[实用新型]一种反应腔组件及等离子体气相沉积系统

权利要求书

1.一种反应腔组件，其特征在于，包括：

腔体；

隔离板，所述隔离板与所述腔体密封连接；所述隔离板上设置有至少一组安装孔，所述至少一组安装孔中均设置有灰尘吸附物，所述灰尘吸附物用于吸附所述腔体中的粉尘；

抽气管，所述抽气管与所述隔离板直接或间接连接，并与所述至少一组安装孔连通。

2.根据权利要求1所述的反应腔组件，其特征在于：

所述隔离板上设置有多组安装孔，每一组所述安装孔围绕所述隔离板的中心呈圆周分布，所述多组安装孔分布于不同的圆周；

所述反应腔组件包括多个所述抽气管，多个所述抽气管依次套设，相邻的抽气管之间以及最内层抽气管的内腔形成多个气流通道；

所述多个气流通道分别与所述多组安装孔连通；

所述反应腔组件还包括多个传感器及多个阀门，所述多个传感器分别用于检测每个气流通道中的粉尘含量，所述多个阀门分别用于控制所述气流通道的关闭及开启。

3.根据权利要求2所述的反应腔组件，其特征在于：

每个所述抽气管下端均设置有环形密封板，每个所述抽气管一侧均设置有输送管，所述输送管与所述抽气管连通。

4.根据权利要求3所述的反应腔组件，其特征在于：

所述多个传感器和所述多个阀门分别设置在对应的输送管中。

5.根据权利要求1所述的一种反应腔组件，其特征在于：

所述灰尘吸附可拆卸地安装在所述安装孔中。

6.根据权利要求1-5任一项所述的反应腔组件，其特征在于：

所述安装孔为台阶孔，包括同轴设置的大径孔和小径孔，所述大径孔相对于所述小径孔更靠近所述腔体的内腔；所述灰尘吸附物设置在所述大径孔中。

7.根据权利要求1所述的反应腔组件，其特征在于：所述灰尘吸附物为多孔陶瓷。

8.一种等离子体气相沉积系统，其特征在于，所述等离子体气相沉积系统包括机架及权利要求1-7任一项所述的反应腔组件，所述腔体与所述机架连接。

9.根据权利要求8所述的等离子体气相沉积系统，其特征在于：还包括控制器，所述控制器与每个所述气流通道中的传感器电连接，并能够根据所述传感器的信号控制对应的阀门开关。