[发明专利]荫罩的图形印相版的制造方法无效
| 申请号： | 92114183.1 | 申请日： | 1990-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN1072512A | 公开（公告）日： | 1993-05-26 |
| 发明（设计）人： | 大竹康久;曲木安志;山崎光明;佐合诚司;田中裕 | 申请（专利权）人： | 东芝株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;H01J29/07 |
| 代理公司： | 上海专利事务所 | 代理人： | 沈昭坤 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种荫罩的图形印相版的制造方法，其特征在于它包括，把相当于荫罩的有效领域内开孔部的部分是不透光的图形原版密合到在两面上具有未曝光的乳胶层的光透过板上然后进行曝光的曝光工序；在所述乳胶层上形成转印图形的显影工序；腐蚀除去所述转印图形的不透孔部的腐蚀工序；用于把残存于所述光透过板上的乳胶层做成不透光层的曝光显影工序；使所述不透光层定影的定影工序。 | ||
| 搜索关键词： | 图形 印相版 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种在把荫罩的图形印相到在荫罩材料两主面上形成的感光膜上的曝光工序中所使用的印相版的制造方法，其特征在于它包括，把相当于荫罩的有效领域内开孔部的部分是不透光的图形原版密合到在两面上具有末曝光的乳胶层的光透过板上然后进行曝光的曝光工序；在所述乳胶层上形成转印图形的显影工序；腐蚀除去所述转印图形的不透孔部的腐蚀工序；用于把残存于所述光透过板上的乳胶层做成不透光层的曝光显影工序；使所述不透光层定影的定影工序。
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