[发明专利]半导体装置及其制造方法无效

专利信息
申请号: 97180622.5 申请日: 1997-12-08
公开(公告)号: CN1077050C 公开(公告)日: 2002-01-02
发明(设计)人: 冈田浩治 申请(专利权)人: 罗姆股份有限公司
主分类号: B42D15/00 分类号: B42D15/00;G06K19/07
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 任永武
地址: 日本京都*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的非接触式IC卡(100)具有多张线圈片(11、12、…1n),在各线圈片(11、12、…1n)的表面上分别形成线圈状图形的导电层(L1、L2、…Ln),通过使线圈片(11、12、…1n)重叠就形成一个天线线圈(L),在IC卡(100)的制造方法中,使带状线圈片(110、120、130、…)在长度方向上具有间隔地排列形成许多线圈状图形的导电层(L1、L2、L3、…)及在长度方向上具有间隔地排列形成许多送料孔(110b、120b、130b、…),用具有与送料孔(110b、120h、130b…)嵌合的凸起的滚筒(31)将带状线圈片(110、120、130、…)拉出。$#!
搜索关键词: 半导体 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种IC卡装置,其特征在于,包括:具有围住电子元件(4)那样形成的贯通孔(1a)、并以围住该贯通孔的状态形成线圈状图形的第1导电层(L2)的第1线圈片(12);及具有围住电子元件(4)那样形成的贯通孔(1a)、并以围住该贯通孔的状态形成线圈状图形的第2导电层(L1)、且重叠在所述第1线圈片(12)上的第2线圈片(11)。
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