[其他]材料的沉积无效
| 申请号： | 86102741 | 申请日： | 1986-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN86102741A | 公开（公告）日： | 1987-10-07 |
| 发明（设计）人： | 佐尔丹·基斯 | 申请（专利权）人： | 克朗纳公司 |
| 主分类号： | C23C16/54 | 分类号： | C23C16/54;C23C16/22 |
| 代理公司： | 中国专利代理有限公司 | 代理人： | 肖春京,杜有文 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 通过一真空系统用来连续地在材料上沉积的装置和方法。所提供的盒式载体用于双衬底和激励电极。减少系统的污染和所加涂层的混合掺杂。 | ||
| 搜索关键词： | 材料 沉积 | ||
【主权项】：
1、一种用于材料沉积的盒式载体，其特征包括；多个侧壁，它含有一个隔离的区间，多个端壁，它与所述的侧壁相联结，一个衬底，它位于所述的载体中，靠在一个上述的侧壁上，一种装置，它用于将气体混合物引入到上述的区间，以允许来源于气体混合物的沉积物沉积到上述的衬底上。一种装置，它用于从所述的区间中排出所述的气体混合物。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
