专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]产生光刻图案的方法-CN201010153353.7无效
  • 畑光宏;釜渊明 - 住友化学株式会社
  • 2010-04-21 - 2010-10-27 - G03F7/00
  • 本发明提供一种产生光刻图案的方法,包括下列步骤:在衬底上施加第一光刻组合物然后进行干燥以形成第一光刻;预烘第一光刻;将预烘过的第一光刻曝露于辐射;烘焙曝露过的第一光刻;用第一碱性显影剂使烘焙过的第一光刻显影以形成第一光刻图案;使形成的第一光刻图案对下述步骤中的辐射无活性、不溶于碱性显影剂或者不溶于第二光刻组合物;在其上已经形成有第一光刻图案的衬底上施加第二光刻组合物,然后进行干燥以形成第二光刻;预烘第二光刻;使预烘过的第二光刻曝露于辐射;烘焙曝露过的第二光刻;和用第二碱性显影剂使烘焙过的第二光刻显影以形成第二光刻图案。
  • 产生光刻图案方法
  • [发明专利]表面贴片的纠偏补偿方法-CN202310081493.5在审
  • 佘小将;张萌 - 厦门微亚智能科技有限公司
  • 2023-01-28 - 2023-08-29 - G03F7/16
  • 本申请涉及屏幕准备工艺技术领域,尤其涉及一种表面贴片的纠偏补偿方法,S100、获取玻璃位置,使玻璃两端和光刻两端重合宽度达到预定数值;S200、控制机械手往下运动,驱动光刻在高度与玻璃相接和,并调光刻,使玻璃和光刻重合且部分宽度一致;S300、使用短压头对光刻进行热压,并调整光刻,直至光刻与第二段两端重合且宽度一致,再对第二段进行热压;S400、重复调整光刻,使光刻在第三段与玻璃重合且宽度一致;直至整条光刻全部贴在玻璃上,以确保整条光刻与玻璃重合且宽度一致。
  • 表面纠偏补偿方法
  • [发明专利]产生光刻图案的方法-CN201010153376.8无效
  • 畑光宏;山本敏;藤裕介 - 住友化学株式会社
  • 2010-04-21 - 2010-10-27 - G03F7/00
  • 本发明提供一种产生光刻图案的方法,包括步骤(A)至(D):(A)用第一光刻组合物在衬底上形成第一光刻、使第一光刻曝露于辐射、然后使曝露过的第一光刻显影以获得第一光刻图案的步骤,第一光刻组合物包含树脂、产酸剂和交联剂,树脂含有在其侧链中具有酸不稳定基团的结构单元并且自身在碱性水溶液中不可溶或可溶性差,但通过酸的作用变为在碱性水溶液中可溶,(B)在190-250℃烘焙所得第一光刻图案10-60秒的步骤,(C)用第二光刻组合物在其上形成有第一光刻图案的衬底上形成第二光刻并使第二光刻曝露于辐射的步骤,(D)使曝露过的第二光刻显影以获得第二光刻图案的步骤。
  • 产生光刻图案方法
  • [发明专利]制备胶印用凹版印刷板的方法-CN200980101641.3无效
  • 李东郁;黄仁哲;全相起;金承旭 - LG化学株式会社
  • 2009-01-19 - 2010-12-15 - B41N1/00
  • 该方法包括如下步骤:用铜金属涂布玻璃基板;在涂布的铜金属上形成光刻;通过将光刻曝光然后使光刻显影以从一些光刻中除去光刻而形成所需的光刻图形;将镍镀到除去光刻的区域;以及除去剩余的光刻并抛光镀镍的表面所述制备胶印用凹版印刷板的方法可以用于提供具有高图形精度(因为光刻图形是通过光刻法形成的)、优异的厚度均一性(因为使用了玻璃基板)和优异的耐久性(因为凹版印刷板的最外层表面是由镍制成的)的凹版印刷板。
  • 制备胶印凹版印刷方法
  • [发明专利]一种解决7度角注入工艺中硅衬底起皮缺陷的方法-CN202010605175.0在审
  • 李林;曾坤;信会菊;郎刚平;陈宝忠 - 西安微电子技术研究所
  • 2020-06-29 - 2020-10-09 - H01L21/265
  • 本发明一种解决7度角注入工艺中硅衬底起皮缺陷的方法,所述方法包括步骤1,先在待注入的硅衬底表面涂覆一层I线正性光刻,得到涂有光刻的硅衬底,之后对涂有光刻的硅衬底进行曝光,将具有图形的掩膜板上的图形转移至所述的光刻内,最后去除曝光区域的光刻,在硅衬底上形成使用光刻作掩蔽的注入图形;步骤2,对步骤1得到的硅衬底的下表面和上表面分别进行加热,以及紫外光辐射,完成7度角注入工艺前的固胶工序;步骤3,对步骤2完成固胶工序的硅衬底进行UV固胶后可改善图形光刻侧壁形貌以及增强光刻的抗注入能力,UV固胶处理后再7度角注入时光刻底部产生的硅衬底不会有起皮的缺陷。
  • 一种解决注入工艺衬底缺陷方法

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