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- [发明专利]激光干涉光刻设备和方法-CN202180073877.1在审
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李文迪;甘斫非;闵思怡
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香港大学
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2021-11-16
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2023-07-21
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G03F7/20
- 本公开提供了一种激光干涉光刻方法,包括:对涂覆有光刻胶的晶片执行干涉曝光;以及对经干涉曝光的晶片执行图案化泛曝光,其中执行泛曝光包括:确定在所述经干涉曝光的晶片中的第一光场分布;基于所述第一光场分布、预期的图案分布和用于所述泛曝光的泛光光源的参数,确定所述泛光光源的光场分布,作为第二光场分布;以及基于所述第二光场分布,对所述泛光光源的光场分布进行图案化,并控制具有经图案化的光场分布的所述泛光光源对经干涉曝光的晶片进行泛曝光,从而在经泛曝光的晶片中形成所述预期的图案分布。
- 激光干涉光刻设备方法
- [外观设计]圆规-CN202330078231.4有效
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李文迪
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李文迪
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2023-02-27
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2023-05-05
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19-06
- 1.本外观设计产品的名称:圆规。2.本外观设计产品的用途:用于尺规作图。3.本外观设计产品的设计要点:在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图1。5.其他需要说明的情形其他说明:标示A部分为A部放大图。
- 圆规
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