方法-CN202011282106.7在审
  • 李文迪;甘斫非;闵思怡 - 香港大学
  • 2020-11-16 - 2022-05-17 - G03F7/20
  • 本公开提供了一种激光干涉光刻方法,包括:对涂覆有光刻胶的芯片执行干涉曝光;以及对经干涉曝光的芯片执行图案泛曝光,其中执行泛曝光包括:确定在所述经干涉曝光的芯片中的第一分布;基于所述第一分布、预期的图案分布和用于所述泛曝光的泛光光源的参数,确定所述泛光光源的分布,作为第二分布;以及基于所述第二分布,对所述泛光光源的分布进行图案,并控制具有经图案分布的所述泛光光源对经干涉曝光的芯片进行泛曝光,从而在经泛曝光的芯片中形成所述预期的图案分布
  • 激光干涉光刻设备方法
  • [发明专利]激光干涉光刻设备和方法-CN202180073877.1在审
  • 李文迪;甘斫非;闵思怡 - 香港大学
  • 2021-11-16 - 2023-07-21 - G03F7/20
  • 本公开提供了一种激光干涉光刻方法,包括:对涂覆有光刻胶的晶片执行干涉曝光;以及对经干涉曝光的晶片执行图案泛曝光,其中执行泛曝光包括:确定在所述经干涉曝光的晶片中的第一分布;基于所述第一分布、预期的图案分布和用于所述泛曝光的泛光光源的参数,确定所述泛光光源的分布,作为第二分布;以及基于所述第二分布,对所述泛光光源的分布进行图案,并控制具有经图案分布的所述泛光光源对经干涉曝光的晶片进行泛曝光,从而在经泛曝光的晶片中形成所述预期的图案分布
  • 激光干涉光刻设备方法
  • [发明专利]一种基于多中心投影模型的相机标定方法-CN201910547317.X有效
  • 张琦;王庆;李亚宁;周果清;王雪 - 西北工业大学
  • 2019-06-24 - 2022-09-06 - G06T7/80
  • 本发明提供了一种基于多中心投影模型的相机标定方法,通过移动标定板或相机拍摄不同姿态下的标定板,获取数据,并确定多组标定板上角点与匹配的角点光线集,构建相机坐标系光线与三维空间点的线性约束,通过线性初始计算相机内参数与相应姿态下的外参数,建立基于重投影误差的代价函数,迭代求得待标定相机内参数、外参数及径向畸变参数的最优解。相机本质上记录的是空间中的光线,由于采用了双平行平面绝对坐标参数光线,克服了三维点重建不精确的问题,本发明达到了精确且鲁棒的标定相机内参数的目的。
  • 一种基于中心投影模型相机标定方法

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