[实用新型]一种反应腔组件及等离子体气相沉积系统有效

专利信息
申请号: 202320646506.4 申请日: 2023-03-28
公开(公告)号: CN219568050U 公开(公告)日: 2023-08-22
发明(设计)人: 黄春林;陈森林;李俊宏;李东亚 申请(专利权)人: 成都沃特塞恩电子技术有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/511;B01D49/00
代理公司: 北京卓恒知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11394 代理人: 孔鹏
地址: 610095 四川省成都市高*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型提供了一种反应腔组件及等离子体气相沉积系统,属于微波系统领域。上述系统包括机架及上述反应腔组件,反应腔组件的内腔中设置有隔离板,通过隔离板上设置有多孔陶瓷对腔体中的粉尘进行吸附,从而降低反应腔中的粉尘含量。使用时,抽气泵设置在抽气管的出气口,其通过抽气管中产生负压使得反应腔内的气体通过多孔陶瓷进入到抽气管中,并最终被排出。而多孔陶瓷能够对气流中的粉尘进行有效吸附,从而降低反应腔中的粉尘含量;进而能够确保反应腔中的反应能够正常进行;进而提高了整体工作效率。
搜索关键词: 一种 反应 组件 等离子体 沉积 系统
【主权项】:
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