[发明专利]用于光致抗蚀剂的交联剂及含该交联剂的光致抗蚀剂组合物无效
| 申请号： | 99125856.8 | 申请日： | 1999-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN1163796C | 公开（公告）日： | 2004-08-25 |
| 发明（设计）人： | 郑载吕;孙根圭;金明洙;金亨基;金炯秀;白基镐;金珍秀 | 申请（专利权）人： | 现代电子产业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 林潮;王维玉 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及用于光致抗蚀剂组合物的交联剂，该光致抗蚀剂组合物适用于使用KrF(248nm)，ArF(193nm)，电子束，离子束或EUV光源的照相平板印刷法中。按照本发明，优选的交联剂含有(i)由下列化学分子式1表示的化合物和/或(ii)选自由丙烯酸，甲基丙烯酸和马来酸酐所组成的组中的一种或多种化合物的一种共聚物。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光致抗蚀剂 交联剂 组合 | ||
【主权项】：
1.一种负光致抗蚀剂组合物，该组合物含有(i)至少一种选自由下列化学分子式1表示的单体、其均聚物、其共聚物和其混合物组成的组中的一种的交联剂，<化学分子式1>![]()
其中，R1和R2分别代表直链或支链的非必须地包含一个酯基、酮基、羧基或缩醛基的C1-10烷基，或直链或支链的包含至少一个羟基和非必须地包含一个酯基、酮基、羧基或缩醛基的C1-10烷基；R3代表氢或甲基；(ii)一种光致抗蚀剂聚合物，其在酸存在下通过所述交联剂交联，其中的光致抗蚀剂聚合物含有羟基；(iii)一种光酸发生剂和(iv)一种有机溶剂。
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