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[发明专利]使用用于缺陷检验的激光功率控制的大粒子监控-CN202180054447.5在审
发明人： A·罗曼诺夫斯基;许志伟;Y·尤迪特斯凯;Y·崔;M·帕兰杰佩 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2021-09-02 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：使用主激光束及副激光束检验半导体晶片。所述副激光束领先所述主激光束且具有低于所述主激光束的功率。使用所述副激光束，在所述半导体晶片上检测具有满足阈值的大小的粒子。响应于检测到所述粒子，降低所述主激光束的所述功率及所述副激光束的所述功率。所述粒子在所述主激光束处于降低功率的情况下通过所述主激光束。在所述粒子在所述主激光束处于降低功率的情况下通过所述主激光束之后，依比单个步骤慢的受控方式恢复所述主激光束的所述功率及所述副激光束的所述功率。
使用用于缺陷检验激光功率控制粒子监控

[发明专利]一种大功率照明设备及照明方法-CN201711174342.5在审
发明人：李伟 -专利权人：北京创格致通科技有限公司
申请日： 2017-11-22 - 公布日： 2018-05-18 - 主分类号： F21K9/64 文献下载
摘要：本发明涉及一种大功率照明设备，该照明设备包括：主激光阵列，主激光阵列发出主激光束；至少一个位于主激光束光轴外周的次激光阵列，次激光阵列发出次激光束；设置于主激光束光轴上，用于对主激光束进行汇聚的主激光束汇聚装置；至少一个与次激光阵列相对设置，且位于次激光阵列与主激光束光轴之间，用于对次激光束进行汇聚，并使次激光束的行进方向与主激光束的行进方向相一致的缩束装置；设置于主激光束的光轴上，用于将主激光束和次激光束汇聚成一束混合激光束射出的第一凸透镜
一种大功率照明设备照明方法

[发明专利]跟踪误差信号产生装置和方法及光盘设备和跟踪控制方法-CN200410038596.0无效
发明人：山田真一;久世雄一;渡边克也;近藤健二;吉川昭 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2004-04-27 - 公布日： 2004-11-03 - 主分类号： G11B7/09 文献下载
摘要：一种跟踪误差信号产生装置包括一个分裂和会聚单元，其用于将光束分裂为一个主光束和一个子光束；一个两部分主光束检测单元，其用于检测由光盘反射的主光束；一个主光束推挽式信号产生单元，其用于产生一个主光束推挽式信号；一个两部分子光束检测单元，其用于检测子光束；一个子光束推挽式信号产生单元，其用于产生子光束推挽式信号；一个偏移量检测单元，其用于根据主光束推挽式信号和子光束推挽式信号来检测主光束推挽式信号与参考值的偏移量；以及一个跟踪误差信号产生单元，其用于在偏移量的基础上通过修正主光束推挽式信号或子光束推挽式信号来产生跟踪误差信号。
跟踪误差信号产生装置方法光盘设备控制

[发明专利]激光束退火装置和使用激光束退火装置制造显示装置的方法-CN201610016386.4在审
发明人：秋秉权;安尚熏;郑炳昊;罗正均;李承桓;赵珠完;赵玹辰;奥列格·普鲁德尼科夫 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2016-01-11 - 公布日： 2016-12-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供了一种激光束退火装置和使用激光束退火装置制造显示装置的方法。一种激光束退火装置包括第一激光束发射单元、第一分离单元、第一偏振单元和合并单元。第一激光束发射单元发射第一激光束。第一分离单元将从第一激光束发射单元发射的第一激光束分离成处于第一偏振态的第一主光束和处于第二偏振态的第二主光束。第一偏振单元通过将第一主光束的第一偏振态改变为第二偏振态输出具有第二偏振态并对应于第一主光束的第三主光束。合并单元将第二主光束和第三主光束彼此组合。
激光束退火装置使用制造显示装置方法

[发明专利]通过监视子光束来控制主光束的激光功率的方法-CN03107062.0有效
发明人：近藤多闻;永野尚志 -专利权人：雅马哈株式会社
申请日： 2003-03-05 - 公布日： 2003-09-24 - 主分类号： G11B7/0045 文献下载
摘要：一种沿着光盘的轨迹以一系列凹坑的形式将信息记录在光盘上的方法，该方法执行以下步骤：产生主光束和子光束，同时按照代表信息的记录信号调制主光束和子光束的功率，所述的主光束具有足以形成凹坑的功率，而所述的子光束具有不足以形成凹坑的功率；沿着轨迹照射主光束，形成一系列的凹坑；将子光束照射在主光束未照射到但是毗邻主光束照射到的区域的近旁区域；在主光束形成凹坑的时刻检测从近旁区域反射回的子光束的第一返回信号电平；在非形成凹坑的另一时刻检测从近旁区域反射回的子光束的第二返回信号电平；和按照子光束的第一返回信号电平和第二返回信号电平，在信息记录周期中实时控制主光束的功率。
通过监视光束控制激光功率方法

[发明专利]具有用于功率调制的声光调制器的激光闭合功率回路-CN202080056528.4在审
发明人： M·帕兰杰佩;S·Y·崔;A·罗曼诺夫斯基;M·丹尼尔;N·阿森鲍姆-德雷;J·陈 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2020-08-13 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： H01S3/106 文献下载
摘要：本发明公开一种激光束功率调制系统，其包含接收激光束且基于输入信号将所述激光束分离成主光束及多个衍射光束的声光调制器(AOM)。所述主光束的功率取决于所述输入信号。所述系统还包含：狭缝，其透射所述主光束且捕集所述多个衍射光束；控制器，其至少部分基于指示所述主光束的所述功率或使用所述主光束产生的光束的功率的反馈产生控制信号；及驱动器，其至少部分基于所述控制信号产生所述输入信号
具有用于功率调制声光调制器激光闭合回路

[发明专利]双光束激光焊缝方法以及焊接设备-CN201911412348.0在审
发明人：罗刚 -专利权人：湖北三江航天红阳机电有限公司
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2020-04-21 - 主分类号： B23K26/26 文献下载
摘要：本发明属于激光焊接技术领域，尤其涉及一种双光束激光焊缝方法以及焊接设备。该方法包括：采用双光束对激光焊缝进行焊接，所述双光束为主光束以及辅光束，所述主光束垂直于焊缝，用于对激光焊缝进行焊接，所述辅光束和所述主光束具有夹角，用于对激光焊缝进行结构增强和外表修饰，当所述主光束对激光焊缝进行焊接作业时，所述辅光束可位于所述主光束的前侧，或所述辅光束相对所述主光束进行可编程的运动。本发明可以保证辅光束的增强和修饰作用，以适用于中厚板激光焊缝的结构增强和外观修饰，具有很好的实用性。
光束激光焊缝方法以及焊接设备

[发明专利]光读取头-CN03805974.6无效
发明人：西本雅彦;滨口真一 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2003-03-25 - 公布日： 2005-07-20 - 主分类号： G11B7/09 文献下载
摘要：本发明的光读取头，包含衍射光栅(106)，用以分割自半导体激光(101)射出的光束使其成为主光束、前分光束及后分光束；全息照相元件(107)，用以分割来自光记录媒体(110)的主光束、前分光束及后分光束的反射光束分别使其成为第一至第八主光束、第一至第八前分光束及第一至第八后分光束；主光束检测器，用以接收第一至第八主光束；前分光束检测器，用以接收第一至第八前分光束；及后分光束检测器，用以接收第一及第八后分光束。
读取

[发明专利]激光退火装置及利用该装置的显示设备制造方法-CN201410257667.X有效
发明人：秋秉权;安尚薰;郑炳昊;赵珠完 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2014-06-11 - 公布日： 2018-09-25 - 主分类号： B23K26/064 文献下载
摘要：本发明提供一种激光退火装置及利用该装置的显示设备制造方法，该激光退火装置包括：主激光束发射部，其能够发射主激光束；激光束分束部，其能够将从所述主激光束发射部发射的主激光束分束成多束子主激光束；多个相位调制器，其分别位于被所述激光束分束部分束的多束子主激光束各自的光路上，能够调制通过的激光束的相位；激光束合束部，其将分别通过了多个所述相位调制器的激光束合并。本发明的激光退火装置能够发射均匀的激光束，从而能够实现高质量的非晶硅层退火。
激光退火装置利用显示设备制造方法

[发明专利]具有稳定光束位置的计算断层扫描系统-CN99121961.9无效
发明人：约翰·M·多布斯;鲁文·戴希;詹姆斯·鲍尔斯 -专利权人：模拟技术有限公司
申请日： 1999-10-19 - 公布日： 2000-06-14 - 主分类号： G01N23/04 文献下载
摘要：一种计算断层扫描系统,光束位置检测器放置在主扇形光束周围的边缘并且相对于主检测器固定,以表示主检测器上的光束位置。光束位置检测器的取向使得其对光束移动的最大灵敏度在由于热效应和重力造成的焦点漂移导致的光束移动的方向上,短期焦点漂移由位于主扇形光束之外的辅助光束来检测,并且通过调整主光束的准直仪的位置可以实时地纠正,焦点位置的长期变化由使用来自光束位置检测器的信息重复校对焦点一光束准直仪数据组来纠正。
具有稳定光束位置计算断层扫描系统

[发明专利]产生超短脉冲的方法-CN201980037087.0在审
发明人：迪米特里奥斯·帕帕多普洛斯;泽维尔·德伦;弗里德里克·德鲁恩 -专利权人：巴黎综合理工学院;法国国家科学研究中心;巴黎萨克雷大学
申请日： 2019-04-19 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： H01S3/00 文献下载
摘要：一种产生超短脉冲(20)的方法，其中：‑引导具有超短脉冲(14)的主光束(17)和至少一个从光束(18)穿过光栅材料(11)，光栅材料(11)上游的从光束(18)的强度低于光栅材料(11)上游的主光束(17)的强度，选择光栅材料(11)和主光束(17)的脉冲(14)，以便当主光束(17)穿过光栅材料(11)时引起克尔效应，当从光束(18)穿过光栅材料(11)时，克尔效应产生与主光束(17)的脉冲(14)有关的从光束(18)的相位调制；以及‑使用附加光学器件将从光束(18)的相位调制转换成其幅度的调制，以便在光栅材料(11)下游产生具有超短脉冲(20)的从光束(18)。
产生超短脉冲方法

[发明专利]光头装置及光信息处理装置-CN200680014781.3有效
发明人：佐野晃正;金马庆明;门胁慎一 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2006-04-24 - 公布日： 2008-04-30 - 主分类号： G11B7/135 文献下载
摘要：一种光头装置，具备分岔部，该分岔部将由光记录介质反射的光束分岔。分岔部，具有：第1干涉部分透过的第1主区域、第2干涉部分透过的第2主区域、以及第1干涉部分透过的比例低于第1主区域而且第2干涉部分透过的比例低于第2主区域的第1及第2子区域。分岔部，将被反射的光束，分岔成：透过第1主区域的第1主光束、透过第2主区域的第2主光束、透过第1子区域的第1子光束、以及透过第2子区域的第2子光束。分岔部还具备替换部，该替换部替换第1子光束的一部分与第2子光束的一部分。
光头装置信息处理

[发明专利]半导体激光模块-CN201480074880.5有效
发明人：渡边明佳;黑坂刚孝;广瀬和义;杉山贵浩;野田进 -专利权人：国立大学法人京都大学;浜松光子学株式会社
申请日： 2014-11-10 - 公布日： 2018-11-23 - 主分类号： H01S5/18 文献下载
摘要：本发明涉及半导体激光模块，具备能够射出主光束和副光束的面发光激光元件、能够检测副光束的光强度的监测用光检测元件，面发光激光元件是PCSEL，主光束和副光束被射出至面发光激光元件的上方，仅以预先确定的角度互相倾斜，相对于面发光激光元件的驱动电流值的主光束的峰值光强度以及副光束的峰值光强度的各个的变动互相相关。因此，如果使用表示副光束的峰值光强度的监测用光检测元件的输出的话，则能够推定主光束的峰值光强度。
半导体激光模块

[发明专利]颗粒度检测装置及其检测方法、光刻机-CN202110455084.8在审
发明人：申永强;杨晓青;韩雪山 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2021-04-26 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种颗粒度检测装置及其检测方法、光刻机，所述颗粒度检测装置包括照明单元和探测单元，所述照明单元用于提供主检测光束和辅助检测光束，所述主检测光束和所述辅助检测光束经待检测结构散射后进入所述探测单元，以通过所述主检测光束和所述辅助检测光束检测所述待检测结构的颗粒度，即通过所述主检测光束与所述辅助检测光束相结合对所述待检测结构的颗粒度进行检测，由此可通过所述辅助检测光束弥补主检测光束检测时的缺陷，从而解决因颗粒的尺寸大小
颗粒检测装置及其方法光刻

[发明专利]光学检拾器、光学记录和/或再现设备及兼容跟踪方法-CN200410055053.X有效
发明人：成平庸 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2004-04-14 - 公布日： 2005-02-02 - 主分类号： G11B7/09 文献下载
摘要：该光学记录和/或再现设备将来自光源的光分成主光束和四个或更多个关于主光束对称的辅光束，然后将其发射到光学数据存储介质上，其中四个或多个辅光束包括位置靠近主光束的两个第一辅光束和位置远离主光束的两个第二辅光束，使用主光束和第一辅光束对的检测信号以及主光束和第二辅光束对的检测信号通过差动推挽(DPP)方法分别对±R/RW和RAM类型的光学数据存储介质检测跟踪误差信号。
光学检拾器记录再现设备兼容跟踪方法

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