专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种强耐候性的气凝胶毡及其制备方法-CN201610410115.7在审
  • 徐斌;刘汉东;钊文科;柏莹莹;任斌 - 江苏德威节能有限公司
  • 2016-06-13 - 2016-11-09 - B32B9/00
  • 本发明涉及一种强耐候性的气凝胶毡及其制备方法,包括纳米气凝胶毡本体、预增强、粘结保护,所述的粘结设在纳米气凝胶毡本体的表面,所述的保护设粘结的上方,所述的预增强层位于纳米气凝胶毡本体和粘结之间通过在疏水纳米气凝胶毡表面预加增强并与气凝胶毡预增强,然后施加热熔胶膜,再在热熔胶膜上敷设铝箔等保护,避免了气凝胶毡与空气、水分等的接触,减缓了表面凝胶的粉化速度,同时,由于预增强的存在,粘结与气凝胶毡结合的强度和稳定性大大增强,配合不同的保护,可以满足与不同材料结合的稳定性和持久性。
  • 一种强耐候性二氧化硅凝胶及其制备方法
  • [实用新型]一种高硬度眼镜片-CN202122168444.4有效
  • 汤浩宇;赵留琴 - 江苏天润光学镜片有限公司
  • 2021-09-09 - 2022-03-08 - G02C7/02
  • 本实用新型公开了一种高硬度眼镜片,包括基片,所述基片侧面设有第一保护,所述基片顶面设有减反射,所述减反射在远离基片的一面设有膜,所述膜在远离减反射的一面设有第保护,所述第保护在远离膜的一面设有抗油污,通过设置第一保护可以实现在眼镜片进行安装时可以通过第一保护对基片、减反射膜进行保护防止破裂。
  • 一种硬度眼镜片
  • [实用新型]一种单纤光纤接头-CN201620212295.3有效
  • 宋海峰 - 杰讯光电(福建)有限公司
  • 2016-03-20 - 2016-09-28 - G02B6/38
  • 一种单纤光纤接头,包括有接头主体,于接头主体的两端设置有保护保护包括有膜以及镀于膜表面的五氧化钽膜;于保护的外侧面上镀有增强。本实用新型提供的单光纤接头在现有结构的基础上,在其两端设置了保护保护膜以及五氧化钽膜构成,其中:膜具有较高的硬度,在保证接头透过率的前提下膜能够对接头主体的端面进行保护;五氧化钽膜的主要功能是用于增加对光线的折射率,保证本实用新型在设置有保护的基础上仍满足接头的透过率要求以及折射要求。
  • 一种光纤接头
  • [发明专利]一种疏水性铝合金复合材料-CN201811549297.1有效
  • 何录菊;马李;盘茂森;葛雅莉 - 广东石油化工学院
  • 2018-12-18 - 2020-07-28 - C23C14/35
  • 本发明公开了一种疏水性铝合金复合材料,包括为铝合金基底层,铝合金基底层上涂覆有环氧树脂保护,环氧树脂保护上依次沉积有第一二硫化钼、第一二氧、第二二硫化钼、第二二氧、第三二硫化钼和第三二氧,第一二硫化钼、第一二氧、第二二硫化钼、第二二氧、第三二硫化钼、第三二氧依次沉积叠加在在环氧树脂保护上,第一二氧、第二二氧、第三二氧的粒径依次梯度递增。
  • 一种疏水铝合金复合材料
  • [发明专利]多次外延生长方法-CN201110457595.X有效
  • 吴琼;乔春羽;王刚宁;周立超;叶逸舟 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2011-12-31 - 2013-07-03 - H01L21/205
  • 本发明涉及一种多次外延生长方法,包括以下步骤:提供一半导体衬底;在衬底上沉积一;在所述表面的边缘区域上涂覆一圈光刻胶,由所述光刻胶围成第一窗口;刻蚀第一窗口内的,暴露出衬底表面,在中形成第窗口;去除光刻胶;在第窗口内的衬底上依次进行多次外延生长。本发明采用作为半导体衬底轮廓倒角处的保护,利用选择性外延不在上生长特性,从而在每次外延生长中不需要重新制作保护,简化工艺,同时衬底轮廓倒角的保护的形成仅采用光刻胶涂覆边缘区域,刻蚀形成衬底轮廓倒角的保护
  • 多次外延生长方法
  • [发明专利]LCD端子的制造工艺及LCD端子-CN201710375341.0在审
  • 叶福贵;万奇松;王树松;钟玮莹 - 麒麟电子(深圳)有限公司
  • 2017-05-24 - 2018-02-09 - G02F1/1345
  • 本发明提供了一种LCD端子的制造工艺,包括以下步骤对下ITO基板进行清洗;将涂液印刷于下ITO基板上;对涂液进行预固化;对涂液进行主固化,使涂液成为附着于下ITO基板上的涂层;对印有涂层的下ITO基板进行清洗;将聚酰亚胺保护液印刷于涂层上;对聚酰亚胺保护液进行主固化,使聚酰亚胺保护液成为附着于涂层上的聚酰亚胺保护。由上述LCD端子的制造工艺所制得的LCD端子,其下ITO基板的ITO走线上将覆盖有涂层及聚酰亚胺保护,将对ITO走线形成双重保护,有效地避免汗液对ITO走线形成腐蚀,同时避免玻璃碎或其它尖锐异物划伤
  • lcd端子制造工艺
  • [实用新型]一种电容触摸屏-CN201320736625.5有效
  • 黄亮;杨春云;李洪庆;彭勇;蒋蔚;陈凯;李益芳;黄海东 - 深圳力合光电传感股份有限公司
  • 2013-11-19 - 2014-05-07 - G06F3/044
  • 本实用新型公开了一种电容触摸屏,包括金属引线和玻璃基片,在所述玻璃基片一表面或相对的两表面上还依次层叠有透明导电膜传感器保护;所述金属引线设置在所述透明导电膜传感器的边缘区域,且与所述透明导电膜传感器的引脚电连接该电容触摸屏通过将保护层叠结合在透明导电膜传感器的表面,解决了现有电容触摸屏的透明树脂保护表面容易形成污点的问题;且保护的强度很高,可防止传感器刮伤。此外,将保护延伸至金属引线之上,且覆盖金属引线,当外部的温湿度变化较大时,如高温高湿环境下,基本上也不会造成保护的损坏,因此金属引线不易被腐蚀。
  • 一种电容触摸屏
  • [发明专利]一种STI结构CMP方法以及STI结构制作方法-CN201110250266.8有效
  • 方精训;邓镭 - 上海华力微电子有限公司
  • 2011-08-29 - 2012-05-02 - H01L21/3105
  • 本发明公开了一种用于氧化/氮化硅双内壁保护的STI-CMP方法、以及采用所述方法制作STI结构的方法,使用具有较高的氧化对氮化硅的研磨速率比的研磨液研磨去除沟槽填充并且停在氮化硅保护上,接着用具有较高的氮化硅氧化研磨速率比的研磨液研磨氮化硅保护,在完全去除氮化硅保护之后,再使用原来的具有较高的氧化对氮化硅的研磨速率比的研磨液研磨保护,最终停留在氮化硅阻挡之上。从而避免了传统STI制作方法中额外的去除氮化硅保护保护的湿法刻蚀步骤,降低了工艺复杂度,并有利于提高晶圆表面的平坦度。
  • 一种sti结构cmp方法以及制作方法

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