专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]带LED灯的光栅-CN201621066756.7有效
  • 巫孟良;李力强 - 广东万濠精密仪器股份有限公司
  • 2016-09-21 - 2017-04-26 - G01B11/00
  • 本实用新型公开一种带LED灯的光栅尺,包括读数头,该读数头的角位内设置一LED灯,该角位的三个侧面为透明材料,可透射出LED灯发出的光线,该LED灯具有红色R子光栅、绿色G子光栅、蓝色B子光栅和黄色Y子光栅藉此,通过将LED灯设置于光栅尺读数头角位上,使LED灯所发光线由该角位的三个侧面透射出来,提高LED灯利用率,相对于传统光栅尺,减少了LED灯数量,降低了成本;另外,该光栅尺之LED灯具有R、G、B、Y子光栅,每种子光栅代表一种功能,相对于传统光栅尺仅具有R、G、Y三种子光栅,功能更全面,使用更方便。
  • led光栅尺
  • [发明专利]半导体激光器及其制作方法-CN202210315573.8有效
  • 李鸿建;龙浩;郭娟 - 武汉云岭光电有限公司
  • 2022-03-29 - 2022-08-09 - H01S5/12
  • 本发明涉及一种半导体激光器,包括衬底,衬底上依次外延生长有缓冲层、有源层以及InP层,还包括光栅层,光栅层的制作具体为于InP层向有源层的方向刻蚀形成光栅,并在经过刻蚀后的InP层上进行光栅掩埋得到光栅层;在进行光栅掩埋前通入惰性气体;光栅层中的高折射率材料和进行光栅掩埋的材料相同,惰性气体作为光栅层中的低折射率材料。本发明的光栅层设计中以惰性气体作为低折射率材料,使得光栅层材料折射率差为传统设计的10倍及其以上,极大地提高光栅耦合系数,进而提高激光器的耦合效率和功率效率。光栅层设计材料相同,相较于传统的InGaAsP/InP两种材料,相同的材料设计,易于外延生长,有助于提高界面处光栅层外延生长质量。
  • 半导体激光器及其制作方法
  • [发明专利]一种基于液晶偏振体光栅的二维扩瞳方法-CN202110824355.2有效
  • 李海峰;罗豪;翁嘉诚;刘旭 - 浙江大学
  • 2021-07-21 - 2022-11-01 - G02B27/01
  • 本发明公开了一种基于液晶偏振体光栅的二维扩瞳方法,二维扩瞳方法基于液晶偏振体光栅的波导显示器件,包括光波导,在光波导上设有均为液晶偏振体光栅的入耦合光栅、下转置光栅、上转置光栅和出耦合光栅;入耦合光栅将光束耦合进入光波导,在光波导中发生全反射进入到下转置光栅,完成一维方向的光束扩展;光束在下转置光栅完成一维方向的光束扩展后,同时将光束折射进入上转置光栅,完成另一方向上的出瞳扩展;光束折射进入上转置光栅完成另一方向上的出瞳扩展后,在光波导内继续全反射向前传播至出耦合光栅,在出耦合光栅处耦合出射。该方法解决了传统光栅波导系统由于传统衍射光栅折射率调制度限制下较窄的响应带宽所导致的较小FOV的问题。
  • 一种基于液晶偏振光栅二维方法
  • [发明专利]随机达曼光栅的制备方法-CN201210007105.0有效
  • 王少卿;周常河;韦盛斌;贾伟;曹红超;麻健勇 - 中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 2012-01-11 - 2012-07-11 - G02B5/18
  • 一种随机达曼光栅的制备方法,包括下列步骤:①在两面平行的透明介质基片的一面涂匀光刻胶,置于随机光场下曝光显影并刻蚀,从而在刻蚀面形成具备一定深度的随机图案,②在所述的透明介质另一面涂匀光刻胶,置于达曼光栅掩模图案下曝光显影和刻蚀,形成具备一定深度的传统达曼光栅结构图案。或先单独加工一个传统的达曼光栅和一个随机相位板,将所述的达曼光栅和所述的随机相位板紧贴组合在一起形成。本发明随机达曼光栅具备衍射光信息量大的优点,相对于传统随机相位板,随机达曼光栅衍射光具备规则点阵光信息,信噪比高,信号处理方便等优点。随机达曼光栅有望在精密测量、机器视觉、航空航天等领域得到广泛的应用。
  • 随机光栅制备方法
  • [发明专利]一种基于双参数修正的光栅光谱仪机械位置误差修正方法-CN202210701896.0在审
  • 李淑贤;翟婉同;李爽 - 翟婉同
  • 2022-06-21 - 2022-09-20 - G01J3/02
  • 本发明提供了一种基于双参数修正的光栅光谱仪机械位置误差修正方法,包括:基于标准光谱,建立由丝杠位置参量表征的光栅零位误差和由光栅轴杆长参量表征的光栅轴杆长误差;基于标准波长,对所述光栅零位误差的参量和所述光栅轴杆长误差的参量进行修正,消除光栅光谱仪机械位置误差。本发明利用光栅光谱仪的双参量对光谱仪器的输出波长准确度进行修正,相对于传统技术修正后的光栅光谱仪的波长准确度更好;构建误差参量和误差平方和的函数关系,能后通过该函数直接得到误差调整参量的值,与传统的技术相比采用直接求解的方式可以更快的得到光栅光谱仪的修正值
  • 一种基于参数修正光栅光谱仪机械位置误差方法
  • [发明专利]高性能复制光栅-CN89108754.0无效
  • 石晓鹏 - 石晓鹏
  • 1989-11-20 - 1991-07-17 - B29D11/00
  • 本发明是一种复制光栅元件的塑性压延塑造方法,此元件广泛地用于光谱、激光技术,电磁波导等技术应用的领域中。由于本方法能够取消在传统光栅复制工艺中必须使用的有机聚合物材料,从而提高了复制光栅的性能,能胜任制造困难、造价昂贵且又不能大批制造的原刻光栅的工作,从而使光栅的应用得以更有效地推广。本发明复制方法合理,与现有传统方法相比有较高的工作性能,并可大量复制现时还不能或难以复制的光栅品种,故有较为显著的优越性和一定的实用性。
  • 性能复制光栅

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