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专利名称

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申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]一种上料模组及加工设备-CN202120676904.1有效
发明人：叶志伟;刘洁武;宋世宇;高云峰 -专利权人：大族激光科技产业集团股份有限公司
申请日： 2021-04-02 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： B23Q3/06 文献下载
摘要：本申请提供了一种上料模组，包括：传送组件，用于传送待加工的工件；修正组件，包括修正平台、修正驱动件和转移机械手，所述转移机械手设置于所述修正平台和传送组件之间，用于将所述传送组件上的工件转移至所述修正平台上，所述修正驱动件设于所述修正平台的一侧，与所述修正平台相配合实现对工件的位置修正；以及上料机械手，设置于所述修正平台一侧，用于将放置在所述修正平台上的工件进行上料，能够实现将传送来的工件进行精准上料，以提高加工的精度
一种模组加工设备

[发明专利]缺陷修正装置及缺陷修正方法-CN201010180901.5有效
发明人：筒井亚希子;清井清美 -专利权人：索尼公司
申请日： 2010-05-13 - 公布日： 2010-11-24 - 主分类号： G02F1/1362 文献下载
摘要：一种缺陷修正装置，该装置显著提高缺陷修正工序的作业效率，同时提高缺陷修正的品质。检查形成有重复构图的多层基板，提取重复构图内的缺陷的位置信息及所述缺陷的特征信息。接着，从数据库读取对应检测到的缺陷的缺陷修正手法。然后，使读取的缺陷修正手法所含有的对象物尺寸与修正实施顺序相对该缺陷修正装置进行最优化。并且，利用尺寸与适用顺序进行最优化的缺陷修正手法来控制用于实施缺陷修正的缺陷修正部。
缺陷修正装置方法

[发明专利]电光装置及电子设备-CN201210019540.5有效
发明人：吉元洋志 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2012-01-20 - 公布日： 2012-08-01 - 主分类号： H04N13/00 文献下载
摘要：显示控制电路52包括：帧存储器；第1修正图像数据生成部，生成修正电光元件的响应特性的第1修正图像数据VDx；第2修正图像数据生成部，生成修正右眼用图像和左眼用图像中一方混入另一方的情况的第2修正图像数据；选择部，第1个场选择第1修正图像数据，第2个以后的场选择第2修正图像数据；修正部，修正第1图像数据，生成输出图像数据。
电光装置电子设备

[发明专利]一种校准箱压力补偿室对高精度测力天平影响的修正方法-CN201911146963.1有效
发明人：章荣平;刘忠华;张逊;王勋年;陈其盛 -专利权人：中国空气动力研究与发展中心低速空气动力研究所
申请日： 2019-11-21 - 公布日： 2021-01-26 - 主分类号： G01M9/06 文献下载
摘要：本专利公开一种校准箱压力补偿室对高精度测力天平影响的修正方法，该修正方法主要用于解决压力补偿室对高精度测力天平测量结果产生影响的问题，能够显著减小测力天平的测量不确定度，修正方法包括传感器布置和修正方法，通过合理布置压力传感器，监控压力补偿室的状态参数，用作修正的参数输入；修正方法包括以下四步：刚度影响修正、压力影响修正、带压刚度影响修正、标准喷管组合修正。
一种校准压力补偿高精度测力天平影响修正方法

[发明专利]一种基于大数据的语音识别系统及方法-CN202110015512.5有效
发明人：时彪 -专利权人：广州华源网络科技有限公司
申请日： 2021-01-07 - 公布日： 2021-04-16 - 主分类号： G10L15/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于大数据的语音识别系统及方法，所述语音识别系统包括个人语音修正库、辅助修正库设置模块、语音信号采集模块和语音识别结果修正判断模块，所述个人语音修正库用于存储修正字，所述辅助修正库设置模块用于选取个人语音修正库的辅助修正库，所述语音信号采集模块用于采集语音信号，所述语音识别结果修正判断模块通过对语音信号进行识别播报以及与用户之间的交互判断是否要修正语音识别结果。
一种基于数据语音识别系统方法

[发明专利]滤波方法、装置及设备-CN202110247471.2有效
发明人：潘冬萍;孙煜程;陈方栋;王莉 -专利权人：杭州海康威视数字技术股份有限公司
申请日： 2021-03-05 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： H04N19/80 文献下载
摘要：本申请提供一种滤波方法、装置及设备，该滤波方法包括：确定所述当前自适应修正滤波单元是否允许使用增强自适应修正滤波；若确定当前自适应修正滤波单元允许使用增强自适应修正滤波，则使用第一滤波器对所述当前自适应修正滤波单元进行自适应修正滤波；若确定当前自适应修正滤波单元不允许使用增强自适应修正滤波，则使用第二滤波器对所述当前自适应修正滤波单元进行自适应修正滤波。
滤波方法装置设备

[发明专利]具有秒针修正机构的指针式时计-CN200510062926.4无效
发明人：小野保 -专利权人：精工电子有限公司
申请日： 2005-03-30 - 公布日： 2005-10-05 - 主分类号： G04C9/00 文献下载
摘要：为了在修正时间时通过轮系设置杆修正其转动的齿轮总是停止在其修正时的准确角度位置上，经由第四轮修正秒针的秒针修正机构包括布置成和第四轮一起转动和停止的修正盘。如果上条柄轴拉出到其第一级时，设置杆和离合杆转动，由此轮系设置杆围绕转动枢销转动，并且轮系设置杆的修正部分压靠修正盘周向表面。由此修正盘在该角度位置停止其转动，并因此修正第四轮的转动。
具有秒针修正机构指针时计

[实用新型]一种便于调节宽度的修正叶-CN202022439428.X有效
发明人：章旭;吴临红;刘辉;刘敏;石文旭;林鸳;邹维 -专利权人：江西水晶光电有限公司;江西晶创科技有限公司
申请日： 2020-10-28 - 公布日： 2021-07-27 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种便于调节宽度的修正叶，包括修正叶，所述修正叶呈椭圆状，所述修正叶两弧边上设置有复数片拼合调整宽度的小修正叶，所述小修正叶上开设有复数个调节长孔，所述修正叶两弧边靠近边缘处设有复数个螺钉孔，所述小修正叶和修正叶之间通过螺钉、调节长孔和螺钉孔的配合而连接，本实用新型便于快速调整修正叶的边缘宽度，不仅提高了生产效率，而且还降低了企业成本。
一种便于调节宽度修正

[实用新型]一种修正带静音结构及修正带-CN202120284382.0有效
发明人：高海涛 -专利权人：得力集团有限公司
申请日： 2021-02-01 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： B43L19/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种修正带静音结构，包括修正头(1)、带轮(2)和废带轮(3)，带轮(2)释放带，该带绕过修正头(1)后由废带轮(3)回收，还包括压带机构，压带机构与修正头(1)联动连接，当使用修正带时，修正头(1)带动压带机构解除对带的锁定，当不使用修正带时，压带机构对带进行锁定，当不使用修正带时，压带机构对带进行锁定，能够有效地解决噪音问题；还提出一种修正带，采用所述的修正带静音结构。
一种修正静音结构

[发明专利]缺陷修正装置及其缺陷修正方法-CN200480000456.2无效
发明人：堀内一仁;秋山周次;阿部政弘;大西孝明 -专利权人：奥林巴斯株式会社
申请日： 2004-04-28 - 公布日： 2005-11-16 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：本发明涉及一种缺陷修正装置及其缺陷修正方法。该缺陷修正装置包括：缺陷检测部(41)，通过与参照图像的比较，检测在基板上产生的缺陷；禁止区域设定部(39)，对位于驱动电路元件(23)上或布线(21、22)上的缺陷设定修正的禁止区域(KA)；修正区域设定部(44)，将除了落在禁止区域(KA)上的部分以外的缺陷部分和与禁止区域(KA)无关的缺陷设定为修正区域；优先级设定部(5)，对修正区域设定修正顺序的优先级；以及修正部(31)，根据优先级修正缺陷。
缺陷修正装置及其方法

[发明专利]加工程序修正装置以及加工程序修正方法-CN201780083832.6有效
发明人：金子弘树;西野慎哉;内田守昭 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2017-12-26 - 公布日： 2021-03-19 - 主分类号： G05B19/4093 文献下载
摘要：具备：加工程序接收部(11)，其接收加工程序的输入；提取规则设定部(12)，其对用于从加工程序提取修正范围的数据的提取规则进行设定；提取部(13)，其基于提取规则，从加工程序提取修正范围的数据；修正部(14)，其对由提取部(13)提取出的修正范围的数据进行修正；以及生成部(15)，其基于加工程序、以及由修正部(14)修正后的修正范围的数据而生成修正后加工程序。
加工程序修正装置以及方法

[发明专利]图案修正方法、曝光掩膜、半导体器件及其制造方法-CN201010107016.4无效
发明人：冈干生;小池薰;土屋健介;大沼英寿 -专利权人：索尼公司
申请日： 2010-01-22 - 公布日： 2010-07-28 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：一种图案修正方法，包括：修正步骤，对具有多个晶体管作为组成元件的半导体电路图案执行图案修正；优先级顺序识别步骤，识别针对优先于修正步骤中的图案修正的多个晶体管而设置的优先级顺序；和条件调整步骤，参考具有在修正步骤中的图案修正中的优先级顺序识别步骤中被识别的高优先级的晶体管，为图案修正调整修正条件。
图案修正方法曝光半导体器件及其制造

[发明专利]图案修正方法及图案修正装置-CN201310069492.5无效
发明人：井上达司 -专利权人： NTN株式会社
申请日： 2013-03-05 - 公布日： 2013-09-18 - 主分类号： C03C17/00 文献下载
摘要：一种能以不污染缺陷部的周围的方式使涂布于缺陷部的修正液的厚度均匀的低成本的图案修正方法及图案修正装置，在该图案修正方法中，在朝液晶滤色片基板的像素的白色缺陷涂布了修正墨水之后，照射激光来加热修正墨水，从而降低修正墨水的粘度来使该修正墨水平坦化因此，不会因涂布于白色缺陷的修正墨水而污染周围。另外，能使用已有的激光装置，因此，也不会导致高成本。
图案修正方法装置

[实用新型]一种修正笔-CN201020655236.6无效
发明人：李蔚然 -专利权人：李蔚然
申请日： 2010-12-13 - 公布日： 2011-08-24 - 主分类号： B43K29/05 文献下载
摘要：一种修正笔，属于学习用品领域，包括笔杆，在笔杆内设置有修正液存储器，与修正液存储器连接设置有控制装置，与控制装置连接有按钮和发电装置；修正液存储器的出口设置在笔杆的通孔处。本实用新型提供的修正笔，可以作为正常的笔使用，还设置有修正液，便于修正错字，十分方便，且修正液存储器可以重新更换修正液。
一种修正

[发明专利]基底加工设备、存储介质以及基底加工方法-CN201910444402.3有效
发明人：和田隆;野口哲;安達渉;村松大輔 -专利权人： ASM IP控股有限公司
申请日： 2019-05-27 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：基底加工设备的示例包括：装置，其用于使基底经受加工；以及控制器，其用于通过随时间变化的第一修正值和第二修正值来修正控制所述装置的预定参数，由此计算修正后的参数，并且基于所述修正后的参数对所述装置进行控制，其中，所述第一修正值相比于所述第二修正值具有更短的用于修正所述控制参数的期间。
基底加工设备存储介质以及方法

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