[发明专利]制作单层或多层电路图形的方法无效
| 申请号: | 92112076.1 | 申请日: | 1992-09-30 |
| 公开(公告)号: | CN1032614C | 公开(公告)日: | 1996-08-21 |
| 发明(设计)人: | J·J·费尔滕;S·H·马 | 申请(专利权)人: | 纳幕尔杜邦公司 |
| 主分类号: | H01L27/01 | 分类号: | H01L27/01;H01L49/02;H05K3/10;H05K3/12 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 吴大建 |
| 地址: | 美国特*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 在有机聚合物层中制作图形的方法,其步骤包括在基片上涂布无图形的第一层,包含酸值为20-600的固体酸性有机聚合物在第一种增塑剂的固体分散体;在第一层上涂布第二图形层,包含有机碱溶于挥发性溶剂而形成的溶液;加热该图形层以除去挥发性溶剂并使第二层的增塑剂和有机碱扩散进入位于下部的酸性聚合物层区域;和用水溶液洗涤各层以使支承图形区域的酸性聚合物增溶并使增溶的聚合物和增塑剂从该区域中除去。 | ||
| 搜索关键词: | 制作 单层 多层 电路 图形 方法 | ||
【主权项】:
1、制作单层或多层电路图形的方法,其中所括下列顺序步骤:A、在一基片上涂布一个无图形的第一层,包含酸值为20-600的固体酸性有机聚合物在第一种增塑剂中的固体分散体;B、在该无图形的第一层上涂布一个有图形的第二层,包含有机碱和挥发性溶剂的溶液;C、加热有图形的第二层使挥发性溶剂从该层中除去并使有机碱扩散进入位于下部的第一层区域,从而使位于下部的第一层区域中的酸性聚合物通过与该有机碱的反应而变成增溶状态;D、用PH为5-8.5的水溶液洗涤这些层以除去这些层的有图形的区域中的增塑剂和增溶的酸性聚合物。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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