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- [发明专利]等离子体成膜方法以及等离子体CVD装置-CN200880117487.4有效
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铃木正康
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株式会社岛津制作所
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2008-02-26
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2010-10-27
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H01L21/31
- 在利用电容耦合型等离子体CVD装置的成膜过程中,藉由对低频RF电源进行脉冲控制而在产生电弧放电之前周期性地抑制高温电子的密度,藉此,可抑制电弧放电的产生。脉冲控制中,将实施电力供给的接通时间与停止电力供给的断开时间作为一个期间,以周期性地反复实施电力供给。脉冲控制中,将停止电力供给之后的等离子体中的电子密度的下降过程中、电子密度自停止电力供给起直至达到产生电弧放电的残留等离子体临限值为止的时间,与停止电力供给之后的等离子体中的高温电子的密度下降过程中、自停止电力供给起直至达到特定的等离子体状态为止的时间之间的时间间隔,作为停止电力供给的断开时间,并将开始电力供给之后等离子体中的高温电子密度的上升过程中的饱和时间作为电力供给的接通时间的上限,在上述条件下间断地供给电力。
- 等离子体方法以及cvd装置
- [实用新型]清洁介质供给系统、清洁基站和清洁装置-CN202320269798.4有效
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赵立栋;胡彩云
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北京石头世纪科技股份有限公司
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2023-02-08
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2023-09-29
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A47L11/40
- 本申请实施例公开了一种清洁介质供给系统、清洁基站和清洁装置,清洁介质供给系统包括了存储组件和液体供给管,在使用过程中,存储组件内用于存放清洁剂,而液体供给管用于输出清洁用的水,在需要对清洁设备的清洁部件如抹布和滚刷进行清洗过程中,通过液体供给管供给出水,在水供给过程中,根据伯努利原理,流体流速快的地方压强小,因此这种工况下液体供给管内的压力降低,为保持压强平衡存储组件的空气会向液体供给管方向流动,故由此产生的负压会使存储组件内压强降低,存储组件内的清洁液受大气压影响会进入液体供给管,随清水一起到达清洁部件,基于此即可完成清洁液的自动供给,且无需配备其他器件,在节省成本的同时,提高了用户体验。
- 清洁介质供给系统基站装置
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